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								      本公開涉及一種在半導(dǎo)體基板（6）中形成弱化區(qū)（5）的方法，該方法依次包括以下步驟：a. 在基板的第一面（61）上形成具有非平面受控輪廓的屏蔽層（4），b. 穿過(guò)屏蔽層和基板的第一面（61）注入物質(zhì)以形成弱化區(qū)，屏蔽層的輪廓被選擇為按照使得弱...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種主動(dòng)散熱機(jī)構(gòu)，其包括：導(dǎo)熱面板主體，由導(dǎo)熱材料制成，所述導(dǎo)熱面板主體的內(nèi)部形成用于制冷劑充注與流動(dòng)的預(yù)定厚度的制冷劑流動(dòng)空間，所述導(dǎo)熱面板主體包括分別形成厚度部側(cè)一表面和另一表面的一側(cè)導(dǎo)熱面板和另一側(cè)導(dǎo)熱面板；多個(gè)接合部，分別...
								
            
							
            
							
						
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								      描述了一種用于以受控共源共柵電流鏡方式生成電流控制電信號(hào)以實(shí)現(xiàn)功能性體內(nèi)刺激的電切換裝置，包括第一、第二、第三和第四晶體管，每個(gè)晶體管均具有相關(guān)聯(lián)的源極、漏極和柵極端子，其中，第二和第四晶體管連接為輸出共源共柵結(jié)構(gòu)，使得第四晶體管的源極端子...
								
            
							
            
							
						
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								      描述了用于進(jìn)行無(wú)線通信的方法、系統(tǒng)和設(shè)備。在使用糾錯(cuò)碼進(jìn)行編碼之前，可在每組的基礎(chǔ)上將循環(huán)冗余校驗(yàn)（CRC）位附加到信息位集合。被附加到每個(gè)信息位組的CRC位的量可基于該信息位組的優(yōu)先級(jí)。例如，該優(yōu)先級(jí)可基于由該信息位組輸送的信息類型。例如...
								
            
							
            
							
						
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								      描述了用于指示UE與網(wǎng)絡(luò)之間的UL緩沖區(qū)延遲的方法和系統(tǒng)。例如，UE可以向網(wǎng)絡(luò)報(bào)告關(guān)于UE何時(shí)具有可用于傳輸?shù)臄?shù)據(jù)的信息。網(wǎng)絡(luò)可以接收該關(guān)于UE何時(shí)具有可用于傳輸?shù)臄?shù)據(jù)的信息，并且該信息可以由例如gNB使用以嘗試減小用于調(diào)度該數(shù)據(jù)的延遲。在...
								
            
							
            
							
						
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								      根據(jù)本公開的實(shí)施方式的在無(wú)線通信系統(tǒng)中由終端測(cè)量信號(hào)的方法可包括以下步驟：在僅支持第一類型信號(hào)和第二類型信號(hào)當(dāng)中的第二類型信號(hào)的第二模式下執(zhí)行第二類型無(wú)線電資源管理(RRM)測(cè)量；基于第二類型RRM測(cè)量，從第二模式切換到支持第一類型信號(hào)的第...
								
            
							
            
							
						
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								      用于上行鏈路配置的功率信息的方法和裝置。一種方法，包括接收：指示調(diào)度物理上行鏈路共享信道（PUSCH）的發(fā)送的第一下行鏈路控制信息（DCI）格式包括變換預(yù)編碼指示（TPI）字段的信息和提供調(diào)度第一PUSCH的發(fā)送的DCI格式的信道。該方法還...
								
            
							
            
							
						
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								      提供一種減少工序數(shù)的半導(dǎo)體裝置。在半導(dǎo)體裝置中，存儲(chǔ)單元包括第一晶體管及第二晶體管，作為該兩個(gè)晶體管使用在設(shè)置在絕緣層中的開口部的側(cè)面具有溝道形成區(qū)域的占有面積小的垂直晶體管。通過(guò)允許起因于第一晶體管的構(gòu)成要素的凹凸的一部分并在該凹凸不成為...
								
            
							
            
							
						
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								      提供一種載流子遷移率高的金屬氧化物膜。金屬氧化物膜的銦含有率與鋅含有率之和為95％以上。金屬氧化物膜包含結(jié)晶。結(jié)晶具有層狀結(jié)晶結(jié)構(gòu)。結(jié)晶中的相對(duì)于銦原子數(shù)的鋅原子數(shù)之比值大于0且小于1.5。結(jié)晶的電子的有效質(zhì)量小于具有立方晶系結(jié)晶結(jié)構(gòu)的氧化...
								
