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龍圖騰網(wǎng)獲悉廣東工業(yè)大學(xué)申請的專利一種具有氮化物和氧化物的涂層及制備方法和應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116988022B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310908275.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/32；該發(fā)明授權(quán)一種具有氮化物和氧化物的涂層及制備方法和應(yīng)用是由許雨翔;范江滔;王啟民設(shè)計研發(fā)完成，并于2023-07-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種具有氮化物和氧化物的涂層及制備方法和應(yīng)用在說明書摘要公布了：本申請公開了一種具有氮化物和氧化物的涂層及制備方法和應(yīng)用，涂層包括依次沉積所獲得的TiAlN層、CrAlO層和CrAlON層。制備方法包括如下流程：S1，清洗基體；S2，在鍍膜腔室中對基體表面進行原位刻蝕；S3，在基體表面利用陰極弧蒸發(fā)沉積方法制備TiAlN層；S4，在TiAlN層上利用陰極弧蒸發(fā)沉積方法制備CrAlO層；S5，在CrAlO層上利用陰極弧蒸發(fā)沉積方法制備CrAlON層。本申請所制備的涂層具有TiAlN層、CrAlO層和CrAlON層等多層結(jié)構(gòu)，在基體表面沉積TiAlN層，提高涂層與基體之間的結(jié)合強度，在CrAlO層上沉積CrAlON層，從而在高溫下能夠快速形成致密的氧化膜，從而提升涂層的耐高溫性。

本發(fā)明授權(quán)一種具有氮化物和氧化物的涂層及制備方法和應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種具有氮化物和氧化物的涂層的制備方法，其特征在于：包括 S1，清洗基體； S2，在鍍膜腔室中對基體表面進行原位刻蝕； S3，在基體表面利用陰極弧蒸發(fā)沉積方法制備TiAlN層； S4，在TiAlN層上利用陰極弧蒸發(fā)沉積方法制備CrAlO層； S5，在CrAlO層上利用陰極弧蒸發(fā)沉積方法制備CrAlON層，通入氮氣和氧氣，鍍膜腔室中氣壓為0.6至2Pa，電弧靶的靶電流密度為0.5至1.5Acm2，基體偏壓為-100至-200V，沉積時間為10至40min； CrAlON層中，Al含量為10至25at％，Cr含量為10至25at％，O含量為15至30at％，N含量為15至30at％。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人廣東工業(yè)大學(xué)，其通訊地址為：510006 廣東省廣州市番禺區(qū)大學(xué)城外環(huán)西路100號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。