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          • 本發明公開了TCR?T細胞的制備方法及其應用。本發明公開的制備TCR?T細胞的方法,包括:連接41BB的胞內結構域、CD3ζ信號域與TCR蛋白,得到重組TCR;將重組TCR的編碼基因導入T細胞中,并使其得到表達,得到TCR?T細胞;其中,重...
          • 本申請提供一種提高治療性抗體產品質量和生產率的發酵工藝,使用倒置果錐振動生物反應器(IFSB),通過使用倒置果錐振動生物反應器(IFSB),能夠利用表層通氣與液相之間的氣液交換滿足供氣需求,并且無內部混勻攪拌槳,通過整體振蕩驅動產生的渦流滿...
          • 本公開提供了一種車輛和應用于車輛的冷卻系統,其中,冷卻系統包括:控制模塊、駕駛艙制冷模塊、電池模塊和電池冷卻模塊,控制模塊與駕駛艙制冷模塊、電池冷卻模塊連接;控制模塊用于在接收到第一指令時,控制駕駛艙制冷模塊中的第一冷卻回路連通,使駕駛艙制...
          • 本發明公開工具輸送裝置和熱縮設備。工具輸送裝置包括:支架;一對帶輪,被轉動地安裝在支架上;環形帶,連接在一對帶輪之間;和多個保持工具,連接到環形帶上并彼此間隔開。保持工具包括:延伸部,適于被夾持在熱縮機的一對輸送帶之間,使得保持工具和環形帶...
          • 提供了一種富含黃酮類化合物的植物來源的外泌體樣囊泡及其制備方法。還提供了所述外泌體樣囊泡用于改善皮膚狀況的方法和用途,以及包含其的護膚品。
          • 本發明涉及一種烹飪裝置,該烹飪裝置包括:箱體;內膽,內膽內形成烹飪腔;灶具,間隔地設于內膽的上側;控制板,設于箱體的內壁上;第一風道組件,設于內膽的頂部與灶具的底部之間,第一風道組件中形成有散熱風路;散熱風路連通內膽與灶具之間的區域和箱體的...
          • 公開了以下技術:用于使集線器應用能夠代表嵌入式應用執行令牌代理,從而恢復針對該嵌入式應用的認證狀態,該嵌入式應用被嵌入在集線器應用中。執行認證登錄事件以利用賬戶認證集線器應用。作為結果,集線器應用從令牌代理平臺接收第一訪問令牌,該第一訪問令...
          • 提供使用生物催化劑高效地由腈化合物制造酰胺化合物、且制造發泡性低的酰胺化合物水溶液的方法。在具有腈水合酶活性的生物催化劑的存在下使腈化合物進行水合反應來制造酰胺化合物的方法中,在水合反應的中途使反應液的pH上升。在一例中,與相對于所述反應液...
          • 本發明實施例提供了一種N型TOPCon電池及其制備方法,其中,本發明實施例所提供的N型TOPCon電池的制備方法,省去了對硼摻雜處理后硅片進行激光摻雜處理的步驟,但在電極燒結及光注入之后,對電池片進行激光照射同時施加偏轉電,使得激光形成的電...
          • 本揭示內容的一些實施方式提供一種半導體元件,包含基板、多個第一導電型摻雜區、多個第二導電型摻雜區以及導電觸點。第一導電型摻雜區設置于基板中。第二導電型摻雜區設置于基板中。導電觸點設置于基板中,其中第一導電型摻雜區位于導電觸點與第二導電型摻雜...
          • 提供一種制備半導體裝置的方法,包含:提供基板;形成圖案化遮罩于基板上;使用圖案化遮罩蝕刻基板,以形成溝槽;沉積材料層于圖案化遮罩上與溝槽中,于溝槽中形成通道,其中材料層為寬能隙半導體材料;移除圖案化遮罩與位于圖案化遮罩上的材料層;以及形成多...
          • 本發明提供一種半導體器件及其制造方法,針對某些晶體管驅動不足時性能降低、飽和電流退化嚴重的問題,將這些晶體管溝道區上的柵氧化層由原先的第一柵氧化層和第二柵氧化層堆疊而成的雙層柵氧化層替換為一層更薄且質量更致密的第三柵氧化層,且將這些晶體管的...
          • 本發明提供了一種半導體器件的制備方法,所述制備方法包括:提供半導體襯底,其上包括柵極結構及位于柵極結構兩側的源漏區域;在半導體襯底上依次形成第一側墻結構及第二側墻結構,第一側墻結構及第二側墻結構均包括位于柵極結構側壁的側墻部,第一側墻結構的...
          • 一種半導體結構包括碳化硅基板、碳化硅緩沖層以及磊晶層。碳化硅緩沖層設置在碳化硅基板上。磊晶層設置在碳化硅緩沖層上,其中碳化硅緩沖層的碳摩爾數與硅摩爾數的比值沿著碳化硅基板至磊晶層的方向漸增。通過在形成磊晶層之前先形成具有梯度式變化的碳摩爾數...
          • 本公開提供一種包括半導體堆疊的晶體管裝置,半導體堆疊包括具有第一導電類型的漂移層、漂移層上方且具有第一導電類型的第一摻雜區域,以及漂移層上方且具有第二導電類型的第二摻雜區域,其中第二摻雜區域的深度大于第一摻雜區域的深度。晶體管裝置包括嵌入半...
          • 一種制造半導體裝置的方法,包含:提供基板,其中基板包含碳化硅材料;形成第一氧化物層,在第一溫度和氧氣的存在下,經由熱氧化工藝在基板上形成第一氧化物層,其中第一溫度高于1000℃;形成第二氧化物層,在第二溫度下,經由沉積工藝在第一氧化物層上形...
          • 本申請公開了異常處理方法、裝置、電子設備及計算機可讀介質,涉及計算機技術領域,一具體實施方式包括通過響應于異常處理請求,確定對應的風控類型標識和業務標識;基于風控類型標識,確定對應的風控處理核心模塊和調用順序;根據業務標識,獲取風控處理核心...
          • 本發明涉及一種基于顯式和隱式去冗余表示學習的信息運維專業知識檢索方法,包括構建信息運維專業知識檢索數據集、構建信息運維專業知識檢索模型、訓練信息運維專業知識檢索模型和信息運維專業知識檢索等步驟。本發明提供的基于顯式和隱式去冗余表示學習的信息...
          • 本申請公開了AI模型的訓練方法、裝置、設備及存儲介質。該方法包括:獲取AI模型的訓練樣本集,AI模型包括N個模型層;從N個模型層中,確定保留的M個模型層,其中,N個模型層中除M個模型層之外的剩余模型層,在采用AI模型對各個訓練樣本進行處理時...
          • 本申請公開了一種語言模型的訓練方法、文本預測方法、裝置、設備和介質,涉及機器學習領域。該方法包括:獲取第一對話內容;通過第一語言模型對所述第一對話內容進行答復內容預測,得到第一預測結果;通過第二語言模型對所述第一對話內容進行答復內容預測,得...
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