恩智浦有限公司弗朗西斯科斯·皮特魯斯·韋德索文獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰,真高效! 查專利查商標用IPTOP,全免費!專利年費監控用IP管家,真方便!
龍圖騰網獲悉恩智浦有限公司申請的專利用于MRAM陣列的磁屏蔽結構獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111435704B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010024087.1,技術領域涉及:H10N50/10;該發明授權用于MRAM陣列的磁屏蔽結構是由弗朗西斯科斯·皮特魯斯·韋德索文;安托尼斯·亨德里庫斯·尤立夫·坎菲斯設計研發完成,并于2020-01-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于MRAM陣列的磁屏蔽結構在說明書摘要公布了:提供了一種封裝半導體裝置的實施例,所述封裝半導體裝置包括:半導體管芯,所述半導體管芯具有有源側和相對的背側,所述半導體管芯包括磁阻式隨機存取存儲器MRAM單元陣列,所述MRAM單元陣列形成于所述半導體管芯的所述有源側上的MRAM區域內;以及頂蓋,所述頂蓋包括定位在所述半導體管芯的所述背側上的軟磁材料,其中所述頂蓋包括形成于所述頂蓋的第一主表面中的凹陷,所述第一主表面面對所述半導體管芯的所述背側,并且所述凹陷定位在所述MRAM單元陣列上方。
本發明授權用于MRAM陣列的磁屏蔽結構在權利要求書中公布了:1.一種封裝半導體裝置,其特征在于,包括: 半導體管芯,所述半導體管芯具有有源側和相對的背側,所述半導體管芯包括磁阻式隨機存取存儲器MRAM單元陣列,所述MRAM單元陣列形成于所述半導體管芯的所述有源側上的MRAM區域內;以及 頂蓋,所述頂蓋包括定位在所述半導體管芯的所述背側上的軟磁材料,其中 所述頂蓋包括形成于所述頂蓋的第一主表面中的凹陷, 所述第一主表面面對所述半導體管芯的所述背側,并且 所述凹陷定位在所述MRAM單元陣列上; 所述半導體管芯另外包括有源電路,所述有源電路形成于所述有源側上的電路區域內,所述有源電路側向鄰近于所述MRAM單元陣列, 所述半導體管芯的第一部分在所述電路區域中具有第一厚度; 所述半導體管芯的第二部分在所述MRAM區域中具有第二厚度,所述第二厚度大于所述第一厚度,所述第二部分形成堆疊,所述堆疊被定位成豎直鄰近于所述MRAM單元陣列,并且 所述凹陷的尺寸被設置成配合在所述堆疊上并且圍繞所述堆疊。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人恩智浦有限公司,其通訊地址為:荷蘭埃因霍溫高科技園區60郵編:5656AG;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息,力求客觀、公正,但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解,僅供參考使用,不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。