ESSENLIX 公司李星獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ESSENLIX 公司申請的專利基于成像的測定的有效訓練和準確度改進獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113966522B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080031944.9，技術領域涉及：G06V10/82；該發明授權基于成像的測定的有效訓練和準確度改進是由李星;周蕪;斯蒂芬·Y·周;丁惟;戚驥設計研發完成，并于2020-11-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于成像的測定的有效訓練和準確度改進在說明書摘要公布了：本公開涉及改進基于圖像的測定的準確度的裝置、設備和方法，其使用與理想成像系統相比具有不確定性或偏差缺陷的成像系統。本發明的一個方面是在樣品保持器上添加監測標記，其中監測標記的幾何和或光學特性中的至少一個是預定且已知的，并且拍攝帶有監測標記的樣品圖像，并且使用具有監測標記的圖像來訓練機器學習模型。
本發明授權基于成像的測定的有效訓練和準確度改進在權利要求書中公布了：1.一種針對基于圖像的測定的機器學習模型的訓練方法， 其中所述測定在測試期間由低質量成像系統成像，包含： 使第一樣品在第一樣品保持器的成像區域上形成薄層，其中所述第一樣品保持器在所述成像區域上包含一個或多個監測標記； 使第二樣品在第二樣品保持器的成像區域上形成薄層，其中所述第二樣品保持器在所述第二樣品保持器的成像區域上包含與在所述第一樣品保持器上包含的一個或多個監測標記相同的一個或多個監測標記； 使用所述低質量成像系統在所述第一樣品保持器的成像區域上對所述第一樣品的第一圖像進行成像； 使用高質量成像系統在所述第二樣品保持器的成像區域上對所述第二樣品的第二圖像進行成像； 使用所述一個或多個監測標記校正所述第一圖像中的缺陷，生成第一校正圖像； 使用所述一個或多個監測標記校正所述第二圖像中的缺陷，如果所述第二圖像具有缺陷，則生成第二校正圖像；以及 使用所述第一校正圖像、所述第二校正圖像和所述一個或多個監測標記來訓練機器學習模型以生成訓練的模型，其中在理想成像系統下成像的所述一個或多個監測標記是第一和第二樣品保持器的一個或多個結構，且所述一個或多個監測標記的幾何特性和光學特性是預定且已知的； 其中低質量成像系統比高質量成像系統包含更多的缺陷。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ESSENLIX 公司，其通訊地址為：美國新澤西州蒙茅斯章克申；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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