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          • 一種用于管理存儲系統的方法、系統和計算機程序產品,該存儲系統包括第一存儲設備和第二存儲設備,該方法包括:分析用于在第一存儲設備和第二存儲設備上寫入的一組存儲塊的一組壓縮比以確定模式;響應于該模式,確定第一壓縮比和第二壓縮比,第一壓縮比與第二...
          • 實例方法包括:(A)接收聚合方法數據集,所述聚合方法數據集具有使用多組分催化劑組合物制備的聚乙烯(PE)樹脂的性質和氣相反應器系統的不同操作參數;(B)將所述多組分催化劑組合物的催化劑修整有效性值設定為初始值;(C)使用所述催化劑修整有效性...
          • 本發明提供一種能夠抑制半導體激光器的芯片中可能產生的應變的帶基座芯片結構。帶基座芯片結構(1)具備:芯片(10),其包括將電流注入活性層(13)的電流注入條(161);應變抑制層(20),其為金屬制,并覆蓋電流注入條(161);基座(40)...
          • 一種系統可以包括控制電路和多級功率轉換器,所述多級功率轉換器包括多個開關和被電耦合到所述多個開關的功率電感器,其中,所述功率電感器被耦合到所述多級功率轉換器的切換節點,其中,所述多級功率轉換器能夠向切換節點施加三個或更多個切換電壓。所述控制...
          • 光電轉換裝置通過層疊第一基板、第二基板和第三基板來配置,并且包括多個像素,各像素包括光電轉換單元和信號處理單元,該光電轉換單元包括APD,該信號處理單元處理從光電轉換單元輸出的信號。信號處理單元包括連接到APD的猝滅電路和處理與APD上的光...
          • 各虛擬化基站通過經由預定的路徑連接CU、DU以及RU而構成,各單元間的接口被開放。將各單元虛擬化的計算機的至少一部分搭載ACC。各單元將ACC信息以及業務信息通知給RAN控制器。RAN控制器具備基于各單元的ACC的信息以及業務信息來計算最佳...
          • 提供一種容易小型化的真空排氣裝置。一種具備渦輪分子泵和等離子體產生裝置(210)的真空排氣裝置,等離子體產生裝置(210)具有能夠位移的電極(214);在不產生等離子體的非運轉時,能夠使電極(214)位移而將等離子體連通口(228)封閉。在...
          • 該光電檢測器包括光電轉換單元和設置為覆蓋光電轉換單元的光學層。光學層包括:多個支柱,并排設置在層的平面方向上,以至少將入射光中的待檢測光引導至光電轉換單元;以及填料,被設置為填充多個支柱之間的空間。支柱的側表面具有朝向支柱的外側凸出的曲線。
          • 本發明涉及一種家用洗碗機(1),包括:洗滌容器(2),用于向容納在洗滌容器(2)中的洗滌物施加洗滌液和/或清水(F)的噴淋臂(18),用于主動驅動噴淋臂(18)的驅動裝置(27),用于輸送洗滌液和/或清水(F)的循環泵(30),以及用于驅控...
          • 殼聚糖和/或幾丁質葡聚糖,用于預防或治療影響哺乳動物患者的炎癥性腸病,相應的組件套裝和用于保護維生素D,或用于預防和/或治療念珠菌生物膜或麩質誘導的炎癥的用途。
          • 本公開涉及一種活性藥物成分(API)的結晶的方法,其中所述結晶和晶體生長受到控制。根據該方法,將固體無定形納米級API與包含一種或多種聚合物和/或共聚物的水溶液接觸,從而形成包含結晶形式的納米級API的懸浮液。
          • 層疊體1a具備基材2和阻氣層3。阻氣層3形成于基材2上,且含有硅、碳和氧。阻氣層3在阻氣層3的厚度方向上朝向基材2依次包含層狀的第一部位3a、層狀的第二部位3b和層狀的第三部位3c。第一部位3a和第三部位3c中的碳的原子數基準的含量相對于硅...
          • 本公開提供了特異性結合人cMET的抗體或其抗原結合片段和多特異性抗體或其抗原結合片段,其包含特異性結合人cMET的第一表位的第一抗原結合結構域;特異性結合人cMET的第二表位的第二抗原結合結構域;和特異性結合人EGFR的第三抗原結合結構域;...
          • 提供可激活白細胞介素18(IL?18)多肽,其包含:(a)IL?18多肽(例如,野生型IL?18、IL?18變體多肽或包含野生型IL?18或IL?18變體多肽的融合蛋白),和(b)掩蔽部分,其中所述野生型IL?18、IL?18變體多肽或包含...
          • 本發明提供一種用于通過使用微波輻射加熱含水混合物M并使其發泡來生產三聚氰胺?甲醛泡沫的方法,以及能夠通過該方法獲得的可生物降解的三聚氰胺樹脂泡沫,所述混合物M包含三聚氰胺:甲醛的摩爾比在1:1.3至1:2.5范圍內的至少一種三聚氰胺?甲醛預...
          • 本發明涉及包含聚亞芳基(醚)砜的組合物以及由所述組合物制成的產品。
          • 本文提供了在物理氣相沉積(PVD)工藝中用于高深寬比特征的多陰極阻障層種晶沉積的設備和方法。在些具體實施例中,PVD腔室包括設置在PVD腔室處理區域內的底座。底座可隨其上的工件旋轉。PVD腔室包括腔室蓋組件,組件包括具有相同靶材材料的第一靶...
          • 一種用于適于在半導體制造中使用的處理基板的方法及設備。所述方法包括加熱定位在基板支撐件上的基板。所述方法包括使凈化氣體在安置于所述基板上方的隔離板上流動,所述使所述凈化氣體流動包括使所述隔離板下方的一部分凈化氣體通過所述隔離板中的多個穿孔分...
          • 密封裝置(1)具備環狀的由彈性體形成的彈性體部(2)。彈性體部(2)具有環狀的密封唇(10)。密封唇(10)與插入到密封唇(10)的引導部件(102)接觸。密封唇(10)相對于插入到密封唇(10)的引導部件(102)的緊固余量(α)為使引導...
          • 一種測量物體的表面形貌的方法包括:用輻射束在束斑區域上形成圖案的第一圖像;相對于束斑區域移動物體;接收從物體反射的輻射束的一部分,并且將反射的輻射分為第一部分和第二部分,使得對應于第一圖像的第一部分的輻射的第一部分與對應于第一圖像的第二部分...
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