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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本實用新型公開了一種投影光路新型結構，包括殼體、光源、透鏡裝置和LCD模組，透鏡裝置和LCD模組均設有殼體內，光源和LCD模組分別位于透鏡裝置的兩側，透鏡裝置包括平行設置的第一平凸鏡和第二平凸鏡，第一平凸鏡的外徑大于第二平凸鏡的外徑，第二平...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種新型堿溶性感光性樹脂聚合物，在樹脂中引入耐熱性的硅氧烷結構和具有潛在固化的氰基丙烯酸結構，解決像素被拆開的問題。包含該樹脂組合物的彩色濾光片制作成的顯示設備可以用于惡劣環境變化的場景，如車載顯示等。
								
            
							
            
							
						
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								      一種感光性樹脂組合物，其特征在于，含有堿溶性高分子、具有烯屬雙鍵的化合物、以及光聚合引發劑，在層疊有18μm厚度的銅箔的覆銅層疊板上以25μm厚度層疊由前述感光性樹脂組合物形成的感光性樹脂層，經過線/間隔＝50μm/30μm的圖案狀的光照射...
								
            
							
            
							
						
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								      公開了一種在維護動作之后執行的機器維護方法，在所述維護動作中，舊機器部件已經由替換機器部件替換。所述方法包括確定性能影響度量，所述性能影響度量描述由用所述替換機器部件替換所述舊機器部件引起的對機器性能的影響；以及降級所述替換部件，使得所述性...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種液處理裝置、液處理方法和計算機可讀取的存儲介質。液處理裝置的一例包括：構成為能夠保持基片的基片保持部；構成為能夠向基片的表面供給處理液的處理液供給部；構成為能夠向基片的表面供給氣體的氣體供給部；控制部。氣體供給部包括擴散噴嘴，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種光繪線路板膠片，包括PET基材，PET基材的背面從近到遠依次設有粘結抗靜電層、防光暈層和抗刮磨砂層Ⅱ，其特征在于：PET基材的正面從近到遠依次設有粘結層、吸收層、透明隔層、感光層、抗刮磨砂層Ⅰ。減少光繪出的線條線寬、線距與原電...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請提供一種校驗方法、校驗組件及光刻機，校驗方法用于光刻機的曝光焦距一致性校驗，校驗方法包括：獲取掩膜板圖案的若干個曝光區域在曝光焦面上的靜態圖像；從若干個靜態圖像中選取清晰度最高的靜態圖像作為第一參考圖像，并以第一參考圖像對應的曝光區域...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開涉及地熱發電技術領域，提供了一種二氧化碳地熱發電裝置及其控制方法，所述裝置包括：傳導管，用于傳輸地熱介質到蒸發器，蒸發器將地熱介質轉換成蒸汽后帶動汽輪機轉動，汽輪機轉動帶動電力發生器發電；還包括：與汽輪機連接的冷卻機構；所述冷卻機構包...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供了一種相機膠卷沖洗裝置，包括沖洗盒、片芯及引導組件，沖洗盒內部間隔設有用于容置膠卷的安裝腔和能夠容置沖洗液的沖洗腔；片芯可轉動的設置于沖洗腔內；引導組件包括引導部和彈性件，引導部設置于沖洗盒中。其中，膠卷中的膠片依次經引導部的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開的單片光源集成式超表面投影器件，屬于微納光學、光學檢測和機器視覺應用技術領域。本發明通過將優化編碼后的超表面集成到單片光源，實現器件數量最低化、高度集成化；通過單片超表面和光源一體化制作，降低加工、裝調復雜度，提升抗振動性能。利用...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種伽利略斜坡組合滑桿大失衡重力勢能發動機。主要由主軸和主軸上安裝的單組或多組滑桿組成，每組滑桿由兩只相互錯開90度的滑桿組成，滑桿兩頭帶有沿軌道轉動的滾輪，每根主軸方管兩端用滾道滾輪固定板各裝兩個H型滾輪構成滾道，通過滾道使滑...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及電子材料技術領域，具體為一種UV光固化型堿顯影性樹脂組合物及應用；本發明首先以聚環氧化合物、不飽和單羧酸、不飽和單羧酸酐以及二羧酸酐為原料，制備一種顯影性、以及固化物的耐熱性和介電特性優異的含不飽和基團的堿顯影性樹脂，在上述樹脂的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種軌道式液態重力儲能運輸控制方法及系統，涉及儲能運輸技術領域，所述方法包括：在下雨時，蓄水池利用自然降水進行儲水，并設定每個蓄水池的初始水位、最大容量、最小容量參數，以及水循環的相關參數，包括循環次數、收斂條件、模擬的蒸發率、降...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種曝光機分體式機架，包括上料機架和曝光機架，曝光機架的一側安裝有第一支撐座和第二支撐座，第一支撐座和第二支撐座上分別設置有第一定位凹槽和第二定位凹槽，上料機架的一側固定安裝有第一固定支撐腳和第二固定支撐腳，第一固定支撐腳和...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及高壓電纜技術領域，且公開了一種柔性新能源汽車鋁合金電纜，包括高壓線組，還包括冷卻單元和循環單元；所述冷卻單元包括固定連接在高壓線組上的液管組件；所述液管組件包括固定連接在高壓線組上的端子，固定連接在端子上的外殼體，固定連接在外殼體...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及掩膜板加工技術領域，尤其是指一種掩膜板密封機構，包括具有安裝腔的箱體、密封板、用于驅動密封板封閉安裝腔開口處的驅動機構，所述安裝腔用于放置掩膜板本體；當需要存放掩膜板本體時，將掩膜板本體放置于安裝腔內，驅動機構驅動密封板封閉安...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了檢測掩膜版圖形位置精度的方法、裝置及設備，涉及精度檢測領域，方法包括：選取圖像顯示區域的一個初始圖形；以初始圖形的中心位置作為原點，在圖像顯示區域中沿垂直于光刻機的曝光方向步進，每隔n個選取間距在圖像顯示區域中取出一個與初始圖形...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開涉及一種掩膜版裝載盒，包括盒體和開合裝置，其中，盒體內部設置有用于容納掩膜版的容置空間，且盒體設置有連通容置空間的通孔；開合裝置設置在通孔處，開合裝置配置成能夠被驅動以具有打開通孔的第一位置和閉合通孔的第二位置。通過上述技術方案，本公...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及展示裝置技術領域，且公開了一種投影展示裝置，包括底座，固定安裝在底座上部的安裝柱，套接在安裝柱內部的調節柱，固定連接在調節柱頂端的連接柱，固定連接在連接柱頂端的安裝架，設置在安裝架下部的幕布，以及設置在底座上部的連接組件，所述...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種曝光方法及半導體器件。其中，所述曝光方法是在形成所述光刻膠層之前，在所述襯底的頂層和/或所述襯底的頂表面上形成離子補充層，以利用所述離子補充層補償所述光刻膠層底部的離子濃度，從而解決了因光刻膠層中離子擴散不均而導致其底部離子濃...
								
            
							
            
							
						
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