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          • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種數(shù)據(jù)倉(cāng)庫(kù)管理方法及相關(guān)裝置,屬于計(jì)算機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。所述方法包括:獲取待部署的數(shù)據(jù)倉(cāng)庫(kù)的倉(cāng)庫(kù)配置信息,基于該倉(cāng)庫(kù)配置信息,確定至少一個(gè)數(shù)據(jù)主題分別對(duì)應(yīng)的主題配置信息,按照該至少一個(gè)數(shù)據(jù)主題分別對(duì)應(yīng)的主題配置信息,在至少一個(gè)資源節(jié)...
          • 一種物體檢測(cè)系統(tǒng),被配置用于檢測(cè)車(chē)輛的前盲區(qū)內(nèi)的物體。物體檢測(cè)系統(tǒng)可以被配置為確定車(chē)輛的前面板前方的多個(gè)候選物體的位置坐標(biāo),確定車(chē)輛駕駛員的可見(jiàn)性曲線(xiàn),并且基于位置坐標(biāo)與可見(jiàn)性曲線(xiàn)的比較將每個(gè)候選物體識(shí)別為可見(jiàn)物體或被遮擋物體中的一個(gè)。
          • 一種可選擇性展開(kāi)的腳凳包括具有調(diào)節(jié)軸線(xiàn)的基座構(gòu)件和連接到基座構(gòu)件的腳凳組件。腳凳組件包括具有第一端和第二端的第一構(gòu)件。第一端連接到基座構(gòu)件。第二構(gòu)件具有第一端部和第二端部。第一端部樞轉(zhuǎn)地連接到第一構(gòu)件的第二端。第三構(gòu)件包括第一端部和第二端部...
          • 本公開(kāi)提供一種存儲(chǔ)器元件,包括一第一高k柵極介電層,設(shè)置在一半導(dǎo)體基底中。該第一高k柵極介電層的一上表面高于該半導(dǎo)體基底的一上表面。該存儲(chǔ)器元件還包括一第一金屬柵極電極層,設(shè)置在該第一高k柵極介電層上方。該第一金屬柵極電極層的一下部被該第一...
          • 本公開(kāi)提供一種存儲(chǔ)器元件,包括一第一高k柵極介電層,設(shè)置在一半導(dǎo)體基底中。該第一高k柵極介電層的一上表面高于該半導(dǎo)體基底的一上表面。該存儲(chǔ)器元件還包括一第一金屬柵極電極層,設(shè)置在該第一高k柵極介電層上方。該第一金屬柵極電極層的一下部被該第一...
          • 本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種數(shù)據(jù)處理方法、裝置、設(shè)備以及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),涉及云計(jì)算技術(shù)領(lǐng)域。方法包括分析系統(tǒng)從多個(gè)租戶(hù)的業(yè)務(wù)數(shù)據(jù)中獲取目標(biāo)租戶(hù)的目標(biāo)業(yè)務(wù)數(shù)據(jù),并基于含義獲取第一數(shù)據(jù)加工流程。根據(jù)第一數(shù)據(jù)加工流程對(duì)目標(biāo)業(yè)務(wù)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,得到處理后...
          • 一種照明系統(tǒng)包括光源模塊和光導(dǎo)引組件。光源模塊包括朝第一方向提供第一光束的第一光源模塊,朝第二方向提供第二光束和第三光束的第二光源模塊和第三光源模塊。光導(dǎo)引組件包括第一分光元件、第二分光元件和反射鏡。第一分光元件使第三光束中與第二光束皆沿第...
          • 包括有反射和透射表面的棱鏡和副鏡的用于多個(gè)觀(guān)看者的多路復(fù)用虛擬顯示系統(tǒng)。一種多路復(fù)用虛擬顯示系統(tǒng)包括:分束設(shè)備,該分束設(shè)備包括i)第一表面,被配置為反射S偏振光束以向第一觀(guān)察者顯示第一圖像并且對(duì)P偏振光束透明,以及ii)第二表面,被配置為充...
          • 本公開(kāi)實(shí)施例涉及通信技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種通信方法、設(shè)備、通信系統(tǒng)以及存儲(chǔ)介質(zhì)。該方法包括:第一接入點(diǎn)設(shè)備AP確定第一無(wú)線(xiàn)幀,第一無(wú)線(xiàn)幀包括被保護(hù)傳輸機(jī)會(huì)時(shí)長(zhǎng)以及向第二AP分享的第一TXOP;其中,第一無(wú)線(xiàn)幀用于指示第一無(wú)線(xiàn)幀的接收端根據(jù)被保...
          • 提供了一種可操作地附接到馬達(dá)的控制電路。馬達(dá)包括第一輸入和第二輸入,并配置為以第一速度和第二速度運(yùn)行。控制電路包括:第一速度開(kāi)關(guān)單元,配置為將電池連接到第一輸入;第二速度開(kāi)關(guān)單元,配置為將電池連接到第二輸入,第二速度開(kāi)關(guān)單元配置為阻斷由馬達(dá)...
