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龍圖騰網(wǎng)獲悉嘉興斯達(dá)微電子有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利一種具有垂直溝道的碳化硅器件及制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115332357B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202210961892.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D30/67；該發(fā)明授權(quán)一種具有垂直溝道的碳化硅器件及制備方法是由陳雪萌;王艷穎;錢(qián)曉霞;湯藝設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-08-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本一種具有垂直溝道的碳化硅器件及制備方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明涉及碳化硅功率器件技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種具有垂直溝道的碳化硅器件及制備方法，包括：襯底；外延層，形成于襯底的上方；一對(duì)阱區(qū)，埋設(shè)于外延層中；一對(duì)第一溝槽，形成于外延層中，底部到達(dá)阱區(qū)；柵氧化層，形成于外延層上，并沿第一溝槽的側(cè)壁延伸至阱區(qū)；多晶硅層，形成于柵氧化層上，并沿第一溝槽的側(cè)壁延伸至底部；層間介質(zhì)層，形成于外延層和多晶硅層上方。有益效果在于：通過(guò)設(shè)置第一溝道并使得柵氧化層和多晶硅層沿第一溝道的側(cè)壁延伸至阱區(qū)，在第一溝道內(nèi)形成11?20晶向或1?100晶向的垂直導(dǎo)電溝道，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)的平面型導(dǎo)電溝道提高了電子遷移率，減小了導(dǎo)通電阻。同時(shí)，第一溝槽底部的設(shè)置有阱區(qū)，在反向阻斷時(shí)實(shí)現(xiàn)了對(duì)電場(chǎng)的屏蔽。

本發(fā)明授權(quán)一種具有垂直溝道的碳化硅器件及制備方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種具有垂直溝道的碳化硅器件，其特征在于，包括： 襯底，所述襯底具有第一摻雜類(lèi)型； 外延層，所述外延層形成于所述襯底的上方，所述外延層具有所述第一摻雜類(lèi)型； 一對(duì)阱區(qū)，所述阱區(qū)埋設(shè)于所述外延層中，所述阱區(qū)具有第二摻雜類(lèi)型； 一對(duì)第一溝槽，所述第一溝槽形成于所述外延層中，所述第一溝槽的底部到達(dá)所述阱區(qū)中； 柵氧化層，所述柵氧化層形成于外延層上方，并沿所述第一溝槽的側(cè)壁延伸至所述阱區(qū)的上方； 多晶硅層，所述多晶硅層形成于所述柵氧化層上方，并沿所述第一溝槽的側(cè)壁延伸至所述第一溝槽的底部； 層間介質(zhì)層，所述層間介質(zhì)層形成于所述外延層和所述多晶硅層上方； 一對(duì)第一接觸孔，所述第一接觸孔形成于所述第一溝槽的上方，所述第一接觸孔穿過(guò)所述層間介質(zhì)層到達(dá)所述阱區(qū)； 第二接觸孔，所述第二接觸孔形成于所述層間介質(zhì)層中并到達(dá)所述多晶硅層，所述第二接觸孔位于所述第一溝槽之間的區(qū)域； 所述第一接觸孔和所述第二接觸孔中填充有金屬介質(zhì)； 所述碳化硅器件還包括： 一對(duì)第一金屬層，所述第一金屬層形成于所述第一接觸孔上方； 第二金屬層，所述第二金屬層形成于所述第二接觸孔上方； 第三金屬層，所述第三金屬層形成于所述襯底的下方； 源區(qū)，所述源區(qū)形成于所述第一溝槽的底部。

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