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								      本發(fā)明公開了一種頁巖儲層含水飽和度檢測方法、裝置、設備以及介質。該方法包括：確定目標富有機質頁巖對應的目標解釋結果信息；確定目標富有機質頁巖對應采用的目標檢測模型，目標檢測模型能用于描述孔隙度、所有導電物質體積分數(shù)、所有導電物質的等效電阻率...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開一種運動管理系統(tǒng)及其運動指導系統(tǒng)。運動管理系統(tǒng)提供專業(yè)人員建立各種運動項目，其包括運動項目影片與初始動作規(guī)則、目標動作規(guī)則、動作次數(shù)規(guī)則、執(zhí)行周期等設定。專業(yè)人員并可進一步設定對應的語音指導內容，讓使用者在執(zhí)行運動項目過程中，可實...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開的實施例公開了體檢服務數(shù)據處理方法和裝置。該方法的具體實施方式包括：將體檢結果中的異常指標輸入預先訓練的醫(yī)療知識模型，輸出檢后建議信息供醫(yī)生診斷參考；根據醫(yī)生對所述檢后建議信息的修改操作，生成總檢建議信息；根據體檢結果中的各項指標進行...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種改善晶圓邊緣高度差的方法及半導體器件，所述方法包括在深溝道隔離工藝進行前執(zhí)行以下步驟：S1、在晶圓上沉積電容氧化層；S2、進行黃光蝕刻并去掉晶背；S3、通過爐管在所述電容氧化層外部沉積局部氧化層；S4、在所述局部氧化層上方沉...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種金屬膜層的刻蝕方法，包括：通過第一種刻蝕氣體自上向下依次對各金屬膜層進行刻蝕，直至刻蝕到最下方的金屬膜層時停止刻蝕；使用第二種刻蝕氣體將最下方的金屬膜層干法刻蝕一部分后停止刻蝕；使用常規(guī)的干法去膠和濕法清洗去除光阻以及刻蝕過程...
								
            
							
            
							
						
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								      偵測晶圓的缺陷的方法包含施加第一電位至第一低部導電層，施加不同于第一電位的第二電位至第一高部導電層，第一高部導電層通過第一通孔件連接至第二低部導電層，第二低部導電層相鄰第一低部導電層，且第一低部導電層與第二低部導電層之間的間距具有第一寬度，...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種硅中階層圖案的制造方法，具體包括如下步驟：提供一硅晶圓；在硅晶圓上制備對準圖案，對準圖案包括多個對準標記組；在硅晶圓上的目標區(qū)域內制備互聯(lián)圖案，其中目標區(qū)域基于對準圖案中任意一個對準標記組確定，且任意一個對準標記組至少存在三...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了封裝件及其制造方法、以及封裝件的用于高頻應用的用途。該封裝件(100)包括：部件承載件(102)，該部件承載件(102)包括疊置件(104)，該疊置件(104)包括至少一個電傳導層結構(106)和至少一個電絕緣層結構(108)；...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請?zhí)峁┝艘环N具有疊置件(102)的部件承載件(100)及其制造方法，其中，所述疊置件(102)包括：i)至少一個電絕緣層結構(106)和至少一個電傳導層結構(104)；ii)疊置件側壁(107)，其中，疊置件側壁的至少一部分(110)相...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明實施例提供了一種集成電路組件和芯片封裝結構。所述集成電路組件包括：第一晶圓裸片，形成有多個運算單元，所述多個運算單元用于并行地執(zhí)行邏輯運算；第二晶圓裸片，與所述第一晶圓裸片疊置，所述第二晶圓裸片中形成有多個訪問控制單元；其中，每個運算...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明實施例提供了一種集成電路組件。集成電路組件包括：第一晶圓裸片，形成有多個運算單元，所述多個運算單元用于并行地執(zhí)行邏輯運算；第二晶圓裸片，形成有多個訪問控制單元；至少一個第三晶圓裸片，形成有多個存儲單元；其中，所述第二晶圓裸片堆疊在所述...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種摻雜型鋅基負極及其制備方法和應用，所述制備方法包括以下步驟：(1)將鋅源、摻雜金屬源、相分離劑和溶劑混合，得到前驅液；(2)將所述前驅液和凝膠促進劑混合，陳化處理得到前驅體；(3)對所述前驅體進行熱處理，得到所述摻雜型鋅基負...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種復合集流體，包括可粘結性聚合物基膜以及復合于所述可粘結性聚合物基膜兩側的電鍍金屬b膜。本發(fā)明提供的復合集流體，一方面避免了真空鍍膜工藝過程而導致的種種問題，另一方面也不需要使用粘結劑等材料強化電鍍金屬膜與聚合物基膜的附著力，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種氫能管理系統(tǒng)及其控制方法，包括，響應于對制/充氫裝置的充氫指令，控制制/充氫裝置進入充氫模式；讀取儲氫裝置的可讀/寫存儲器以獲取儲氫裝置的初始氫氣含量并顯示于第一顯示模塊；充氫增量每間隔充氫增量閾值時，獲取儲氫裝置的當前氫氣...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請?zhí)峁┮环N電池包的充電方法、電池包及充電系統(tǒng)，電池包的充電方法包括：實時監(jiān)測電池包的電壓；判斷電壓不大于預設第一電壓閾值時，采用第一策略為電池包充電；其中，第一策略包括：以電池包的實時電參數(shù)獲取匹配的第一充電電流值，并以第一充電電流值為...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種灌裝系統(tǒng)、灌裝控制方法、設備、可讀存儲介質及產品，灌裝系統(tǒng)包括：灌裝管道，灌裝管道與灌裝容器的灌裝接口連接，灌裝管道用于傳輸灌裝液體；上位機，上位機用于獲取灌裝容器的工單信息，工單信息包括期望灌裝的目標灌裝液體的第一配方信息...
								
            
							
            
							
						
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								      一種濾波器、電路板以及電子設備，旨在減小濾波器的尺寸。本申請實施例提供的濾波器，濾波槽和連通槽可以設置在走線層或濾波層上，也可以同時設置在走線層和濾波層上，濾波槽的延伸方向與信號線平行，濾波槽的一端通過連通槽與走線槽連通，滯波結構設置于濾波...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明實施例提供了一種衛(wèi)星移動無線終端，其中，衛(wèi)星移動無線終端包括衛(wèi)星天線組件，衛(wèi)星天線組件包括：圓極化天線、天線板、同軸線纜底座，圓極化天線與天線板固定連接，天線板與同軸線纜底座之間連接有同軸線纜。解決了相關技術中，衛(wèi)星通信終端體積大且通...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開是關于一種天線模組和電子設備。該天線模組包括第一天線和第二天線；所述第一天線包括輻射枝節(jié)，所述第二天線包括懸浮枝節(jié)；所述第一天線的輻射枝節(jié)和所述第二天線的懸浮枝節(jié)構成LOOP天線。本實施例的LOOP天線工作在預設工作頻率，從而改善第一...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開是關于一種天線模組和電子設備。該天線模組包括第一天線和第二天線；所述第一天線和所述第二天線之間設有斷縫；所述第二天線的接地點與所述斷縫之間的天線枝節(jié)部分構成第一枝節(jié)，所述第二天線的饋電點與所述斷縫之間的天線枝節(jié)部分構成第二枝節(jié)且所述第...
								
            
							
            
							
						
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