杭州納境科技有限公司邢圓圓獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉杭州納境科技有限公司申請的專利基于光束整形的超表面實現方法、裝置、設備及介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120276151B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510777414.3，技術領域涉及：G02B27/00；該發明授權基于光束整形的超表面實現方法、裝置、設備及介質是由邢圓圓;姚建云;李星儀設計研發完成，并于2025-06-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于光束整形的超表面實現方法、裝置、設備及介質在說明書摘要公布了：本發明公開了基于光束整形的超表面實現方法、裝置、設備及介質。該方法包括：獲取入射至超表面器件的陣列光源的光源參數；根據光源參數計算超表面器件的第一相位的初始焦距并對第一相位分布進行優化；根據光源參數和初始焦距計算第一相位作用下的孔間角譜差和單孔所占角譜差；根據孔間角譜差和單孔所占角譜差計算超表面器件的第二相位的角譜分布后再采用加權角譜分量的方式優化超表面器件的第二相位分布。基于此，在優化后第一相位分布和第二相位分布的共同作用下，對陣列光源的入射光進行光束整形，可以形成高截止性的線激光或勻化光斑的投影效果。
本發明授權基于光束整形的超表面實現方法、裝置、設備及介質在權利要求書中公布了：1.一種基于光束整形的超表面實現方法，其特征在于，包括： 獲取入射至超表面器件的陣列光源的光源參數； 根據所述光源參數計算所述超表面器件的第一相位的初始焦距； 根據設定的目標焦距和調制傳遞函數對所述第一相位進行優化以確認第一相位分布； 根據所述光源參數和初始焦距計算所述第一相位作用下的孔間角譜差和單孔所占角譜差； 根據所述孔間角譜差和單孔所占角譜差計算所述超表面器件的第二相位的角譜分布； 根據所述第二相位的角譜分布和優化后的所述第一相位分布，對所述陣列光源的入射光進行光束整形以形成線激光投影效果。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人杭州納境科技有限公司，其通訊地址為：310000 浙江省杭州市西湖區天目山路181號天際大廈1005-2；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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