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          • 一種刀片型高效淺層水平流過(guò)濾模塊,過(guò)濾模塊的濾池本體包含薄片型濾料、豎向配水渠、豎向集水渠、橫向配水渠與橫向集水渠,在濾池本體內(nèi),薄片型濾料長(zhǎng)度兩端設(shè)豎向配水渠和集水渠,寬度兩側(cè)設(shè)橫向配水渠和橫向集水渠,橫向配水渠有沿濾料高度排布的多個(gè)獨(dú)立...
          • 本申請(qǐng)涉及雜質(zhì)濾除控制的技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種用于液體硫酸鋁雜質(zhì)濾除的自適應(yīng)控制方法,包括以下步驟:獲取液體硫酸鋁的原料批次數(shù)據(jù)和反應(yīng)條件數(shù)據(jù);基于所述原料批次數(shù)據(jù)和反應(yīng)條件數(shù)據(jù)識(shí)別絮凝敏感度;基于所述絮凝敏感度預(yù)設(shè)絮凝參數(shù)和過(guò)濾參數(shù);基于預(yù)...
          • 本發(fā)明涉及粉塵回收技術(shù)領(lǐng)域,并公開(kāi)了工業(yè)煤焦通廊粉塵回收裝置,包括機(jī)箱,所述機(jī)箱一側(cè)設(shè)置有進(jìn)風(fēng)口;所述機(jī)箱內(nèi)部設(shè)置有供風(fēng)組件,所述供風(fēng)組件中包括排風(fēng)筒;所述機(jī)箱上設(shè)置有粉塵收集組件,所述粉塵收集組件包括筒體吸塵設(shè)備,所述筒體布置在機(jī)箱的內(nèi)部...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種可收集廢氣及具有清潔功能設(shè)備,涉及廢氣凈化設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明包括殼體,所述殼體底部開(kāi)設(shè)有進(jìn)氣口,所述殼體上還安裝有排氣口,還包括:固定環(huán),所述固定環(huán)固定安裝在殼體內(nèi)靠近進(jìn)氣口的一端,所述固定環(huán)上通過(guò)擴(kuò)散環(huán)固定安裝有外濾筒,...
          • 本發(fā)明涉及風(fēng)管線過(guò)濾機(jī)構(gòu)領(lǐng)域,具體的是一種聚偏氟乙烯凈化風(fēng)管線的過(guò)濾機(jī)構(gòu),包括罐體與若干過(guò)濾筒,罐體內(nèi)側(cè)居中位置固定安裝有分隔板,分隔板上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有若干沿分隔板周向布置的轉(zhuǎn)動(dòng)盤,過(guò)濾筒螺紋連接在轉(zhuǎn)動(dòng)盤上側(cè),該過(guò)濾機(jī)構(gòu)還包括用于清理過(guò)濾筒的清...
          • 本發(fā)明涉及除臭控制技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于物聯(lián)網(wǎng)的空氣抑塵降霾除臭控制系統(tǒng)及方法。所述方法包括以下步驟:獲取目標(biāo)區(qū)域的三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)以及點(diǎn)云回波信號(hào);分析點(diǎn)云回波信號(hào)的回波強(qiáng)度異常減弱趨勢(shì),以計(jì)算目標(biāo)區(qū)域中空氣的粉塵濃度;利用三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)標(biāo)...
          • 本發(fā)明屬于煙氣除塵技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明公開(kāi)的一種高爐煙氣除塵裝置,包括底座以及固定設(shè)置在底座上壁的凈化塔,所述凈化塔頂壁貫通連接有排放管,所述凈化塔頂壁設(shè)有氣壓觸發(fā)噴灑組件,所述底座上壁固定設(shè)有儲(chǔ)水桶,所述氣壓觸發(fā)噴灑組件與儲(chǔ)水桶管道連接,融合...
          • 本發(fā)明涉及環(huán)境保護(hù)工程技術(shù)領(lǐng)域,且公開(kāi)了一種焦化廢氣凈化回收裝置,該焦化廢氣凈化回收裝置,包括底座和機(jī)架,所述底座頂部固定安裝有反應(yīng)箱,所述反應(yīng)箱固定安裝于機(jī)架內(nèi)部,所述反應(yīng)箱上設(shè)置有凈化組件。該焦化廢氣凈化回收裝置,通過(guò)設(shè)置凈化組件,配合...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種低氫高氮甲醛尾氣中氫氣高效回收設(shè)備,涉及廢氣凈化回收技術(shù)領(lǐng)域,包括多級(jí)變壓吸附機(jī)構(gòu),止回閥,設(shè)置在所述多級(jí)變壓吸附機(jī)構(gòu)的一側(cè);膜分離機(jī)構(gòu),設(shè)置在所述止回閥的一端;多級(jí)過(guò)濾冷卻機(jī)構(gòu),設(shè)置在所述膜分離機(jī)構(gòu)的一側(cè);快速泄壓機(jī)構(gòu),設(shè)...
          • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種實(shí)驗(yàn)室廢氣過(guò)濾循環(huán)凈化裝置,屬于廢水處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。主要包括適于移動(dòng)的支撐機(jī)構(gòu),支撐機(jī)構(gòu)具有底架,以及安裝在底架上的側(cè)架;安裝在側(cè)架上,用于吸收廢氣的吸氣機(jī)構(gòu);安裝在側(cè)架上,將廢氣中固體顆粒分離的預(yù)處理機(jī)構(gòu),該預(yù)處理機(jī)構(gòu)具...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種甲醇鈉制備過(guò)程中的雜質(zhì)控制方法,涉及有機(jī)金屬化合物制備純化技術(shù)領(lǐng)域,包括以下步驟:S1,采集膜組件表面多個(gè)點(diǎn)位的溫度數(shù)據(jù),構(gòu)建溫度分布矩陣,并識(shí)別存在結(jié)晶析出風(fēng)險(xiǎn)的高風(fēng)險(xiǎn)區(qū)域;S2,針對(duì)所識(shí)別的高風(fēng)險(xiǎn)區(qū)域,調(diào)整振動(dòng)裝置的局部...
          • 本發(fā)明屬于氣體分離膜技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種利用油包水型乳液體系制備聚酰胺氣體分離膜的方法。本發(fā)明采用了一種特別設(shè)計(jì)的油包水型乳液體系取代傳統(tǒng)界面聚合技術(shù)中的水相,通過(guò)增加兩相單體接觸的活性位點(diǎn)與胺單體提前擴(kuò)散兩種方式有效提升界面聚合反應(yīng)速率...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種調(diào)節(jié)池?cái)嚢璧姆椒?,本發(fā)明根據(jù)污染負(fù)荷動(dòng)態(tài)將調(diào)節(jié)池劃分核心區(qū)與邊緣區(qū),并實(shí)時(shí)調(diào)整曝氣攪拌裝置傾斜方向的控制策略,對(duì)污水?dāng)U散路徑的主動(dòng)干預(yù)與擾動(dòng)導(dǎo)向,使核心區(qū)內(nèi)的曝氣攪拌裝置傾斜朝向污水主擴(kuò)散方向,而邊緣區(qū)則反向設(shè)置,兩側(cè)形成對(duì)...
          • 一種聚氯乙烯生產(chǎn)用低濃度引發(fā)劑的配置系統(tǒng)及配置方法,屬于聚氯乙烯生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,主要針對(duì)質(zhì)量濃度1~2%的引發(fā)劑水溶液的自動(dòng)化配置。該配置系統(tǒng)由冷純水儲(chǔ)罐、雙氧水儲(chǔ)罐、氯代酯儲(chǔ)罐、氫氧化鈉儲(chǔ)罐、分散劑(聚乙烯醇)儲(chǔ)罐、聚乙二醇儲(chǔ)罐、中和劑(檸...
          • 本發(fā)明涉及工業(yè)脫硫技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于防硫膏沉淀的曝氣智能調(diào)節(jié)裝置,包括:曝氣槽;曝氣單元,其設(shè)置在所述曝氣槽內(nèi)部,包括曝氣主管和若干曝氣支管;反沖洗單元,其設(shè)置在所述曝氣槽內(nèi)部曝氣支管的下部,包括反沖洗管;監(jiān)測(cè)單元,其包括分別設(shè)置在...
          • 本發(fā)明涉及一種高純電子級(jí)六氟化鉬的制備設(shè)備,包括:六氟化鉬反應(yīng)器,用于將鉬粉和氟氣加熱反應(yīng);旋風(fēng)分離器,旋風(fēng)分離器連接至六氟化鉬反應(yīng)器的出料端,用于將六氟化鉬原始?xì)怏w中進(jìn)行氣固分離,得到六氟化鉬粗品氣體;變壓冷凝過(guò)濾器,變壓冷凝過(guò)濾器連接至...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種高產(chǎn)雙烯的輕烴催化裂解催化劑及其制備方法和應(yīng)用,屬于催化劑材料技術(shù)領(lǐng)域。高產(chǎn)雙烯的輕烴催化裂解催化劑包括規(guī)整結(jié)構(gòu)ZSM?5分子篩、其它分子篩、RE?P?Al復(fù)合粘結(jié)劑、金屬化合物和余量天然黏土;規(guī)整結(jié)構(gòu)ZSM?5分子篩的比表...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了鈀型一氧化碳助燃劑,包括改性載體和活性組分,改性載體是由γ?氧化鋁和改性二氧化硅混合改性制得,活性組分為鈀金屬。制備步驟為:S1.改性載體制備:將γ?氧化鋁和改性二氧化硅等離子體處理后加入助劑、表面活性劑、去離子水超聲處理干燥、...
          • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N微流控裝置及其制備方法,該微流控裝置包括微流控基板和控制基板;微流控基板包括第一襯底基板,控制基板包括第二襯底基板、多個(gè)電極對(duì)和控制電路層;第一襯底基板的第一表面具有多個(gè)開(kāi)口區(qū),每個(gè)開(kāi)口區(qū)具有間隔設(shè)置的兩個(gè)容置槽,兩個(gè)容置槽通...
          • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N微流控裝置及其制備方法,該微流控裝置包括微流控基板和控制基板;微流控基板包括第一襯底基板和多個(gè)電極對(duì);控制基板包括第二襯底基板、控制電路層和多個(gè)觸點(diǎn)對(duì);第一襯底基板的第一表面具有多個(gè)開(kāi)口區(qū),每個(gè)開(kāi)口區(qū)具有間隔設(shè)置的兩個(gè)容置槽,...
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