廣東工業大學沈逸江獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉廣東工業大學申請的專利一種基于自適應閾值正則化的反演光刻方法和系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119291986B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202411747795.2,技術領域涉及:G03F1/36;該發明授權一種基于自適應閾值正則化的反演光刻方法和系統是由沈逸江;何文靖;劉家樂設計研發完成,并于2024-12-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于自適應閾值正則化的反演光刻方法和系統在說明書摘要公布了:本申請公開了一種基于自適應閾值正則化的反演光刻方法和系統,涉及計算光刻學中的反演光刻和光學臨近校正技術領域,方法包括獲取初始掩模圖像;采用CTM算法對初始掩模圖像進行優化處理,得到包含SRAFs的灰度值掩模;區域劃分得到區域劃分后的灰度值掩模;采用自適應閾值正則化算法,對區域劃分后的灰度值掩模中的各個區域進行動態閾值調整優化,得到包含SRAFs的二值化掩模;動態閾值調整優化是通過自適應調整參數a的方式,調整區域劃分后的灰度值掩模中各個區域對應的閾值,確定每個區域的最佳閾值;參數a是自適應閾值正則化算法中正則化函數中的一個參數。本申請可以獲得二值化掩模,滿足產業制造需求,并提高掩模成像的精度。
本發明授權一種基于自適應閾值正則化的反演光刻方法和系統在權利要求書中公布了:1.一種基于自適應閾值正則化的反演光刻方法,其特征在于,所述基于自適應閾值正則化的反演光刻方法包括: 獲取初始掩模圖像;所述初始掩模圖像為對目標掩模進行初始化后得到的掩模圖像,所述目標掩模為待處理的掩模; 采用CTM算法對所述初始掩模圖像進行優化處理,得到包含SRAFs的灰度值掩模; 根據所述包含SRAFs的灰度值掩模中各個區域的灰度值,對所述包含SRAFs的灰度值掩模進行區域劃分,得到區域劃分后的灰度值掩模; 采用自適應閾值正則化算法,對所述區域劃分后的灰度值掩模中的各個區域進行動態閾值調整優化,得到包含SRAFs的二值化掩模;所述動態閾值調整優化指的是通過自適應調整參數a的方式,調整所述區域劃分后的灰度值掩模中各個區域對應的閾值,從而確定每個區域的最佳閾值;所述參數a指的是所述自適應閾值正則化算法中正則化函數中的一個參數; 采用自適應閾值正則化算法,對所述區域劃分后的灰度值掩模中的各個區域進行動態閾值調整優化,得到包含SRAFs的二值化掩模,具體包括: 采用所述自適應閾值正則化算法,將所述自適應閾值正則化算法的正則化函數以正則化項的形式,加入到所述CTM算法的目標函數中,以所述目標函數最小化為優化目標,對所述區域劃分后的灰度值掩模進行優化,并在優化過程中,為所述區域劃分后的灰度值掩模中各個區域分別設定一個初始的參數a; 采用梯度下降法,通過自適應調整各個區域對應的初始的參數a,確定各個區域對應的最佳閾值,得到包含SRAFs的二值化掩模; 所述正則化函數在掩模值為0和1時的取值達到最小,均為0,并在掩模值從0到1的區間內僅存在一個可控的最大值點,通過調整參數a調整這一最大值點。
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