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龍圖騰網(wǎng)獲悉西安炬光科技股份有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利光學(xué)元件涂膠區(qū)域的最小面積確定方法及光學(xué)元件獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116777978B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202310745445.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T7/62；該發(fā)明授權(quán)光學(xué)元件涂膠區(qū)域的最小面積確定方法及光學(xué)元件是由郝亞龍;劉鑫;孫俊;張宏偉設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-06-21向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本光學(xué)元件涂膠區(qū)域的最小面積確定方法及光學(xué)元件在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本申請(qǐng)實(shí)施例涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種光學(xué)元件涂膠區(qū)域的最小面積確定方法、光學(xué)元件、激光發(fā)射裝置、計(jì)算設(shè)備及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，該方法包括：獲取光學(xué)元件涂膠區(qū)域中被水汽滲透區(qū)域的面積S1；確定加速因子AFTH；根據(jù)光學(xué)元件涂膠區(qū)域中被水汽滲透區(qū)域的面積S1和加速因子AFTH，確定在目標(biāo)工作場(chǎng)景下光學(xué)元件涂膠區(qū)域中被水汽滲透區(qū)域的面積S2；基于光學(xué)元件涂膠區(qū)域中未被水汽滲透區(qū)域的膠水結(jié)合力F滿足機(jī)械沖擊后膠層不脫落，確定F≥sτ＝ma；根據(jù)s＝S0?S2，m＝S0Dρ，確定S0?S2τ＝S0Dρa(bǔ)；基于S0?S2τ＝S0Dρa(bǔ)，確定S0＝S2ττ?Dρa(bǔ)＝[S1·AFTH·TT0·τ]τ?Dρa(bǔ)；確定在目標(biāo)工作場(chǎng)景下光學(xué)元件涂膠區(qū)域的最小面積S≥S0。通過(guò)上述方式，本申請(qǐng)實(shí)施例解決了膠水成本高，存在資源浪費(fèi)的問(wèn)題。

本發(fā)明授權(quán)光學(xué)元件涂膠區(qū)域的最小面積確定方法及光學(xué)元件在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種光學(xué)元件涂膠區(qū)域的最小面積確定方法，其特征在于，所述方法包括： 獲取在預(yù)定溫度Tu和預(yù)定濕度RHu條件下，經(jīng)過(guò)預(yù)定時(shí)長(zhǎng)T0后，所述光學(xué)元件涂膠區(qū)域中被水汽滲透區(qū)域的面積S1； 根據(jù)哈爾伯格-佩克模型，確定加速因子AFTH； 根據(jù)所述光學(xué)元件涂膠區(qū)域中被水汽滲透區(qū)域的面積S1和所述加速因子AFTH，確定在目標(biāo)工作場(chǎng)景下所述光學(xué)元件涂膠區(qū)域中被水汽滲透區(qū)域的面積S2，具體如下： S2＝S1·AFTH·TT0，其中，T為在所述目標(biāo)工作場(chǎng)景下所述光學(xué)元件的工作時(shí)長(zhǎng)； 基于光學(xué)元件涂膠區(qū)域中未被水汽滲透區(qū)域的膠水結(jié)合力F滿足機(jī)械沖擊后膠層不脫落，確定F≥sτ＝ma，其中，s為在所述目標(biāo)工作場(chǎng)景下所述光學(xué)元件涂膠區(qū)域中未被水汽滲透區(qū)域的面積，τ為膠層剪切強(qiáng)度，m為膠層質(zhì)量，a為機(jī)械沖擊加速度； 基于sτ＝ma，根據(jù)s＝S0-S2，m＝S0Dρ，確定S0-S2τ＝S0Dρa(bǔ)，其中，S0為在所述目標(biāo)工作場(chǎng)景下所述光學(xué)元件涂膠區(qū)域的所需面積，D為在所述目標(biāo)工作場(chǎng)景下所述光學(xué)元件涂膠區(qū)域的膠層厚度，ρ為所述光學(xué)元件涂膠區(qū)域的膠層密度； 基于S0-S2τ＝S0Dρa(bǔ)，確定S0＝S2ττ-Dρa(bǔ)＝[S1·AFTH·TT0·τ]τ-Dρa(bǔ)； 確定在所述目標(biāo)工作場(chǎng)景下所述光學(xué)元件涂膠區(qū)域的最小面積S≥S0。

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