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龍圖騰網(wǎng)獲悉廣東中圖半導(dǎo)體科技股份有限公司申請的專利一種圖形化襯底、制備方法及LED外延片獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115458654B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202211027249.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10H20/82；該發(fā)明授權(quán)一種圖形化襯底、制備方法及LED外延片是由曾廣藝;王子榮設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-08-25向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種圖形化襯底、制備方法及LED外延片在說明書摘要公布了：本發(fā)明實施例公開一種圖形化襯底、制備方法及LED外延片，制備方法包括提供一藍寶石基底；在基底上沉積第一異質(zhì)材料，形成預(yù)設(shè)孔隙率的帶孔隙異質(zhì)層或混合沉積至少兩種異質(zhì)材料，形成預(yù)設(shè)摻雜比例的復(fù)合異質(zhì)層；通過刻蝕工藝對復(fù)合異質(zhì)層或帶孔隙異質(zhì)層進行圖案化，形成預(yù)設(shè)表面粗糙度的多個第一異質(zhì)微結(jié)構(gòu)，多個表面粗糙的第一異質(zhì)微結(jié)構(gòu)能夠促進外延層內(nèi)部的位錯沿圖形側(cè)面以及在圖形頂部的合攏，提高外延材料的晶體質(zhì)量、減小襯底表面的應(yīng)力影響，同時保證圖形化襯底對光線路徑的改善，襯底與異質(zhì)材料較大的折射差也能夠提升出光的提取效率。

本發(fā)明授權(quán)一種圖形化襯底、制備方法及LED外延片在權(quán)利要求書中公布了：1.一種圖形化襯底的制備方法，其特征在于，包括： 提供一藍寶石基底； 在所述藍寶石基底上沉積第一異質(zhì)材料，形成預(yù)設(shè)孔隙率的帶孔隙異質(zhì)層，對所述帶孔隙異質(zhì)層進行表面改性處理，以使所述帶孔隙異質(zhì)層具備疏水性；或者，在所述藍寶石基底上混合沉積至少兩種異質(zhì)材料，形成預(yù)設(shè)摻雜比例的復(fù)合異質(zhì)層，至少兩種異質(zhì)材料包括第二異質(zhì)材料和第三異質(zhì)材料，所述第二異質(zhì)材料和所述第三異質(zhì)材料的刻蝕速率不同，所述第三異質(zhì)材料的折射率小于所述第二異質(zhì)材料的折射率，從而增大所述復(fù)合異質(zhì)層與所述藍寶石基底的折射率差； 通過刻蝕工藝對所述復(fù)合異質(zhì)層或所述帶孔隙異質(zhì)層進行圖案化，形成預(yù)設(shè)表面粗糙度的多個第一異質(zhì)微結(jié)構(gòu)。

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