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龍圖騰網獲悉大連理工大學申請的專利一種碳化硅CMP精拋拋光液及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120173514B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510212312.7，技術領域涉及：C09G1/02；該發明授權一種碳化硅CMP精拋拋光液及其制備方法是由高尚;董志剛;宋鑫;鄒逸然;康仁科設計研發完成，并于2025-02-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種碳化硅CMP精拋拋光液及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種碳化硅CMP精拋拋光液及其制備方法，成分包括氧化硅磨料、催化劑、催化劑活化劑、分散劑、氧化劑、pH調節劑和去離子水，pH為8.5～11.0；各組分按重量百分比如下：氧化硅磨料：5wt.％～20wt.％、催化劑：1wt.％～5wt.％、催化劑活化劑：0.1wt.％～2wt.％、分散劑：0.1wt.％～1wt.％、氧化劑：0.5wt.％～5wt.％、pH調節劑：0.1wt.％～0.5wt.％，其余為去離子水。本發明制備的拋光液具有更高的加工效率和更好的表面質量，其組分簡單，制備容易，拋光過程中不易結晶，不易起泡，對機臺無腐蝕作用，經濟效益好，易存放，可循環使用，使用完畢方便清理，具有良好的工藝性能，適用于碳化硅晶圓襯底表面的亞納米級拋光。

本發明授權一種碳化硅CMP精拋拋光液及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種碳化硅CMP精拋拋光液，其特征在于，成分包括二氧化硅磨料、催化劑、催化劑活化劑、分散劑、氧化劑、pH調節劑和去離子水，pH為8.5~11.0；各組分按重量百分比如下：二氧化硅磨料：5wt.%~20wt.%、催化劑：1wt.%~5wt.%、催化劑活化劑：0.1wt.%~2wt.%、分散劑：0.1wt.%~1wt.%、氧化劑：0.5wt.%~5wt.%、pH調節劑：0.1wt.%~0.5wt.%，其余為去離子水； 所述催化劑為釩酸鈣、釩酸銨、偏釩酸鈉、釩酸三鉀、釩酸銨鈉、正釩酸鈉、釩酸鋰、釩酸鉛、釩酸錳中的一種或幾種的混合； 所述催化劑活化劑為五氧化二鈮、二氧化鈮、草酸鈮、鈮酸鈉、鈮酸鉀、五氯化鈮、氫氧化鈮、鈮酸銨草酸鹽水合物、溴化鈮、鈮酸銅、鈮酸鋰中的一種或幾種的混合； 所述分散劑為乙醇、六偏磷酸鈉、果糖分子、十六烷甲基溴化銨、檸檬酸、聚乙烯吡咯烷酮PVP、聚丙烯酸銨和聚乙烯亞胺PEI中的一種或幾種的混合； 所述氧化劑為雙氧水。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人大連理工大學，其通訊地址為：116024 遼寧省大連市高新園區凌工路2號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。