          • 提供了用于資產(chǎn)的預(yù)測(cè)分析的系統(tǒng)和方法。例如,提供了一種用于飛行器部件的嚴(yán)重性預(yù)測(cè)的處理器實(shí)施的方法。該方法包括:訪(fǎng)問(wèn)與飛行器的部件相關(guān)的時(shí)間序列逐飛行數(shù)據(jù),時(shí)間序列逐飛行數(shù)據(jù)包括性能數(shù)據(jù);通過(guò)預(yù)測(cè)模型基于時(shí)間序列逐飛行數(shù)據(jù)來(lái)確定部件的估計(jì)遇...
          • 用于精確路線(xiàn)遵循的車(chē)輛軌跡控制。一種用于通過(guò)一個(gè)或多個(gè)控制器來(lái)控制車(chē)輛的方法包括確定車(chē)輛的預(yù)期駕駛路徑。所述方法進(jìn)一步包括確定虛擬吸引節(jié)點(diǎn)在預(yù)期駕駛路徑上或大體上在預(yù)期駕駛路徑上的位置。此外,所述方法包括確定沿著與預(yù)期駕駛路徑間隔開(kāi)的一個(gè)或...
          • 本發(fā)明公開(kāi)一種具有仿生晶狀體的濾光功能的鏡片裝置及其制備方法,所述鏡片裝置包含鏡片基材、多個(gè)濾光層、多個(gè)硬化層、多個(gè)減光層及多個(gè)防水層;其中,所述多個(gè)濾光層、所述多個(gè)硬化層、所述多個(gè)減光層及所述多個(gè)防水層依序設(shè)置于所述鏡片基材的兩側(cè)。借由將...
          • 本發(fā)明公開(kāi)一種抗藍(lán)光的鏡片裝置及其制備方法,所述鏡片裝置包含鏡片基材、多個(gè)抗藍(lán)光層、多個(gè)硬化層、多個(gè)減光層及多個(gè)防水層;其中,所述多個(gè)抗藍(lán)光層、所述多個(gè)硬化層、所述多個(gè)減光層及所述多個(gè)防水層依序設(shè)置于所述鏡片基材的兩側(cè)。借由將所述多個(gè)抗藍(lán)光...
          • 異常檢測(cè)系統(tǒng)、異常檢測(cè)裝置以及樓宇設(shè)備管理裝置。在所管理的機(jī)器人中混合存在機(jī)型等不同的機(jī)器人,也能實(shí)現(xiàn)機(jī)器人的異常判定精度的提高。異常檢測(cè)系統(tǒng)具備:樓宇設(shè)備管理裝置,其具有根據(jù)樓宇設(shè)備的工作狀況發(fā)送觸發(fā)信號(hào)的觸發(fā)信號(hào)發(fā)送部;以及異常檢測(cè)裝置...
          • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N封裝基板及其制作方法,該封裝基板包括玻璃芯板,在玻璃芯板中設(shè)置有第一通孔,第一通孔的兩端分別延伸至玻璃芯板在相對(duì)設(shè)置的第一側(cè)和第二側(cè)的表面,且在第一通孔中填充有絕緣填充部;在絕緣填充部中設(shè)置有第二通孔,第二通孔的兩端分別延伸至...
          • 本公開(kāi)提供一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制備方法。該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括一基底;一位元線(xiàn)結(jié)構(gòu),設(shè)置在該基底上方;多個(gè)電容器接觸結(jié)構(gòu),鄰近該位元線(xiàn)結(jié)構(gòu)設(shè)置;多個(gè)介電襯墊,設(shè)置在該等電容器接觸結(jié)構(gòu)中,其中每個(gè)介電襯墊圍繞對(duì)應(yīng)的該電容器接觸結(jié)構(gòu)的至少一部分;以及多...
          • 本公開(kāi)提供一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制備方法。該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括一基底;一位元線(xiàn)結(jié)構(gòu),設(shè)置在該基底上方;多個(gè)電容器接觸結(jié)構(gòu),鄰近該位元線(xiàn)結(jié)構(gòu)設(shè)置;多個(gè)介電襯墊,設(shè)置在該等電容器接觸結(jié)構(gòu)中,其中每個(gè)介電襯墊圍繞對(duì)應(yīng)的該電容器接觸結(jié)構(gòu)的至少一部分;以及多...
          • 一種曝光機(jī)臺(tái),包含有曝光基座以及晶圓高度微調(diào)裝置。曝光基座用以固定晶圓,而晶圓高度微調(diào)裝置設(shè)置于曝光基座與晶圓之間,用以調(diào)整晶圓的局部區(qū)域的高度。此外,一種曝光機(jī)臺(tái)控制方法亦在此揭露。
          • 半導(dǎo)體裝置(1)具備:半導(dǎo)體層(40),被劃分為在平面觀(guān)察時(shí)相互不重疊的第一區(qū)域(A1)、第二區(qū)域(A2)和第三區(qū)域(A3)這三個(gè)區(qū)域;第一縱型MOS晶體管(10),形成于第一區(qū)域(A1);第二縱型MOS晶體管(20),形成于第二區(qū)域(A2...
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