東京毅力科創株式會社松浦廣行獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利熱處理方法和熱處理裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112420510B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010794218.4，技術領域涉及：H01L21/324；該發明授權熱處理方法和熱處理裝置是由松浦廣行設計研發完成，并于2020-08-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本熱處理方法和熱處理裝置在說明書摘要公布了：本發明提供熱處理方法和熱處理裝置。本發明的一個方式的熱處理方法包括：在基片上形成膜中氫濃度為5×1019atomscm3以上的非晶硅膜的步驟；和通過對上述基片照射微波，以對上述非晶硅膜進行加熱而從上述非晶硅膜形成多晶硅膜的步驟。本發明能夠形成大粒徑的多晶硅膜。
本發明授權熱處理方法和熱處理裝置在權利要求書中公布了：1.一種熱處理方法，其特征在于，包括： 在基片上形成膜中氫濃度為5×1019atomscm3以上的非晶硅膜的步驟； 利用電阻發熱體的發熱，以比非晶硅膜結晶化的溫度低的第1溫度，對以石英制的處理容器的內部被減壓得低于大氣壓的狀態被收納在其中的所述基片進行加熱的步驟；和 通過對以所述處理容器的內部被減壓得低于大氣壓且利用電阻發熱體的發熱而被加熱了的狀態被收納在所述處理容器的內部的所述基片照射微波，來以第2溫度加熱所述非晶硅膜而從所述非晶硅膜形成多晶硅膜的步驟，其中，所述第2溫度是比所述第1溫度高的所述非晶硅膜結晶化的溫度。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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