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                  		攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本申請?zhí)峁┮环N新型不透光二元光掩模制備方法，包括以下步驟：在曝光工藝中，增加曝光劑量以使曝光區(qū)域的光化學(xué)反應(yīng)更充分，從而提高已曝光區(qū)域和未曝光區(qū)域溶解度的差異；在顯影工藝中，對顯影液采用噴淋方式并調(diào)節(jié)顯影液參數(shù)以確保顯影液均勻覆蓋光掩模表面...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種納米晶塊壓印機(jī)構(gòu)，包括支撐架，所述支撐架的頂部設(shè)有壓印組件，所述支撐架的底部內(nèi)壁固定連接有凸塊，凸塊的頂部轉(zhuǎn)動固定連接有轉(zhuǎn)動桿，轉(zhuǎn)動桿的頂端固定連接有連接板，連接板通過可拆卸的固定組件與凸塊相固定，所述連接板的兩側(cè)均固定...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種UV光源的復(fù)合式機(jī)械減振支撐裝置，屬于光刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括基座、UV光源和減振模塊，減振模塊包括連接件和支撐緩沖件，UV光源通過連接件連接至支撐緩沖件，支撐緩沖件環(huán)繞UV光源軸線對稱分布，支撐緩沖件還連接至基座；基座上安裝有...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種曝光機(jī)解析度提升結(jié)構(gòu)，包括燈板，所述燈板的底部固定安裝有散熱器,所述燈板的頂部固定安裝有多組LED燈珠，所述燈板的頂部且位于LED燈珠的外側(cè)固定安裝有燈罩，所述燈罩的內(nèi)側(cè)且位于多組LED燈珠的頂部均...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種OPC建模量測圖形數(shù)據(jù)選擇方法。方法包括：提供對應(yīng)半導(dǎo)體器件特定層的掩模版數(shù)據(jù)文件和OPC初始模型；從掩模版數(shù)據(jù)文件中，選取實(shí)際特征尺寸屬于第一特征尺寸范圍的掩模圖形作為測試圖形，所有測試圖...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種車輛底盤控制器及冷備份控制系統(tǒng)和方法，包括主控制系統(tǒng)、備份控制系統(tǒng)以及備份切換電路，主控制系統(tǒng)包括主控制器MCU1和與MCU1連接的主電源芯片SBC，備份控制系統(tǒng)包括備份控制器MCU2和與MCU2連接的備份電源，供電電源Vi...
								
            
							
            
							
