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龍圖騰網獲悉新特能源股份有限公司;內蒙古新特硅材料有限公司申請的專利吸附劑的再生處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117205905B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311270539.4，技術領域涉及：B01J20/34；該發明授權吸附劑的再生處理方法是由高霞;劉興平;蘇國良;馬宇潔;達偉民;薛曾恩設計研發完成，并于2023-09-28向國家知識產權局提交的專利申請。

本吸附劑的再生處理方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種吸附劑的再生處理方法，包括：將待再生的吸附劑置于第一溫度下在第一氛圍環境中進行處理；將在第一溫度下處理的吸附劑置于第二溫度下在第二氛圍環境中進行處理；將在第二溫度下處理的吸附劑置于第三溫度下在第三氛圍環境中進行處理；第一溫度為70?180℃，第二溫度為220?400℃，第三溫度為150?200℃；第一氛圍環境包括氮氣環境或真空環境，第二氛圍環境包括氮氣環境或真空環境，第三氛圍環境包括氧化性氣氛。通過上述方法再生的吸附劑可以吸附三氯氫硅中的B、P、金屬雜質，再生吸附劑的吸附效果好，吸附效率高，可以循環利用，降低成本。

本發明授權吸附劑的再生處理方法在權利要求書中公布了：1.一種三氯氫硅除雜吸附劑的再生處理方法，其特征在于，包括： 將待再生的具有磁性的Fe3O4微粒的吸附劑置于第一溫度下在第一氛圍環境中進行處理； 將在第一溫度下處理的吸附劑置于第二溫度下在第二氛圍環境中進行處理； 將在第二溫度下處理的吸附劑置于第三溫度下在第三氛圍環境中進行處理； 將吸附劑在酸性溶液中進行清洗，用去離子水清洗吸附劑并進行干燥； 其中，所述第一溫度為70-180℃，所述第二溫度為220-400℃，所述第三溫度為150-200℃； 所述第一氛圍環境包括氮氣環境或真空環境，所述第二氛圍環境包括氮氣環境或真空環境，所述第三氛圍環境包括氧化性氣氛； 將待再生的吸附劑置于第一溫度下在第一氛圍環境中進行處理的步驟包括： 將待再生的吸附劑置于第一溫度下在第一氛圍環境中進行處理6-36h； 將在第一溫度下處理的吸附劑置于第二溫度下在第二氛圍環境中進行處理的步驟包括： 將在第一溫度下處理的吸附劑置于第二溫度下在第二氛圍環境中進行處理16-48h； 所述第二氛圍環境為真空環境，將在第二溫度下處理的吸附劑置于第三溫度下在第三氛圍環境中進行處理的步驟包括： 將在第二溫度下處理的吸附劑置于第三溫度下在第三氛圍環境中進行處理6-36h。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人新特能源股份有限公司;內蒙古新特硅材料有限公司，其通訊地址為：831500 新疆維吾爾自治區烏魯木齊市甘泉堡經濟技術開發區（工業園）眾欣街2249號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。