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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海芯東來(lái)半導(dǎo)體科技有限公司申請(qǐng)的專利一種用于光刻機(jī)主基板的拓?fù)鋬?yōu)化方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN118862598B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411347087.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/23；該發(fā)明授權(quán)一種用于光刻機(jī)主基板的拓?fù)鋬?yōu)化方法是由王野;楊尚勇;王印勛;畢厚海設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-09-26向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種用于光刻機(jī)主基板的拓?fù)鋬?yōu)化方法在說(shuō)明書摘要公布了：本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N用于光刻機(jī)主基板的拓?fù)鋬?yōu)化方法，屬于光刻機(jī)制造的技術(shù)領(lǐng)域，包括S1、構(gòu)建主基板的仿真模型；S2、設(shè)置拓?fù)鋬?yōu)化的設(shè)計(jì)變量，確定設(shè)計(jì)區(qū)域和非設(shè)計(jì)區(qū)域；S3、定義優(yōu)化的目標(biāo)函數(shù)，以柔度最小和一階模態(tài)頻率最大為優(yōu)化目標(biāo)；S4、定義控制變量參數(shù)，以控制棋盤格現(xiàn)象；S5、對(duì)所述設(shè)計(jì)區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化。通過(guò)合理確定設(shè)計(jì)區(qū)域和非設(shè)計(jì)區(qū)域，采用拓?fù)鋬?yōu)化的仿真分析軟件，并定義優(yōu)化的目標(biāo)函數(shù)和控制變量參數(shù)，對(duì)設(shè)計(jì)區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化；極大程度降低了主基板結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)難度，提升了主基板結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)效率且保證優(yōu)化后主基板結(jié)構(gòu)性能的穩(wěn)定性和可靠性。

本發(fā)明授權(quán)一種用于光刻機(jī)主基板的拓?fù)鋬?yōu)化方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于光刻機(jī)主基板的拓?fù)鋬?yōu)化方法，其特征在于，包括： S1、構(gòu)建主基板的仿真模型； S2、設(shè)置拓?fù)鋬?yōu)化的設(shè)計(jì)變量，確定設(shè)計(jì)區(qū)域和非設(shè)計(jì)區(qū)域； 所述步驟S2包括： S21、所述仿真模型采用對(duì)稱結(jié)構(gòu)，并設(shè)置有單個(gè)一維對(duì)稱約束； S22、將所述仿真模型的接口區(qū)域設(shè)置為非設(shè)計(jì)區(qū)域，所述仿真模型的其它區(qū)域設(shè)置為設(shè)計(jì)區(qū)域； 所述主基板包括主板和支撐所述主板的多個(gè)支撐柱；所述非設(shè)計(jì)區(qū)域包括第一非設(shè)計(jì)區(qū)域和第二非設(shè)計(jì)區(qū)域； 所述主板中心設(shè)置有物鏡通孔，以及圍繞所述物鏡通孔的多個(gè)呈圓形的物鏡接口； 所述主板還設(shè)置有多個(gè)呈矩形平面設(shè)置的龍門架接口； 將同時(shí)覆蓋所述多個(gè)物鏡接口的環(huán)狀區(qū)域設(shè)置為所述第一非設(shè)計(jì)區(qū)域，直接將所述龍門架接口區(qū)域設(shè)置為所述第二非設(shè)計(jì)區(qū)域； 將所述主板的其他區(qū)域以及所述多個(gè)支撐柱均設(shè)置為所述設(shè)計(jì)區(qū)域； S3、定義優(yōu)化的目標(biāo)函數(shù)，以柔度最小和一階模態(tài)頻率最大為優(yōu)化目標(biāo)； S4、定義控制變量參數(shù)，以控制棋盤格現(xiàn)象； S5、對(duì)所述設(shè)計(jì)區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化； 還包括步驟S6，所述步驟S6包括： 根據(jù)拓?fù)鋬?yōu)化結(jié)果，對(duì)主基板進(jìn)行重新設(shè)計(jì)； 對(duì)重新設(shè)計(jì)的主基板并進(jìn)行結(jié)構(gòu)強(qiáng)度分析，判斷是否符合設(shè)計(jì)要求，若是，拓?fù)鋬?yōu)化完成；若否，則對(duì)重新設(shè)計(jì)主基板進(jìn)行二次優(yōu)化； 對(duì)重新設(shè)計(jì)主基板進(jìn)行二次優(yōu)化的步驟包括： 以原先的非設(shè)計(jì)區(qū)域?yàn)榛鶞?zhǔn)，向外擴(kuò)大所述非設(shè)計(jì)區(qū)域；其中，擴(kuò)大距離基于擴(kuò)大方向上仿真結(jié)構(gòu)強(qiáng)度的平均值確定；并且，所述平均值越高則擴(kuò)大距離越小，所述平均值越低則擴(kuò)大距離越大。

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