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          浙江工業大學彭旭東獲國家專利權

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          龍圖騰網獲悉浙江工業大學申請的專利一種超親水增透防霧涂層及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN117659752B

          龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202311682391.5,技術領域涉及:C09D1/00;該發明授權一種超親水增透防霧涂層及其制備方法是由彭旭東;楊帆航;王剛設計研發完成,并于2023-12-08向國家知識產權局提交的專利申請。

          一種超親水增透防霧涂層及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種超親水增透防霧涂層及其制備方法,所述涂層由致密的磺酸根改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒組成,所述涂層通過層層靜電自組裝在氨基改性的基底上。所述制備方法包括以下步驟:步驟一、制備巰基改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒;步驟二、制備磺酸根改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒;步驟三、制備氨基改性基底;步驟四、防霧涂料的制備;步驟五、氨基改性基底浸涂在防霧涂料中。本發明的涂層親水性強,與基底結合力強,并且具有良好的增透功能。

          本發明授權一種超親水增透防霧涂層及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種超親水增透防霧涂層,其特征在于,所述涂層由致密的磺酸根改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒組成,所述涂層通過層層靜電自組裝在氨基改性的基底上; 所述超親水增透防霧涂層的制備方法包括以下步驟: 步驟一,將模板劑聚丙烯酸水溶液室溫下攪拌溶解在氨水中,加入無水乙醇,然后加入正硅酸四乙酯和3-巰丙基三乙氧基硅烷的混合溶液,得到反應液,繼續攪拌24~48h后,巰基改性的二氧化硅包裹模板劑聚丙烯酸,形成球形顆粒,離心去除位于球形顆粒中心的模板劑聚丙烯酸并倒掉上清液,烘干去除溶劑,得到巰基改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒a,所述的聚丙烯酸水溶液、氨水、無水乙醇、正硅酸四乙酯與3-巰丙基三乙氧基硅烷的質量比為0.36~0.4:16~18:316~360:0.6~1.2:1.2~2.0; 步驟二,于去離子水中加入巰基改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒a,超聲分散后加入H2O2溶液室溫下攪拌3~6h后,烘干溶液制得磺酸根改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒b,所述的巰基改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒a、去離子水和H2O2溶液的質量比為0.1~1.0:4~40:1~25; 步驟三,3-氨基丙基三乙氧基硅烷在無水乙醇和去離子水溶液中常溫水解12~24h得到溶液c,將清潔后的基底浸入溶液c中12~18h,制得氨基改性基底,所述的3-氨基丙基三乙氧基硅烷、無水乙醇和去離子水的質量比為3~15:2~14:0.35~1.8; 步驟四,將步驟二得到的所述磺酸根改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒b分散在無水乙醇中,同時加入溶液c,制得防霧涂料d,所述磺酸根改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒b、無水乙醇和溶液c的質量比為0.005~0.9:2.5~180:0.001~0.4; 步驟五,取步驟三得到的氨基改性基底浸涂在步驟四得到的所述防霧涂料d中使得磺酸根改性的二氧化硅構成的中空球形顆粒層層靜電自組裝在氨基改性基底上,取出浸涂后的改性基底,烘干制得超親水增透防霧涂層,其中,所述浸涂的時間為6-18小時。

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