中國科學技術大學梁昊獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學技術大學申請的專利用于質子治療的積分深度劑量曲線測量設備及方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN117826219B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202410011061.1,技術領域涉及:G01T1/02;該發明授權用于質子治療的積分深度劑量曲線測量設備及方法是由梁昊;李雪健;盧曉明設計研發完成,并于2024-01-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于質子治療的積分深度劑量曲線測量設備及方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種用于質子治療的積分深度劑量曲線測量設備及方法,測量設備可以為質子束流測量IDD曲線提供了準確方便的測量方案,它可以方便的連接外置電離室及導軌系統,測量醫用質子束流的IDD曲線,在測量過程中,能夠實時檢測電離室高壓狀態和導軌位置,且模塊化的設計方便了使用人員對設備維護及未來對其中一些模塊的替換升級;而且,測量設備能精確的測量電離室輸出的電流信號,其整體的噪聲在60pA以下,為之后的IDD曲線在位置分辨上的要求提供了精準電離室輸出數據。
本發明授權用于質子治療的積分深度劑量曲線測量設備及方法在權利要求書中公布了:1.一種用于質子治療的積分深度劑量曲線測量設備,其特征在于,包括:前端放大模塊、高壓模塊、ADC采集模塊、通信接口、ARM中央處理模塊以及電機控制驅動模塊;所述前端放大模塊與ADC采集模塊相連,所述ADC采集模塊、高壓模塊及電機控制驅動模塊均分別與ARM中央處理模塊;所述ARM中央處理模塊通過通信接口與外部的計算機相連; 所述ARM中央處理模塊根據計算機下發的命令,通過控制高壓模塊為電離室施加電壓,并通過控制電機控制驅動模塊控制電離室的位置,再通過控制ADC采集模塊采集電離室信號,并傳輸至計算機,由計算機根據接收到的電離室信號完成積分深度劑量曲線測量,包括: 所述ARM中央處理模塊根據計算機下發的初始化命令,進行測量設備初始化; 所述ARM中央處理模塊根據計算機下發的狀態檢測命令,將高壓模塊施加的電壓值以及電機控制驅動模塊通過導軌電機控制的主電離室的位置發送至計算機,用以判斷測量設備是否處于正常工作狀態; 在未加束流的狀態下,所述ARM中央處理模塊根據計算機下發的獲取數據命令,分別測量兩個電離室的本底噪聲,并上傳至計算機;其中,所述分別測量兩個電離室的本底噪聲包括:以固定頻率分別測量兩個電離室電流值,得到兩個電離室各自的本底噪聲值; 在施加指定束流能量下,所述ARM中央處理模塊根據計算機下發的參數設定命令,設定主電離室在水箱中的移動范圍,以及設定導軌電機的移動步長; 所述ARM中央處理模塊根據計算機下發的測量命令,通過電機控制驅動模塊驅動導軌電機帶動主電離室移動在指定位置,并通過兩個ADC采集模塊各自采集對應的電離室信號后上傳至計算機,由所述計算機結合電離室信號與對應的電離室本底噪聲,得到指定束流能量下在指定位置下的積分深度劑量曲線測量結果;通過設定的導軌電機的移動步長,在設定的移動范圍內不同的位置分別進行測量,獲得指定束流能量下,設定的移動范圍內移動步長的積分深度劑量曲線測量結果; 通過施加不同的束流能量,并通過計算機下發參數設定命令與測量命令,最終獲得在不同束流能量下,設定的移動范圍內移動步長的積分深度劑量曲線測量結果。
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