沃特世科技公司J·F·希爾獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉沃特世科技公司申請的專利用于確定色譜系統的駐留體積的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114270151B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080059055.3,技術領域涉及:G01F22/02;該發明授權用于確定色譜系統的駐留體積的方法是由J·F·希爾;M·吉拉;A·塔拉夫德;C·德斯加丁斯設計研發完成,并于2020-08-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于確定色譜系統的駐留體積的方法在說明書摘要公布了:本發明描述了一種用于確定液相色譜系統的駐留體積的方法和一種可確定系統駐留體積的液相色譜系統。該方法包括將第一溶劑的流與第二溶劑的流混合以形成溶劑混合物。第一溶劑和第二溶劑的流分別減少和增大以產生梯度組成。測量液相色譜系統的系統壓力以確定壓力跡線,壓力跡線被定義為作為時間的函數的所測量的系統壓力。根據在混合位置處的梯度組成與壓力跡線之間確定的時間延遲來確定系統的駐留體積。可用具有色譜柱或用來替代色譜柱的流量限制器的液相色譜系統執行該方法。
本發明授權用于確定色譜系統的駐留體積的方法在權利要求書中公布了:1.一種用于確定液相色譜系統的駐留體積的方法,包括: 在混合位置處混合第一溶劑的流和第二溶劑的流以在液相色譜系統的系統流中產生溶劑混合物; 在梯度持續時間內減小所述第一溶劑的所述流并增大所述第二溶劑的所述流以產生所述溶劑混合物的梯度組成; 測量所述液相色譜系統的系統壓力以確定壓力跡線,所述壓力跡線被定義為作為時間的函數的所測量的系統壓力;以及 根據在所述混合位置處的所述梯度組成與所述壓力跡線之間確定的時間延遲來確定所述液相色譜系統的駐留體積。
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