武漢腦鏈科技有限公司劉萬華獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉武漢腦鏈科技有限公司申請的專利一種用于腦電帽電極片涂覆保護層的裝置獲國家實用新型專利權，本實用新型專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN223312371U 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的實用新型授權公告中獲悉：該實用新型的專利申請號/專利號為：202420681371.X，技術領域涉及：B05C13/02；該實用新型一種用于腦電帽電極片涂覆保護層的裝置是由劉萬華;劉文霞設計研發完成，并于2024-04-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種用于腦電帽電極片涂覆保護層的裝置在說明書摘要公布了：本實用新型屬于電極片制備領域，尤其涉及一種用于腦電帽電極片涂覆保護層的裝置，包括主體結構，所述主體結構采用彈性材料制成，所述主體結構上設置有若干凹槽，不同凹槽的尺寸相同或不同，所述凹槽的尺寸與電極片相適應，用于將電極片固定在凹槽內；所述凹槽的深度h為1～5mm，其中，凹槽的深度與電極片的厚度d之差為1～2mm，主體結構上與凹槽對應之處還設置有若干線路間隙，線路間隙與凹槽相連通。本實用新型的加料方法較簡單，效率較高，且成品率較高。
本實用新型一種用于腦電帽電極片涂覆保護層的裝置在權利要求書中公布了：1.一種用于腦電帽電極片涂覆保護層的裝置，包括主體結構，其特征在于，所述主體結構采用彈性材料制成，所述主體結構上設置有若干凹槽，不同凹槽的尺寸相同或不同，所述凹槽的尺寸與電極片相適應，用于將電極片固定在凹槽內； 所述凹槽的深度h為1～5mm，其中，凹槽的深度與電極片的厚度d之差為1～2mm，主體結構上與凹槽對應之處還設置有若干線路間隙，線路間隙與凹槽相連通。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人武漢腦鏈科技有限公司，其通訊地址為：430205 湖北省武漢市東湖新技術開發區高新4路葛洲壩太陽城23號樓601室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
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