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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種廣角星空投影燈，包括主體、光源、菲林托盤和投影鏡頭，菲林托盤可分離地插入至光源和投影鏡頭之間形成的空間中；光源和菲林托盤之間配置有聚光裝置，聚光裝置適于將光源發(fā)出的光線聚集在菲林所在的區(qū)域內(nèi)；投影鏡頭內(nèi)在菲林的投影方向上...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及光熱發(fā)電及熔鹽電加熱技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種中溫光熱儲熱耦合高溫電加熱的發(fā)電系統(tǒng)，包括：聚光集熱模塊、儲能模塊和動力發(fā)電模塊。儲能模塊中的中溫儲能裝置和高溫儲能裝置分別與聚光集熱模塊的換熱進(jìn)口、出口連接，電加熱裝置與高溫儲能裝置連接。...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開一種投影屏幕，投影屏幕上設(shè)置有用于匯聚投影光線的微結(jié)構(gòu)層，所述微結(jié)構(gòu)層包括在投影屏幕的平面方向上呈同心圓環(huán)狀排列的截面呈鋸齒狀的若干單元透鏡，每個(gè)單元透鏡分別將投影光線匯聚至一個(gè)匯聚點(diǎn)，所有的匯聚點(diǎn)都處于垂直于投影屏幕的同一直線上...
								
            
							
            
							
						
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								      一種用于測量襯底的測量裝置，所述測量裝置包括：光學(xué)傳感器，所述光學(xué)傳感器被配置為通過發(fā)射光束對襯底的表面進(jìn)行測量；流體供應(yīng)裝置，所述流體供應(yīng)裝置被配置為供應(yīng)調(diào)節(jié)流體，所述調(diào)節(jié)流體橫穿所述光束并在位于所述測量裝置與所述襯底的表面之間的狹縫中流...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及G03F技術(shù)領(lǐng)域，更具體地，本發(fā)明涉及一種阻焊干膜及其制備方法。阻焊干膜，按重量份計(jì)，制備原料包括15?40份酸酐改性環(huán)氧丙烯酸樹脂、20?30份丙烯酸酯、10?20份固化劑、1?10份光引發(fā)劑、2?40份溶劑。本申請得到的阻焊干...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種感光性樹脂組合物及光刻膠。該感光性樹脂組合物包括樹脂，樹脂包括至少兩種感光性樹脂，兩種感光性樹脂各自獨(dú)立地具有結(jié)構(gòu)式I所示結(jié)構(gòu)，且其中一種感光性樹脂為高分子量感光性樹脂且其重均分子量為6300～7800，另一種感光性樹脂低分...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種黃光蝕刻方法，屬于超薄脆性材料精密加工技術(shù)領(lǐng)域。本方案首先在基材的待加工面制備耐強(qiáng)堿的保護(hù)層，然后在保護(hù)層上制備光阻層，通過黃光工藝在光阻層上形成紋理圖案，接著去除紋理圖案下露出的保護(hù)層、根據(jù)紋理圖案對基材進(jìn)行第一次堿性蝕刻...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種收納體積小的投影幕支架，包括連接盤、多根第一支撐桿和兩根支腿，所述第一支撐桿與連接盤旋轉(zhuǎn)連接，多根所述第一支撐桿環(huán)繞連接盤的外側(cè)排布，所述第一支撐桿上設(shè)有第一彈性掛件，所述第一彈性掛件上延伸有第一卡扣，所述第一卡扣卡入第...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開提供了一種安裝結(jié)構(gòu)、鏡頭組件與拍攝設(shè)備，該安裝結(jié)構(gòu)用于拍攝設(shè)備的支架與蓋體的拆裝，安裝結(jié)構(gòu)包括鎖緊結(jié)構(gòu)，鎖緊結(jié)構(gòu)包括分別設(shè)置于蓋體和支架的限位凹部和限位件，限位件包括可伸入或退出限位凹部的限位凸部。
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種具有電子可調(diào)增益的儀器放大器。通過電子地控制耦接到該儀器放大器的反饋部分的電阻來調(diào)節(jié)該增益。通過由在該儀器放大器的輸入處出現(xiàn)的共模電壓的電阻器控制信號基準(zhǔn)控制的開關(guān)來調(diào)節(jié)該電阻。因此，該儀器放大器能夠適應(yīng)共模電壓的高電壓范圍...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提供一種光刻膠減壓干燥裝置，尤其涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，包括箱體，該光刻膠減壓干燥裝置，在使用時(shí)，將涂膠后的半導(dǎo)體放置在放置板上，然后關(guān)閉箱體，啟動第一真空泵，打開控制閥，通過第一抽氣管將箱體內(nèi)的氣體吸出，并排出，從而實(shí)現(xiàn)減壓干燥...
								
