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          • 半導(dǎo)體存儲(chǔ)器裝置制造方法包括以下步驟。位元線結(jié)構(gòu)形成在基板的存儲(chǔ)器陣列區(qū)域中。在基板的周邊區(qū)域中形成柵極結(jié)構(gòu)。在位元線結(jié)構(gòu)和柵極結(jié)構(gòu)上方形成介電層。在介電層上方形成下硬罩幕層。在下硬罩幕層上方形成蝕刻工藝診斷信號(hào)層。在蝕刻工藝診斷信號(hào)層上方...
          • 本發(fā)明屬于輸送裝置技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種砂石骨料生產(chǎn)用防塵型輸送裝置,包括有:底板,所述底板的內(nèi)部活動(dòng)連接有限位板,所述限位板的頂部固定連接有升降板,所述底板的頂部與升降板的底部活動(dòng)連接,所述升降板頂部的左右兩側(cè)均固定連接有固定塊,所述固定...
          • 本發(fā)明提供一種聯(lián)動(dòng)垂直式L型全自動(dòng)封口機(jī),涉及封口機(jī)械設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,包括封口模塊和放膜模塊,封口模塊的側(cè)面設(shè)有拉膜模塊,封口模塊的端部上下分別設(shè)有輸出廢料收卷模塊和輸出模塊,放膜模塊的一側(cè)設(shè)有輸入皮帶模塊,通過變頻電機(jī)加氣缸聯(lián)動(dòng)配合與程序的...
          • 本發(fā)明屬于光催化復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域,具體公開了一種改性氮化碳光催化復(fù)合材料及其制備方法與應(yīng)用。本發(fā)明將對(duì)溴苯甲醛、吡咯和第一催化劑混合,反應(yīng)得到5?(4?溴苯基)二吡咯甲烷,然后將其與苯甲醛、三氟乙酸、四氯對(duì)苯醌和有機(jī)溶劑混合,反應(yīng)得到5,1...
          • 本發(fā)明提供一種發(fā)光二極管陣列的驅(qū)動(dòng)裝置與顯示驅(qū)動(dòng)方法。驅(qū)動(dòng)裝置包括起灰位置調(diào)整電路以及脈寬調(diào)制電路。起灰位置調(diào)整電路依據(jù)起灰位置設(shè)定去移位脈寬調(diào)制計(jì)數(shù)值而生成第一信道的經(jīng)調(diào)整計(jì)數(shù)值。起灰位置設(shè)定用以指示經(jīng)調(diào)整計(jì)數(shù)值的啟始值位于同一個(gè)顯示幀周...
          • 本公開涉及通信技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及信息接收、發(fā)送方法和裝置、終端、網(wǎng)絡(luò)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì),其中,所述信息接收方法包括:接收網(wǎng)絡(luò)設(shè)備發(fā)送的指示信息,其中,所述指示信息用于所述終端確定第一信息的狀態(tài),其中,所述狀態(tài)包括以下至少之一:按需、非按需。根據(jù)...
          • 本發(fā)明屬于導(dǎo)料槽技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種砂石骨料無(wú)動(dòng)力除塵導(dǎo)料槽,包括有:導(dǎo)料槽主體,所述導(dǎo)料槽主體頂端的左側(cè)固定套接有一級(jí)循環(huán)風(fēng)管,所述導(dǎo)料槽主體頂端的右側(cè)固定套接有二級(jí)循環(huán)風(fēng)管;控制機(jī)構(gòu),所述控制機(jī)構(gòu)設(shè)置在導(dǎo)料槽主體頂端的左側(cè);驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),...
          • 本發(fā)明提供一種滅菌劑儲(chǔ)存裝置及包括該滅菌劑儲(chǔ)存裝置的滅菌裝置,其中,所述滅菌劑儲(chǔ)存裝置可以包括:第一容器,其內(nèi)部?jī)?chǔ)存滅菌劑,并且其至少一部分由透氣材料形成;第二容器,其形成為包圍所述第一容器,但是其內(nèi)部具有除設(shè)置所述第一容器的區(qū)域之外的空閑...
          • 本發(fā)明提供一種封裝結(jié)構(gòu),包括封裝件、第一磁性件以及導(dǎo)板。封裝件具有第一基板。第一磁性件設(shè)置于第一基板上。導(dǎo)板具有絕緣部、多個(gè)頂針以及第二磁性件。多個(gè)頂針通過絕緣部相互電性絕緣。第一磁性件直接接觸第二磁性件。多個(gè)頂針嵌入固定于第一基板內(nèi)。另提...
          • 根據(jù)本公開內(nèi)容示例性實(shí)施方式的顯示裝置包括:包括有效區(qū)域和圍繞所述有效區(qū)域的第一非有效區(qū)域的基板;至少一個(gè)金屬層,所述至少一個(gè)金屬層設(shè)置在所述基板的至少一個(gè)側(cè)部上并且包括暴露于外部的一個(gè)表面;和支撐構(gòu)件,所述支撐構(gòu)件設(shè)置在所述基板的底表面上...