						
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								      一種被配置為將EUV輻射投影到襯底位置的光刻設(shè)備，該光刻設(shè)備包括：照射系統(tǒng)，該照射系統(tǒng)包括用于沿著束路徑引導(dǎo)EUV輻射的多個反射表面；以及IR源，該IR源被配置為產(chǎn)生IR輻射；其中所述IR源和照射系統(tǒng)被布置為使得IR輻射沿著束路徑投影。
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，具體地說，是涉及一種底切結(jié)構(gòu)的形成方法及底切結(jié)構(gòu)，該底切結(jié)構(gòu)的形成方法包括：在晶圓上形成第一正性光刻膠層；對第一正性光刻膠層分別進(jìn)行兩次曝光，以形成第一底部曝光圖形和第二底部曝光圖形，其中，第一底部曝光圖形和第二底...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種底面壓印裝置，屬于壓印裝置技術(shù)領(lǐng)域，包括鋼帶、驅(qū)動組件、第一連接件、第二連接件和控制組件。鋼帶上印有圖案。鋼帶兩端分別連接第一連接件和第二連接件，驅(qū)動組件連接于第一連接件，驅(qū)動組件能夠驅(qū)動第一連接件轉(zhuǎn)動，第一連接件帶動鋼...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種頂面壓印裝置，屬于壓印裝置技術(shù)領(lǐng)域，包括移動平臺、基座和壓輥組件，移動平臺上設(shè)置有第一驅(qū)動組件，基座通過第一驅(qū)動組件連接于移動平臺，第一驅(qū)動組件包括第一驅(qū)動件，第一驅(qū)動件能夠帶動基座沿第一方向移動，第一方向平行于壓印件的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種模型性能評估方法、裝置、設(shè)備與存儲介質(zhì)，屬于計(jì)算機(jī)信息處理技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過獲取實(shí)驗(yàn)組新模型的第一拒絕率和對照組與實(shí)驗(yàn)組的實(shí)際樣本數(shù)比值，根據(jù)所述第一拒絕率和所述實(shí)際樣本數(shù)比值，計(jì)算得到對照組的還原權(quán)重，獲取對照組的壞樣本...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及光刻膠涂布技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種光刻膠涂布裝置，包括基板，所述基板的頂部固定安裝有用于進(jìn)行承載的環(huán)座，且所述環(huán)座的內(nèi)部固定安裝有用于進(jìn)行吸附固定的吸附座，且所述吸附座的底部與真空泵固定連接在一起，所述基板的頂部還固定安裝有用于...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種曝光裝置、曝光方法和物品的制造方法。一種曝光裝置，使來自光源的光經(jīng)由原版曝光到基板，其中，該曝光裝置具備包含與原版或者基板接觸的接觸部件的接觸機(jī)構(gòu)，接觸部件至少由在與原版或者基板接觸的面附加有氮原子的氟橡膠構(gòu)成。
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種UV?LED移動掃描式光刻方法及裝置，包括有如下步驟：選擇使用指定范圍內(nèi)的UV?LED燈組從線性照度計(jì)上方勻速移動經(jīng)過，各個測量單元采集其正上方的輻射照度，對應(yīng)的電流調(diào)整模塊分別記錄對應(yīng)的電流值；計(jì)算各自接受的累積輻射照度，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種光刻膠剝離液組合物及其制備方法和應(yīng)用，涉及光刻膠剝離材料技術(shù)領(lǐng)域。通過加入酰胺類溶劑，并控制其Hansen溶度參數(shù)δ達(dá)到接近光刻膠溶度參數(shù)的范圍，使得光刻膠剝離液組合物溶解光刻膠的能力達(dá)到最大化。同時(shí)由于酰胺類溶劑的存在，醇...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種低腐蝕光刻膠剝離液及其制備方法與應(yīng)用，所述低腐蝕光刻膠剝離液包括重量配比如下的各組分：有機(jī)堿1?15份；胺類化合物2?10份；有機(jī)溶劑70?90份；腐蝕抑制劑0.1?4份；所述腐蝕抑制劑包括多肽類化合物和多糖化合物。本發(fā)明還公...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請實(shí)施例提供了一種雙軸定位運(yùn)動裝置，包括運(yùn)動平臺、激光發(fā)射裝置、第一激光處理部件、第二激光處理部件、驅(qū)動部件和中控裝置，中控裝置與驅(qū)動部件、第一激光處理部件和第二激光處理部件塊均對應(yīng)連接，以使中控裝置能夠根據(jù)第一激光處理部件、第二激光處...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開一種微電子器件的制備方法，涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域。制備方法包括：提供一基底，并在基底上涂覆預(yù)設(shè)厚度的光刻膠；對光刻膠依次進(jìn)行曝光、顯影，制備獲得圖形化光刻膠；在圖形化光刻膠上進(jìn)行金屬沉積，并在光刻膠剝離后形成微電子器件；其中，光刻...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開涉及掃描曝光裝置、掃描曝光方法以及物品制造方法。掃描曝光裝置針對由照明光學(xué)系統(tǒng)照明的照明區(qū)域掃描原版，并且一邊與原版的掃描同步地掃描基板，一邊對基板進(jìn)行掃描曝光。掃描曝光裝置具備：第1調(diào)整機(jī)構(gòu)，在進(jìn)行基板的第1區(qū)域的掃描曝光以及與第1...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開涉及一種光掩模及其制造方法，光掩模包括：透明基板，包括相位反轉(zhuǎn)區(qū)域和與相位反轉(zhuǎn)區(qū)域相鄰的遮光區(qū)域；相位反轉(zhuǎn)膜，設(shè)置在透明基板上的相位反轉(zhuǎn)區(qū)域和遮光區(qū)域中，并且限定有在相位反轉(zhuǎn)區(qū)域中暴露透明基板的上表面的第1?1開口和在遮光區(qū)域中暴露透...
								
            
							
            
							
						
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