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龍圖騰網(wǎng)獲悉中國(guó)科學(xué)院物理研究所申請(qǐng)的專利微納加工系統(tǒng)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114975161B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202110208646.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)微納加工系統(tǒng)是由曹立新;王瑞;黃忠學(xué);陳浩鋒;楊鑫設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-02-24向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本微納加工系統(tǒng)在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種微納加工系統(tǒng)，其包括：化學(xué)試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元以及氣體凈化單元；其中，所述化學(xué)試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元通過(guò)樣品轉(zhuǎn)移通道連通；所述氣體凈化單元與所述化學(xué)試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元通過(guò)氣體循環(huán)通道氣密性連通，以使得所述微納加工系統(tǒng)構(gòu)成氣體循環(huán)回路；所述刻蝕單元包括通過(guò)真空閘板閥密封連通的離子束刻蝕準(zhǔn)備單元和離子束刻蝕單元；所述微納加工系統(tǒng)還包括用于樣品進(jìn)入和離開(kāi)所述微納加工系統(tǒng)的樣品進(jìn)出管道。本發(fā)明的微納加工系統(tǒng)具有成本節(jié)約、易于維護(hù)和操作簡(jiǎn)單的特點(diǎn)，尤其適用于對(duì)氧氣、水汽敏感的材料的微納加工。

本發(fā)明授權(quán)微納加工系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種微納加工系統(tǒng)，其包括： 化學(xué)試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元以及氣體凈化單元；其中， 所述化學(xué)試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元通過(guò)樣品轉(zhuǎn)移通道連通；所述氣體凈化單元與所述化學(xué)試劑密閉單元、紫外曝光密閉單元和刻蝕單元通過(guò)氣體循環(huán)通道氣密性連通，以使得所述微納加工系統(tǒng)構(gòu)成氣體循環(huán)回路；所述刻蝕單元包括通過(guò)真空閘板閥密封連通的離子束刻蝕準(zhǔn)備單元和離子束刻蝕單元； 所述微納加工系統(tǒng)還包括用于樣品進(jìn)入和離開(kāi)所述微納加工系統(tǒng)的樣品進(jìn)出管道； 所述樣品進(jìn)出管道的兩側(cè)設(shè)有密封閥門； 所述樣品轉(zhuǎn)移通道的兩端設(shè)有密封閥門； 所述氣體循環(huán)通道上設(shè)有氧氣含量探頭、水汽含量探頭和氣體壓力探頭； 所述氣體凈化單元包括氣體凈化箱體和置于其內(nèi)的風(fēng)機(jī)、有機(jī)氣體凈化柱和氧水凈化柱。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人中國(guó)科學(xué)院物理研究所，其通訊地址為：100190 北京市海淀區(qū)中關(guān)村南三街8號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。