            
							
            
							
						
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								      一種調(diào)整模塊、光機(jī)模塊及包括調(diào)整模塊及光機(jī)模塊的投影裝置。投影裝置包含光源模塊，光源模塊提供照明光束。光機(jī)模塊用以接收照明光束，光機(jī)模塊將照明光束轉(zhuǎn)換為影像光束。調(diào)整模塊位于光源模塊與光機(jī)模塊的入光部之間。光源模塊鎖固于調(diào)整模塊的基板。調(diào)整...
								
            
							
            
							
						
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								      公開了一種確定采樣方案的方法。該方法包括獲得并行傳感器描述，基于所述并行傳感器描述和潛在量測位置來識別多個(gè)候選獲取配置。在評估度量方面評估每個(gè)所述候選獲取配置，并且基于所述評估來選擇候選獲取配置。將所選擇的獲取配置的相應(yīng)量測位置添加到采樣方...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種便攜式攝影箱，涉及攝影箱領(lǐng)域，包括箱板。本實(shí)用新型通過設(shè)置有箱板、把手、移動槽、轉(zhuǎn)動板、第一轉(zhuǎn)動軸和第二轉(zhuǎn)動軸，代替了現(xiàn)有技術(shù)多組板塊拼接安裝的方式，無需工作人員進(jìn)行拼裝，只需拉動把手使得轉(zhuǎn)動板發(fā)生轉(zhuǎn)動，在阻尼轉(zhuǎn)軸的作用...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種套刻誤差補(bǔ)償方法及系統(tǒng)。所述方法包括：STEP1：獲取目標(biāo)硅片的每個(gè)曝光場中心標(biāo)記的X向坐標(biāo)設(shè)定值、Y向坐標(biāo)設(shè)定值、X向套刻誤差和Y向套刻誤差；STEP2：獲取所述目標(biāo)硅片的每個(gè)標(biāo)記的X向坐標(biāo)設(shè)定值、Y向坐標(biāo)設(shè)定值、X向套刻誤...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及相位移掩膜生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種防止漏光的相位移掩膜，掩膜包括多個(gè)主圖形區(qū)、劃片道區(qū)以及漏光保護(hù)區(qū)，每一個(gè)主圖形區(qū)包括白區(qū)和圖案區(qū)，劃片道區(qū)由下至上依次包括透明基板、部分透光層和不透光擋層，漏光保護(hù)區(qū)設(shè)置于劃片道區(qū)最外圍切割道的...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提供了一種曝光裝置，屬于曝光技術(shù)領(lǐng)域。該曝光裝置包括：工作臺、多個(gè)標(biāo)記燈組件、多個(gè)輔助燈組件、視覺組件、曝光組件。其中工作臺包括用于放置待曝光工件的預(yù)設(shè)區(qū)域；多個(gè)標(biāo)記燈組件設(shè)置在預(yù)設(shè)區(qū)域內(nèi)，待曝光工件正面曝光時(shí)在待曝光工件的反面形...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種開關(guān)式支撐機(jī)構(gòu)，適用于雙層光罩容器的內(nèi)盒基座。開關(guān)式支撐機(jī)構(gòu)與內(nèi)盒基座之間建立一靜電消散導(dǎo)通路徑的開關(guān)，當(dāng)開關(guān)式支撐機(jī)構(gòu)的支撐件受到光罩下壓并接觸到內(nèi)盒基座的瞬間，即開啟靜電消散導(dǎo)通路徑，使光罩正面所累積靜電荷進(jìn)行導(dǎo)通消散。反...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及PCB板生產(chǎn)的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種PCB板加工的曝光設(shè)備及其方法，包括，曝光機(jī)構(gòu)，其包括曝光臺，所述曝光臺頂部的左側(cè)固定連接有曝光器，所述曝光臺的頂部滑動連接有放置盒，所述曝光臺左側(cè)的兩側(cè)均固定連接有電動伸縮桿，所述電動伸縮桿的...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種多功能投影香薰機(jī)，包括：機(jī)殼、香薰機(jī)組件、投影組件和音樂組件；所述香薰機(jī)組件包括用于容納香薰的第一容納倉，所述第一容納倉內(nèi)設(shè)有槽口；所述槽口內(nèi)設(shè)有第二容納倉，所述投影組件位于所述第二容納倉內(nèi)；所述投影組件包括彩燈、凸透鏡...
								
            
							
            
							
						
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