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          蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司程凱獲國家專利權(quán)

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          龍圖騰網(wǎng)獲悉蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司申請的專利紫外LED及其制作方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN115485862B

          龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202080097534.4,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10H20/816;該發(fā)明授權(quán)紫外LED及其制作方法是由程凱;劉撰設(shè)計研發(fā)完成,并于2020-05-13向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

          紫外LED及其制作方法在說明書摘要公布了:本申請?zhí)峁┝艘环N紫外LED及其制作方法,制作方法中,在電子提供層上形成N型過渡層和或在空穴提供層上形成P型過渡層,電子提供層與空穴提供層的材料都至少包括Al、Ga、N三種元素,N型過渡層與P型過渡層的材料為GaN;在N型過渡層上形成N電極,N型過渡層與N電極之間形成歐姆接觸;在P型過渡層上形成P電極,P型過渡層與P電極之間形成歐姆接觸。相對于在含鋁GaN基材料上直接形成歐姆接觸電極,可以避免退火,以及避免退火過程中的高溫造成電子提供層性能下降,有源層中電子空穴復(fù)合率降低。

          本發(fā)明授權(quán)紫外LED及其制作方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種紫外LED,其特征在于,包括: 電子提供層(11)、空穴提供層(13)以及所述電子提供層(11)與所述空穴提供層(13)之間的有源層(12),所述電子提供層(11)與所述空穴提供層(13)的材料都至少包括Al、Ga、N三種元素;所述電子提供層(11)上具有N型過渡層(141),所述電子提供層(11)與所述N型過渡層(141)之間具有N型漸變材料層(161);所述N型過渡層(141)的材料為GaN;所述N型過渡層(141)上設(shè)置有N電極(151),所述N型過渡層(141)與所述N電極(151)之間形成歐姆接觸,以使所述N電極(151)與所述N型過渡層(141)之間不需退火就能形成低接觸電阻; 所述空穴提供層(13)上具有P型過渡層(142),所述P型過渡層(142)的材料為GaN;所述P型過渡層(142)上設(shè)置有P電極(152),所述P型過渡層(142)與所述P電極(152)之間形成歐姆接觸; 其中,所述空穴提供層(13)與所述P型過渡層(142)之間具有P型漸變材料層(162); 所述N型過渡層(141)為N型離子重?fù)诫sGaN層(141'),和所述P型過渡層(142)為P型離子重?fù)诫sGaN層(142'); 所述P型離子重?fù)诫sGaN層(142')和所述P電極(152)之間具有在所述P型離子重?fù)诫sGaN層(142')上依次疊置的N型漸變材料層(161)和N型離子重?fù)诫sGaN層(141')。

          如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司,其通訊地址為:215123 江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號西北區(qū)20幢517-A室;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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