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          攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
          • 本申請?zhí)峁┝艘环N光刻膠組合物及其用途,其中,光刻膠組合物通過添加含多羥基苯基化合物的添加劑,一方面提高了非曝光區(qū)的溶解速率,解決了顯影后光刻膠圖形表面有殘留物的問題,另一方面由于光刻膠組合物的結(jié)構(gòu)上可交聯(lián)的羥基數(shù)目多,曝光區(qū)交聯(lián)密度大,使曝...
          • 本公開涉及用于EUV光刻的保護(hù)膜結(jié)構(gòu)及其制造方法。一種形成保護(hù)膜的方法包括:生長碳納米管(CNT),用由不同的材料制成的一個或多個納米管包裹所述CNT,以及去除所述CNT。可以在過濾器之上生長所述CNT,并且隨后去除所述過濾器。可以使所述C...
          • 本發(fā)明涉及有機(jī)膜形成材料、圖案形成方法以及化合物。本發(fā)明的目的是提供一種化合物,能形成不僅耐熱性、形成于基板的圖案的填埋、平坦化特性優(yōu)良,且對于基板的成膜性、密接性良好的有機(jī)下層膜,并提供含有該化合物的有機(jī)膜形成材料。本發(fā)明的解決手段是一種...
          • 本發(fā)明提供一種T型柵模板及其制備方法和應(yīng)用,屬于半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域。所述T型柵模板由透明材料制成,包括基板、位于所述基板上的第一凸起結(jié)構(gòu)和位于所述第一凸起結(jié)構(gòu)上的第二凸起結(jié)構(gòu);所述第一凸起結(jié)構(gòu)的側(cè)面覆蓋有遮光層;所述第二凸起結(jié)構(gòu)的側(cè)面覆蓋有...
          • 本發(fā)明涉及聚合物、化學(xué)增幅負(fù)型抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案形成方法。本發(fā)明的課題是提供:含有具有優(yōu)良的蝕刻耐性、有機(jī)溶劑溶解性、及適當(dāng)?shù)乃釓?qiáng)度,且可產(chǎn)生擴(kuò)散小的酸的聚合物鍵結(jié)型酸產(chǎn)生劑的化學(xué)增幅負(fù)型抗蝕劑組成物,以及使用該化學(xué)增幅抗蝕劑組成物的...
          • 本發(fā)明公開了一種基于分?jǐn)?shù)軌道角動量復(fù)用全息的信息存儲裝置和方法,涉及全息技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將分?jǐn)?shù)軌道角動量到整數(shù)軌道角動量的任意轉(zhuǎn)換與傳統(tǒng)的整數(shù)軌道角動量全息結(jié)合,實現(xiàn)分?jǐn)?shù)軌道角動量復(fù)用全息。本發(fā)明相鄰?fù)ǖ赖耐負(fù)浜蓴?shù)間隔可以小于1,提高了容量...
          • 本發(fā)明公開了一種鏡頭驅(qū)動裝置,包括外殼、框架、載體、底座、上簧片和下簧片,框架設(shè)有磁石組,載體設(shè)有第一線圈,底座設(shè)有第二線圈,第一線圈與磁石組配合驅(qū)動載體沿光軸方向運(yùn)動,第二線圈與磁石組配合驅(qū)動框架和載體在垂直于光軸的平面上運(yùn)動,以及在框架...
          • 一種光學(xué)成像裝置,包含多個光學(xué)鏡片。多個光學(xué)鏡片沿一光軸配置,以朝向一取像方向進(jìn)行取像,并成像于一成像面。多個光學(xué)鏡片區(qū)分為至少一組固定鏡片組以及至少一組可動鏡片組;其中,固定鏡片組為固定設(shè)置,且可動鏡片組用以相對于固定鏡片組位移,以對光學(xué)...
          • 本申請公開了一種異形密封圈、使用該異形密封圈光學(xué)鏡頭及電子產(chǎn)品。該異形密封圈包括:密封圈本體和與所述密封圈本體連接的密封圈尾部,所述異形密封圈位于鏡筒與所述鏡筒內(nèi)安裝的鏡片之間,其中,所述密封圈本體與所述鏡筒及所述鏡片的外側(cè)邊緣過盈配合,所...
          • 本發(fā)明涉及感光性樹脂組合物、使用該組合物制備的感光性樹脂膜和濾色器,該感光性樹脂組合物包含(A)著色劑、(B)光可聚合化合物、(C)光聚合引發(fā)劑、(D)粘合劑樹脂和(E)溶劑,其中:(A)著色劑包括第一綠色染料、第二綠色染料和白色顏料;并且...
