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龍圖騰網獲悉鋼研納克成都檢測認證有限公司申請的專利一種基于EDXs的多相Ta_xC_1-x全定量分析方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115639234B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211371014.5，技術領域涉及：G01N23/223；該發明授權一種基于EDXs的多相Ta_xC_1-x全定量分析方法是由魏家軒;劉璞;陳崢;陳豪;陳國華設計研發完成，并于2022-11-03向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于EDXs的多相Ta_xC_1-x全定量分析方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種基于EDXs的多相TaxC1?x全定量分析方法，屬于金屬化合物全定量分析技術領域，包括：準備TaC化合物樣品；采集TaC化合物樣品的實際測量光譜；對實際測量光譜進行分析，得到TaLCK和或TaMCK的值的真實樣本；改變X射線光譜儀的探針打入TaC化合物樣品的位置，使TaC化合物樣品的厚度在100nm～1000nm之間變化，重復步驟S02、S03，并制作TaLCK與TaC化合物樣品厚度，和或TaMCK與TaC化合物樣品厚度的第一關系曲線圖；根據第一關系曲線圖，確定TaLCK和或TaMCK的值趨向平穩時TaC化合物樣品的臨界厚度D1；建立模擬光譜庫，選擇不小于臨界厚度D1的一個第一真實樣本，將第一真實樣本對應的第一實際測量光譜在模擬光譜庫內對比，對應的Ta和C含量為TaC化合物樣品中的真實Ta和C含量。

本發明授權一種基于EDXs的多相Ta_xC_1-x全定量分析方法在權利要求書中公布了：1.一種基于EDXs的多相TaxC1-x全定量分析方法，其特征在于，包括以下步驟： S01、準備TaC化合物樣品，所述TaC化合物樣品包括襯底和目標體，所述襯底采用環氧樹脂材質，所述目標體包括TaC化合物，所述目標體固定設置在襯底的頂壁上，所述目標體的表面與襯底的表面齊平； S02、通過X射線光譜儀采集TaC化合物樣品的實際測量光譜； S03、對實際測量光譜進行分析，得到TaLCK和或TaMCK的值的真實樣本； S04、改變X射線光譜儀的探針打入TaC化合物樣品的位置，使探針下TaC化合物樣品的厚度在100nm～1000nm之間變化，重復步驟S02、S03，并制作TaLCK與TaC化合物樣品厚度，和或TaMCK與TaC化合物樣品厚度的第一關系曲線圖； S05、根據所述第一關系曲線圖，確定TaLCK和或TaMCK的值趨向平穩時TaC化合物樣品的臨界厚度D1； S06、建立由通過計算機模擬得到的TaC化合物中Ta和C不同含量時模擬特征光譜的模擬光譜庫，選擇探針下TaC化合物樣品的厚度不小于所述臨界厚度D1的一個第一真實樣本，將所述第一真實樣本對應的第一實際測量光譜在模擬光譜庫內對比得到最匹配的目標特征光譜，確定所述目標特征光譜對應的Ta和C含量為TaC化合物樣品中的真實Ta和C含量； S07、根據測得的真實Ta和C含量，使TaC化合物樣品中襯底的厚度保持定值D2，探針下目標體的厚度在100nm～1000nm之間變化，重復步驟S02、S03，并制作TaLCK與目標體厚度，和或TaMCK與目標體厚度的第二關系曲線圖； S08、通過計算機模擬真實Ta和C含量的模擬TaC化合物在厚度為100nm～1000nm之間變化時，TaLCK與模擬TaC化合物厚度，和或TaMCK與模擬TaC化合物厚度的第三關系曲線圖； S09、比較第二關系曲線圖與第三關系曲線圖，選取兩個關系曲線圖中曲線會聚時的目標體厚度為D3，當： -10nm≤D1-D2+D3≤10nm 確定所述襯底對Ta和C的定量無影響； S10、根據步驟S06所述的第一真實樣本的TaL、TaM和CK的X射線光譜峰值強度，通過Cliff-Lorimer因子計算公式，計算獲得Ta和C計算含量，比較真實Ta和C含量與Ta和C計算含量，當確定真實Ta和C含量與Ta和C計算含量之間差異小于8％時，確定測得的真實Ta和C含量準確。

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