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龍圖騰網(wǎng)獲悉麥克德米德樂思公司申請的專利用于制造鎳互連件的組合物和方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113366156B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080009400.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25D7/12；該發(fā)明授權(quán)用于制造鎳互連件的組合物和方法是由埃里克·雅各布森;孫紹鵬;埃利·納賈爾;T·理查德森;文森特·帕內(nèi)卡西奧;邵文波;凱爾·惠滕設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-01-31向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于制造鎳互連件的組合物和方法在說明書摘要公布了：一種用于通路填充或勢壘鎳互連件制造的鎳電沉積組合物，該鎳電沉積組合物包含：a鎳離子源；b一種或多種極化添加劑；和c一種或多種去極化添加劑。該鎳電沉積組合物可包含各種添加劑，包括合適的酸、表面活性劑、緩沖劑和或應(yīng)力調(diào)節(jié)劑，以產(chǎn)生通路和溝槽的自下而上填充。

本發(fā)明授權(quán)用于制造鎳互連件的組合物和方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于在微電子器件中用鎳或從由NiCo、NiMo和NiCoFe組成的組中選出的鎳合金填充通路和或溝槽的鎳電沉積組合物，所述鎳電沉積組合物包含： a鎳離子源； b100至500ppm的一種或多種極化添加劑，其中所述一種或多種極化添加劑包含取代、多取代或未取代的雜環(huán)甜菜堿、或烯醇或它們的組合； c100至750mgL的一種或多種去極化添加劑，其中所述一種或多種去極化添加劑包含硫酰亞胺、磺酸鹽、硫酸鹽或它們的組合；以及 d50至100gL的應(yīng)力調(diào)節(jié)劑，其中所述應(yīng)力調(diào)節(jié)劑選自由以下項(xiàng)組成的組：氯化物、溴化物、磺酸鹽、水楊酸鹽、磺基水楊酸鹽和磺酰亞胺； 其中所述組合物不含硼酸，并且 其中所述組合物被構(gòu)造成通過所述通路和或溝槽的自下而上的填充從而完全填充微電子器件中的通路和或溝槽。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人麥克德米德樂思公司，其通訊地址為：美國康涅狄格州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。