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龍圖騰網(wǎng)獲悉清華大學(xué)申請(qǐng)的專(zhuān)利一種薄層石墨烯制備裝置和方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116902969B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202311061717.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C01B32/184；該發(fā)明授權(quán)一種薄層石墨烯制備裝置和方法是由騫偉中;崔超婕;李博凡;于翔設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-08-22向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本一種薄層石墨烯制備裝置和方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明提供一種薄層石墨烯制備裝置和方法，該裝置包括高溫熔融金屬池和氣體噴射裝置，該方法利用低溫氣體射流的方式，借助氣體噴射裝置在高溫熔融金屬池的液態(tài)熔融金屬中形成具有一定高度的氣柱，使高溫熔融金屬與氣態(tài)烴類(lèi)反應(yīng)生成的裂解產(chǎn)物金屬碳化物跟氣柱相接觸，低溫氣體射流制造的氣柱使石墨烯獲得析出的條件和空間。這比將高溫熔融金屬引出進(jìn)行冷卻再返回的裝置簡(jiǎn)單且更加安全，可以節(jié)省成本30％?50％，所得產(chǎn)品比表面積大，結(jié)晶度高，層數(shù)少1?3層，且制備成本低，過(guò)程可以連續(xù)操作；并且，由于高速氣體射流，在熔融金屬池中形成了氣柱區(qū)，同時(shí)可制備具有大的長(zhǎng)徑比的石墨烯納米帶。

本發(fā)明授權(quán)一種薄層石墨烯制備裝置和方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種薄層石墨烯制備裝置，其特征在于，所述裝置包括： 高溫熔融金屬池，所述高溫熔融金屬池中盛放有液態(tài)熔融金屬，所述高溫熔融金屬池被所述液態(tài)熔融金屬的液面分為液相區(qū)和氣相區(qū)，所述液相區(qū)設(shè)置有原料進(jìn)口；所述高溫熔融金屬池用于將通過(guò)原料進(jìn)口進(jìn)入所述液相區(qū)的氣態(tài)烴類(lèi)在液態(tài)熔融金屬作用下裂解，得到金屬碳化物； 氣體噴射裝置，所述氣體噴射裝置設(shè)置于所述氣相區(qū)，所述氣體噴射裝置包括多個(gè)噴射管，多個(gè)所述噴射管的管口設(shè)置于靠近所述高溫熔融金屬池的液相區(qū)一側(cè)；所述氣體噴射裝置用于將具有一定流速和流量的惰性氣體通過(guò)多個(gè)所述噴射管的管口噴向所述液相區(qū)，在所述液相區(qū)形成多個(gè)寬4-100μm的氣柱，所述金屬碳化物與所述氣柱相接觸，迅速過(guò)冷析出薄層石墨烯； 所述管口距所述液相區(qū)的高度為所述高溫熔融金屬池直徑的0.001-0.1倍。

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