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								      本發(fā)明的課題在于縮短直至吐水溫度穩(wěn)定為止的時間，且提高溫度調整的精度。實施方式的水栓裝置具備吐水部、洗澡水混合部、致動器、控制裝置、以及操作部。洗澡水混合部具有主體外殼、感溫施力部、以及閥體。控制裝置能夠執(zhí)行如下模式：吐水模式，其在接收到設...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開涉及一種方法、計算系統(tǒng)以及計算機可讀存儲介質。一般來講，描述了使得計算系統(tǒng)能夠執(zhí)行用于數(shù)據(jù)安全分析的人工智能模型的技術。包括存儲器和處理電路的計算系統(tǒng)可被配置為實現(xiàn)所述技術。所述存儲器可存儲來自最終用戶的關于由所述數(shù)據(jù)平臺提供的安全服...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開涉及一種半導體器件。半導體器件包括在輔助元件與半導體襯底的主表面之間的邊界構件，以減少覆蓋輔助元件的保護膜的臺階。提供了一種半導體器件，該半導體器件包括半導體襯底、形成在第一區(qū)域中的晶體管、形成在第二區(qū)域中的輔助元件、形成在第三區(qū)域中...
								
            
							
            
							
						
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								      一種連接器包括壓緊裝置和具有被保護部的殼體。壓緊裝置具有基部、分別連接到基部在寬度方向上的相對側的兩個側臂以及從基部在間距方向上向內延伸的中間臂。每個側臂具有沿間距方向延伸的側部、從側部的下端在寬度方向上向內延伸的延伸部以及以彈性可變形的方...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種信息處理裝置、內容提供方法、車輛、計算機程序產(chǎn)品以及記錄介質。信息處理裝置(10)具備：信息獲取部(101)，其針對第一乘客和第二乘客獲取屬性信息；決定部(102)，其基于屬性信息來決定向第一乘客和第二乘客提供的第一內容和第二...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開抑制由于用于控制閥體的致動器的驅動聲而給使用者帶來不適感。實施方式的水栓裝置具備吐水部、冷熱水混合部、致動器、控制裝置以及操作部。冷熱水混合部具有主體殼體、感溫施力部以及閥體。控制裝置在接收到設定溫度的信息時，將致動器驅動至與設定溫度...
								
            
							
            
							
						
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								      用于近似由X射線檢測系統(tǒng)測量樣本的一個或多個X射線強度的解決方案，該系統(tǒng)包括具有給定角范圍的至少一個準直器、單色儀和X射線檢測器。以相應的一個或多個衍射角從檢測系統(tǒng)接收測量強度。從具有初始樣本模型參數(shù)的X射線熒光樣本模型計算模擬樣本強度，初...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開涉及用于選擇用于存儲器訓練的地址的方法和裝置。公開了用于選擇用于存儲器訓練的地址的系統(tǒng)、裝置、制造品和方法。示例非暫態(tài)計算機可讀介質包括指令，該指令在被執(zhí)行時，使得機器執(zhí)行以下操作：基于對與錯誤相關聯(lián)的第二存儲器地址的標識，來確定用于...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及電加熱裝置，電加熱裝置具有控制單元，控制單元具有帶有電路的電路卡，電路卡具有功率晶體管，功率晶體管具有功率晶體管殼體和至少三個聯(lián)接電極，其中有第一電極、第二電極和第三電極，至少三個聯(lián)接電極（105、202）在相同的側面處從功率晶體...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及還原劑噴射噴嘴和還原劑計量系統(tǒng)。本發(fā)明涉及一種還原劑噴射噴嘴(400)，其用于將還原劑噴射到內燃機的排氣流中以進行選擇性催化還原，該還原劑噴射噴嘴具有噴嘴體，流動通道(6、7)形成在噴嘴體內，通過該流動通道將輸送到還原劑噴射噴嘴的...
								
