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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海車儀田科技有限公司申請的專利一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的外延生長率計(jì)算方法及系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN120470422B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510976309.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F18/241；該發(fā)明授權(quán)一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的外延生長率計(jì)算方法及系統(tǒng)是由張黎明;劉新陽;劉杰;徐秋生設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-07-16向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的外延生長率計(jì)算方法及系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，提供了一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的外延生長率計(jì)算方法及系統(tǒng)，其中方法包括：將不同外延生長工藝下的反射率數(shù)據(jù)進(jìn)行標(biāo)注和預(yù)處理得到原始數(shù)據(jù)集，反射周期數(shù)映射模型根據(jù)原始數(shù)據(jù)集進(jìn)行第一路權(quán)重調(diào)制和驗(yàn)證得到已訓(xùn)練的反射周期數(shù)映射模型，工藝反射?折射模型對原始數(shù)據(jù)集進(jìn)行聚類分析并配置第二路權(quán)重得到已訓(xùn)練的工藝反射?折射模型，經(jīng)過全連接層特征融合后得到預(yù)測模型，將實(shí)際外延生長工藝過程中的待測數(shù)據(jù)集再輸入預(yù)測模型得到預(yù)測干涉周期數(shù)和預(yù)設(shè)折射率進(jìn)而通過外延厚度計(jì)算外延生長率。預(yù)測模型充分考慮工藝參數(shù)變化對折射率的影響，提升了晶圓的外延生長率計(jì)算的準(zhǔn)確性和效率。

本發(fā)明授權(quán)一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的外延生長率計(jì)算方法及系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的外延生長率計(jì)算方法，應(yīng)用于外延生長工藝，其特征在于，包括： 在外延生長工藝過程中，不同波長的檢測光到達(dá)晶圓表面后發(fā)生反射，根據(jù)反射光獲取反射率數(shù)據(jù)，對所述反射率數(shù)據(jù)進(jìn)行標(biāo)注和預(yù)處理，得到原始數(shù)據(jù)集； 基于原始數(shù)據(jù)集對雙路神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到預(yù)測模型；其中，雙路神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型包括反射周期數(shù)映射模型、工藝反射-折射模型與全連接層，反射周期數(shù)映射模型根據(jù)所述原始數(shù)據(jù)集訓(xùn)練和驗(yàn)證以調(diào)整第一路權(quán)重，得到已訓(xùn)練的反射周期數(shù)映射模型，已訓(xùn)練的反射周期數(shù)映射模型用于指示不同反射率對應(yīng)的干涉周期數(shù)；工藝反射-折射模型提取所述原始數(shù)據(jù)集中時(shí)序干涉數(shù)據(jù)的特征；工藝反射-折射模型根據(jù)所述時(shí)序干涉數(shù)據(jù)的特征，對所述原始數(shù)據(jù)集按照反射率進(jìn)行聚類分析，得到多組反射率對應(yīng)的聚類數(shù)據(jù)集，每個(gè)聚類數(shù)據(jù)集包括外延生長工藝參數(shù)和折射率；根據(jù)所述聚類數(shù)據(jù)集中外延生長工藝參數(shù)配置權(quán)重，得到每個(gè)聚類數(shù)據(jù)集中每種外延生長數(shù)據(jù)對應(yīng)的第二路權(quán)重；根據(jù)每組反射率對應(yīng)聚類數(shù)據(jù)集中每個(gè)外延生長工藝參數(shù)對應(yīng)的折射率和第二路權(quán)重，生成已訓(xùn)練的工藝反射-折射模型，以供待測數(shù)據(jù)集輸入預(yù)測模型時(shí)根據(jù)所述待測數(shù)據(jù)集所指示的外延生長工藝得到對應(yīng)反射率的折射率；全連接層對已訓(xùn)練的反射周期數(shù)映射模型和已訓(xùn)練的工藝反射-折射模型進(jìn)行特征融合得到預(yù)測模型，所述預(yù)測模型用于指示不同外延生長工藝下的反射率對應(yīng)的干涉周期數(shù)和折射率； 預(yù)處理待測外延生長過程中的反射率數(shù)據(jù)得到待測數(shù)據(jù)集； 將所述待測數(shù)據(jù)集輸入所述預(yù)測模型，所述預(yù)測模型進(jìn)行計(jì)算，得到預(yù)測干涉周期數(shù)和預(yù)測折射率； 根據(jù)所述預(yù)測干涉周期數(shù)和所述預(yù)測折射率計(jì)算出外延生長工藝過程中的晶圓外延生長率。

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