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龍圖騰網獲悉富士膠片株式會社申請的專利圖案形成方法、電子器件的制造方法及感光化射線性或感放射線性樹脂組合物獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114945868B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180009570.5，技術領域涉及：G03F7/039；該發明授權圖案形成方法、電子器件的制造方法及感光化射線性或感放射線性樹脂組合物是由吉野文博;楜澤佑真設計研發完成，并于2021-02-16向國家知識產權局提交的專利申請。

本圖案形成方法、電子器件的制造方法及感光化射線性或感放射線性樹脂組合物在說明書摘要公布了：本發明提供一種圖案形成方法、電子器件的制造方法及感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，所述圖案形成方法包括：i由特定的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物形成膜厚700nm以上的感光化射線性或感放射線性膜的工序；ii向上述感光化射線性或感放射線性膜照射波長200nm以下的光化射線或放射線的工序；及iii使用顯影液對被照射上述波長200nm以下的光化射線或放射線的感光化射線性或感放射線性膜進行顯影的工序。

本發明授權圖案形成方法、電子器件的制造方法及感光化射線性或感放射線性樹脂組合物在權利要求書中公布了：1.一種圖案形成方法，其包括： （i）由感光化射線性或感放射線性樹脂組合物形成膜厚700nm以上的感光化射線性或感放射線性膜的工序； （ii）對所述感光化射線性或感放射線性膜照射波長200nm以下的光化射線或放射線的工序；及 （iii）使用顯影液對被所述波長200nm以下的光化射線或放射線照射的感光化射線性或感放射線性膜進行顯影的工序，其中， 所述感光化射線性或感放射線性樹脂組合物含有（A）具有酸分解性基團的聚合物及（B）光產酸劑， 所述（A）聚合物包含具有酸分解性基團的重復單元，所述具有酸分解性基團的重復單元包含由下述通式（AI）表示的重復單元， 所述（A）聚合物進一步包含具有親水基團的重復單元，所述具有親水基團的重復單元包含具有羧基或羥基的重復單元，且包含由下述通式（III）表示的重復單元， 所述（A）聚合物的重均分子量為8000以下， 所述（B）光產酸劑包含三芳基锍化合物、由下述通式（ZI-3）表示的化合物或由下述通式（ZI-4）表示的化合物， 所述三芳基锍化合物的芳基任選分別獨立地具有烷基、環烷基、芳基、烷氧基、鹵原子、羥基或苯硫基作為取代基， 在通式（AI）中， Xa1表示氫原子、鹵原子或1價的有機基團， T表示單鍵或2價的連接基， Rx1～Rx3分別獨立地表示烷基或環烷基， Rx1～Rx3中的任意2個任選鍵合而形成環結構，也任選不形成環結構， 上述通式（III）中， A表示酯鍵或酰胺鍵，其中上述酯鍵為由-COO-表示的基團，上述酰胺鍵為由-CONH-表示的基團， n為由-R0-Z-表示的結構的重復數，并表示0～5的整數， R0表示亞烷基、亞環烷基或其組合，R0存在多個的情況下，分別獨立地表示亞烷基、亞環烷基或其組合， Z表示單鍵、醚鍵、酯鍵、酰胺鍵、氨基甲酸酯鍵或脲鍵，Z存在多個的情況下，分別獨立地表示單鍵、醚鍵、酯鍵、酰胺鍵、氨基甲酸酯鍵或脲鍵， R8表示具有內酯結構或磺內酯結構的1價的有機基團， R7表示氫原子、鹵原子或1價的有機基團， 上述通式（ZI-3）中， R1表示烷基、環烷基、烷氧基、環烷氧基、芳基或烯基， R2及R3分別獨立地表示氫原子、烷基、環烷基、烷氧基、環烷氧基或芳基，R2與R3任選地彼此連接而形成環， R1與R2任選地彼此連接而形成環， RX及Ry分別獨立地表示烷基、環烷基、烯基、芳基、2-氧代烷基、2-氧代環烷基、烷氧基羰基烷基或烷氧基羰基環烷基，RX與Ry任選地彼此連接而形成環，該環結構任選地包含氧原子、氮原子、硫原子、酮基、醚鍵、酯鍵、酰胺鍵， Z-表示陰離子， 通式（ZI-4）中， l表示0～2的整數， r表示0～8的整數， R13表示氫原子、氟原子、羥基、烷基、環烷基、烷氧基或烷氧基羰基， R14表示羥基、烷基、環烷基、烷氧基、烷氧基羰基、烷基羰基、烷基磺酰基或環烷基磺酰基，當存在多個R14時，多個R14任選地彼此相同或不同， R15分別獨立地表示烷基、環烷基或萘基，2個R15任選地彼此鍵合而形成環，當2個R15彼此鍵合而形成環時，該環結構任選地包含氧原子、氮原子、硫原子、酮基、醚鍵、酯鍵、酰胺鍵， X-表示陰離子。

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