            
							
            
							
						
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								      在圖案描繪裝置中，通過使先行照射區(qū)域組(821)與主掃描方向平行地移動，對基板上的先行條帶區(qū)域(831)進行光的照射。通過使后續(xù)照射區(qū)域組(822)與主掃描方向平行地移動，對與先行條帶區(qū)域(831)相鄰且在重復區(qū)域(833)部分地重疊的后續(xù)...
								
            
							
            
							
						
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								      公開沖壓裝置和使用該沖壓裝置的沖壓方法。沖壓裝置包括：模子，用于接收基板；脫模器，與模子間隔開并且面對模子，并且用于朝向基板移動以固定基板；以及沖頭，用于朝向基板移動并且切割基板。脫模器包括：沖頭容納部分，用于容納沖頭；和沖壓油供應通道，位...
								
            
							
            
							
						
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								      公開了具有電容器結構的半導體裝置。示例半導體裝置包括第一半導體結構和第二半導體結構。第一半導體結構包括基底、在基底內的有源區(qū)域、在基底上的電路元件、限定有源區(qū)域的元件隔離區(qū)域、在電路元件兩側上設置在有源區(qū)域內的雜質區(qū)域、與電路元件電連接的互...
								
            
							
            
							
						
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								      一種用于動力工具的防反沖模塊，該防反沖模塊包括：加速度計，該加速度計被布置成檢測動力工具的加速度分量；功率控制器，該功率控制器被配置成控制動力工具的操作狀態(tài)；以及處理器，該處理器被配置成基于動力工具的加速度的至少一個分量的變化來確定該動力工...
								
            
							
            
							
						
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								      一種iPSCs殘余檢測方法及其應用，該檢測方法采用LINC00678(Accession:NR_102708.1)基因作為檢測iPSCs特異性的基因；本申請的這種檢測方法，可以實現(xiàn)快速、簡單的技術效果，并能使iPSCs殘余水平...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種基于高分辨率遙感影像的構筑物災害損毀評估方法及系統(tǒng)，包括：步驟1，獲取高分辨率遙感影像構筑物提取數(shù)據(jù)集，選取固定數(shù)量樣本作訓練集，構建密集場景下的構筑物樣本庫，選取固定數(shù)量樣本作測試集；步驟2，構建邊界緩沖區(qū)解析網(wǎng)絡進行密集構...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及一種空壓機裝配用翻轉臺及其工作方法，涉及裝配機械的技術領域，包括機架和設置在機架上的第一工作臺和第二工作臺，機架上設置有轉動裝置。本申請通過先將需要裝配的空壓機放置到第一工作臺上進行裝配工作，裝配完成后使用限位機構將空壓機限位住，...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開的實施例涉及業(yè)務的突發(fā)容量分配。在一些示例中，保護系統(tǒng)基于監(jiān)測計算環(huán)境中業(yè)務量，確定針對計算環(huán)境的基線業(yè)務閾值。保護系統(tǒng)基于保護系統(tǒng)的容量以及基線業(yè)務閾值，向計算環(huán)境分配突發(fā)閾值，以用于添加業(yè)務突發(fā)容量。保護系統(tǒng)基于數(shù)據(jù)業(yè)務的屬性來確...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開涉及一種印刷電路板和用于光電路的過孔結構。所述印刷電路板包括：基板，具有腔；以及過孔結構，至少部分地設置在所述腔中，并且所述過孔結構包括玻璃層、設置在所述玻璃層上的第一光波導圖案以及設置在所述玻璃層上并且覆蓋所述第一光波導圖案的至少一...
								
            
							
            
							
						
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								      提供了一種半導體裝置制造方法，所述半導體裝置制造包括：通過在基底上交替地形成多個犧牲層和多個模制絕緣層來形成模制堆疊件；形成多個接觸插塞孔，每個接觸插塞孔在豎直方向上在模制堆疊件中延伸并與模制堆疊件的底表面間隔開第一距離；在模制堆疊件和所述...
								
            
							
            
							
						
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