          • 本申請(qǐng)案公開一種存儲(chǔ)器元件及存儲(chǔ)器元件的制造方法。此存儲(chǔ)器元件包括:一基板;一接觸區(qū),位于該基板上;一底部電極,位于該接觸區(qū)上,其中該底部電極具有一容器狀輪廓;一支撐層,位于該基板之上且橫向地圍繞該底部電極;一介電結(jié)構(gòu),包括:一介電層,順應(yīng)...
          • 本申請(qǐng)涉及圖像感測(cè)裝置及其操作方法。公開了一種能夠根據(jù)飛行時(shí)間TOF方法檢測(cè)到目標(biāo)對(duì)象的距離的圖像感測(cè)裝置。該圖像感測(cè)裝置包括:像素,其被配置為基于從目標(biāo)對(duì)象反射的光子來生成脈沖信號(hào),該像素包括靈敏度根據(jù)猝滅控制電壓來控制的光接收元件;時(shí)間...
          • 本公開的課題通過一種蓄電元件包裝材用粘接劑來解決,所述蓄電元件包裝材用粘接劑含有聚異氰酸酯(A)與聚醇(B),聚醇(B)包含聚酯多元醇(b1),以聚異氰酸酯(A)的質(zhì)量為基準(zhǔn),含有20質(zhì)量%~60質(zhì)量%的聚醇(B),以粘接劑的固體成分質(zhì)量為...
          • 本發(fā)明公開一種化學(xué)方便制氫器及應(yīng)用,包括外體結(jié)構(gòu)、制氫層室、氫氣無(wú)水調(diào)溫凈化層室、過濾層室、穿刺注液件、呼吸道吸入應(yīng)用裝置或氣管肺部和非呼吸道腔體輸入應(yīng)用裝置、制氫化學(xué)反應(yīng)固體物料、可刺破液儲(chǔ)液袋和/或設(shè)置于穿刺注液件的外源制氫反應(yīng)用液;制...
          • 本發(fā)明涉及具有優(yōu)異的機(jī)械性能和耐用性的淀粉基生物降解性組合物以及使用該組合物制造的生物降解性薄膜,該淀粉基生物降解性組合物包含熱塑性淀粉、生物降解性樹脂、第一增容劑、第二增容劑和潤(rùn)滑劑,其中第一增容劑是環(huán)氧化合物,并且第二增容劑是三羧酸。
          • 本申請(qǐng)?zhí)峁錃馍a(chǎn)供應(yīng)系統(tǒng),包括:控制子系統(tǒng),用于根據(jù)基于當(dāng)前制氫成本確定的當(dāng)前計(jì)劃制氫量、當(dāng)前氫氣存量以及當(dāng)前氫氣需求量,確定目標(biāo)制氫量和氫氣調(diào)配方式,并生成攜帶有氫氣調(diào)配方式的氫氣調(diào)配指令,以及攜帶有目標(biāo)制氫量的制氫指令,并將制氫指令發(fā)...
          • 本發(fā)明提供一種無(wú)電鍍方法,包括以下步驟。提供待鍍物,其中待鍍物為金屬材質(zhì)。對(duì)待鍍物進(jìn)行清潔工藝,以將待鍍物的表面上的雜質(zhì)去除。對(duì)待鍍物的表面進(jìn)行等離子處理工藝,以使待鍍物的表面的金屬離子化。將經(jīng)等離子處理工藝的待鍍物浸入化學(xué)鍍液中以形成鍍覆...
          • 本發(fā)明的實(shí)施方式涉及磁盤裝置和磁盤裝置的制造方法。實(shí)施方式的磁盤裝置具備:殼體,將基體和罩組合并氣密地封閉而成;磁盤,收容在殼體內(nèi);針,在殼體的內(nèi)部空間內(nèi)朝向上方突出;以及干燥劑組件,該干燥劑組件以從基體離開預(yù)定距離并與基體相對(duì)向的方式設(shè)置...
          • 本申請(qǐng)公開一種立方體攝像模塊及其制造方法。所述立方體攝像模塊包含一鏡頭、安裝于所述鏡頭的一傳感器封裝組件及一膠體。所述鏡頭包含一鏡座及一鏡片,并且所述鏡座呈不透光狀且具有一頂面、位于所述頂面相反側(cè)的一底面及相連于所述頂面與所述底面的一環(huán)側(cè)面...
          • 本發(fā)明為油鍋起火后滅火用舀子、用耐銹或不銹鋼材或銅鋁等耐腐蝕耐高溫材料制作,它由口大底小碗狀舀頭和舀頭邊上手握的長(zhǎng)把還有口部上面在一定距離處蓋著的大于舀子口部的蓋子,還有蓋子下面靠近兩頭處四條彎曲形狀支撐固定和卡在舀子口部向外彎曲邊緣上便于...
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