          • 本實用新型公開了一種納米晶塊壓印機(jī)構(gòu),包括支撐架,所述支撐架的頂部設(shè)有壓印組件,所述支撐架的底部內(nèi)壁固定連接有凸塊,凸塊的頂部轉(zhuǎn)動固定連接有轉(zhuǎn)動桿,轉(zhuǎn)動桿的頂端固定連接有連接板,連接板通過可拆卸的固定組件與凸塊相固定,所述連接板的兩側(cè)均固定...
          • 本申請?zhí)峁┮环N新型不透光二元光掩模制備方法,包括以下步驟:在曝光工藝中,增加曝光劑量以使曝光區(qū)域的光化學(xué)反應(yīng)更充分,從而提高已曝光區(qū)域和未曝光區(qū)域溶解度的差異;在顯影工藝中,對顯影液采用噴淋方式并調(diào)節(jié)顯影液參數(shù)以確保顯影液均勻覆蓋光掩模表面...
          • 本發(fā)明提供了一種車輛底盤控制器及冷備份控制系統(tǒng)和方法,包括主控制系統(tǒng)、備份控制系統(tǒng)以及備份切換電路,主控制系統(tǒng)包括主控制器MCU1和與MCU1連接的主電源芯片SBC,備份控制系統(tǒng)包括備份控制器MCU2和與MCU2連接的備份電源,供電電源Vi...
          • 本實用新型涉及曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種曝光機(jī)解析度提升結(jié)構(gòu),包括燈板,所述燈板的底部固定安裝有散熱器,所述燈板的頂部固定安裝有多組LED燈珠,所述燈板的頂部且位于LED燈珠的外側(cè)固定安裝有燈罩,所述燈罩的內(nèi)側(cè)且位于多組LED燈珠的頂部均...
          • 本發(fā)明提供一種UV光源的復(fù)合式機(jī)械減振支撐裝置,屬于光刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,包括基座、UV光源和減振模塊,減振模塊包括連接件和支撐緩沖件,UV光源通過連接件連接至支撐緩沖件,支撐緩沖件環(huán)繞UV光源軸線對稱分布,支撐緩沖件還連接至基座;基座上安裝有...
          • 本申請涉及半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種OPC建模量測圖形數(shù)據(jù)選擇方法。方法包括:提供對應(yīng)半導(dǎo)體器件特定層的掩模版數(shù)據(jù)文件和OPC初始模型;從掩模版數(shù)據(jù)文件中,選取實際特征尺寸屬于第一特征尺寸范圍的掩模圖形作為測試圖形,所有測試圖...
          • 一種被配置為將EUV輻射投影到襯底位置的光刻設(shè)備,該光刻設(shè)備包括:照射系統(tǒng),該照射系統(tǒng)包括用于沿著束路徑引導(dǎo)EUV輻射的多個反射表面;以及IR源,該IR源被配置為產(chǎn)生IR輻射;其中所述IR源和照射系統(tǒng)被布置為使得IR輻射沿著束路徑投影。
          • 本實用新型公開了一種底面壓印裝置,屬于壓印裝置技術(shù)領(lǐng)域,包括鋼帶、驅(qū)動組件、第一連接件、第二連接件和控制組件。鋼帶上印有圖案。鋼帶兩端分別連接第一連接件和第二連接件,驅(qū)動組件連接于第一連接件,驅(qū)動組件能夠驅(qū)動第一連接件轉(zhuǎn)動,第一連接件帶動鋼...
          • 本申請涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,具體地說,是涉及一種底切結(jié)構(gòu)的形成方法及底切結(jié)構(gòu),該底切結(jié)構(gòu)的形成方法包括:在晶圓上形成第一正性光刻膠層;對第一正性光刻膠層分別進(jìn)行兩次曝光,以形成第一底部曝光圖形和第二底部曝光圖形,其中,第一底部曝光圖形和第二底...
          • 本實用新型公開了一種頂面壓印裝置,屬于壓印裝置技術(shù)領(lǐng)域,包括移動平臺、基座和壓輥組件,移動平臺上設(shè)置有第一驅(qū)動組件,基座通過第一驅(qū)動組件連接于移動平臺,第一驅(qū)動組件包括第一驅(qū)動件,第一驅(qū)動件能夠帶動基座沿第一方向移動,第一方向平行于壓印件的...
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