            
							
            
							
						
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								      在某些實(shí)施方案中，本發(fā)明涉及用于持續(xù)釋放藥物遞送的可生物降解微粒，以及其制備方法和用途，所述可生物降解微粒包含活性劑以及三維共價(jià)交聯(lián)的聚合物基質(zhì)。此外，在某些實(shí)施方案中，本發(fā)明涉及藥學(xué)上可接受的、可生物降解的持續(xù)釋放藥物遞送系統(tǒng)及其制造方法...
								
            
							
            
							
						
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								      本文公開了一種用于治療性氣體遞送裝置的樣品氣體過(guò)濾器組合件(100)。所述過(guò)濾器組合件包含：?過(guò)濾器設(shè)備(106)，所述過(guò)濾器設(shè)備包含入口(102)、出口(124)以及至少一個(gè)儲(chǔ)液槽(118)和至少一個(gè)過(guò)濾膜(316)，所述至少一個(gè)過(guò)濾膜位...
								
            
							
            
							
						
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								      裝置，其包括：套筒主體，其限定內(nèi)孔并且終止于遠(yuǎn)側(cè)開口處；中空微針，其限定內(nèi)腔并且終止于遠(yuǎn)側(cè)尖端處，其中所述微針被配置以能夠在所述內(nèi)孔內(nèi)往復(fù)移位使得所述尖端通過(guò)所述遠(yuǎn)側(cè)開口延伸和縮回；和柱塞，其具有軸，所述軸能操作用于沿所述內(nèi)腔推進(jìn)密封件，以...
								
            
							
            
							
						
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								      熱記錄介質(zhì)包括支撐體和支撐體上的熱記錄層。熱記錄層包括由以下通式(I)表示的化合物和1,3?二苯基脲：
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了由相應(yīng)的式(II)的三氯甲苯化合物制備式(I)的苯甲腈化合物的方法。
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于制備草銨膦銨的方法，該方法包括通過(guò)膜處理包含草銨膦和無(wú)機(jī)鹽的第一溶液；以及從所述第二中沉淀草銨膦銨。
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種可獲得柔軟性優(yōu)異，且斷裂拉伸強(qiáng)度優(yōu)異的浸漬成型體的氯丁二烯系聚合物膠乳組合物。根據(jù)本發(fā)明，提供一種氯丁二烯系聚合物膠乳組合物，其包含氯丁二烯系聚合物膠乳(A)、金屬氧化物(B)、硫化促進(jìn)劑(C)、硫(D)、以及芳香雜環(huán)系化合物...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種降低氫的選擇率，且通過(guò)二氧化碳的還原反應(yīng)生成乙烯等烯烴及乙醇等醇類的催化反應(yīng)能夠長(zhǎng)期穩(wěn)定地持續(xù)高效率的陰極電極。本發(fā)明提供一種將二氧化碳電還原的陰極電極，該陰極電極是一種含有銅，且所述銅由金屬離子取代的陽(yáng)離子交換物質(zhì)進(jìn)行表面修...
								
            
							
            
							
						
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								      一般地描述了用于無(wú)線再充電裝置的包含鐵合金的涂層，所述鐵合金包含鐵和至少一種另外的金屬（例如，鈷和/或鎳）。所述涂層可以直接施加至基底，例如印刷電路板。
								
            
							
            
							
						
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								      提供了一種設(shè)備(200)。該設(shè)備(200)包括光學(xué)膜(215)，該光學(xué)膜包括多個(gè)光學(xué)各向異性分子(212)，這些光學(xué)各向異性分子被配置成形成多個(gè)螺旋結(jié)構(gòu)(217)，該多個(gè)螺旋結(jié)構(gòu)具有多個(gè)螺旋軸線(218)和螺距(Ph)。螺距(Ph)是沿著螺...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明以提供進(jìn)一步改善了抗蝕劑下層膜的固化性、耐蝕刻性、平坦化性、埋入性等特性的抗蝕劑下層膜形成用組合物、抗蝕劑下層膜、抗蝕劑圖案的形成方法和半導(dǎo)體裝置的制造方法作為目的。解決手段是一種抗蝕劑下層膜形成用組合物，其包含聚合物和溶劑，上述聚合...
								
            
							
            
							
						
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