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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本發明公開一種圖像形成裝置。所述圖像形成裝置包括被固定于圖像形成裝置并且被配置為引導由輥對排出的片材的上表面的上部引導單元，被設置在從圖像形成裝置的上部外殼單元凹陷的位置的堆疊單元，以及包括顯示單元的操作單元。被排出的片材堆疊在所述堆疊單元...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種實現近距離成像的展臺結構，包括LCD光機和拉近模組，所述LCD光機用于投影原始圖像源，所述拉近模組用于調整經過的投影光線的焦距以降低投影成像的距離，所述拉近模組包括至少兩個拉近鏡片組件，所述拉近鏡片組件為菲涅爾透鏡、球面透鏡...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種廣角星空投影燈，包括主體、光源、菲林托盤和投影鏡頭，菲林托盤可分離地插入至光源和投影鏡頭之間形成的空間中；光源和菲林托盤之間配置有聚光裝置，聚光裝置適于將光源發出的光線聚集在菲林所在的區域內；投影鏡頭內在菲林的投影方向上...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及光熱發電及熔鹽電加熱技術領域，公開了一種中溫光熱儲熱耦合高溫電加熱的發電系統，包括：聚光集熱模塊、儲能模塊和動力發電模塊。儲能模塊中的中溫儲能裝置和高溫儲能裝置分別與聚光集熱模塊的換熱進口、出口連接，電加熱裝置與高溫儲能裝置連接。...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開一種投影屏幕，投影屏幕上設置有用于匯聚投影光線的微結構層，所述微結構層包括在投影屏幕的平面方向上呈同心圓環狀排列的截面呈鋸齒狀的若干單元透鏡，每個單元透鏡分別將投影光線匯聚至一個匯聚點，所有的匯聚點都處于垂直于投影屏幕的同一直線上...
								
            
							
            
							
						
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								      一種用于測量襯底的測量裝置，所述測量裝置包括：光學傳感器，所述光學傳感器被配置為通過發射光束對襯底的表面進行測量；流體供應裝置，所述流體供應裝置被配置為供應調節流體，所述調節流體橫穿所述光束并在位于所述測量裝置與所述襯底的表面之間的狹縫中流...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及G03F技術領域，更具體地，本發明涉及一種阻焊干膜及其制備方法。阻焊干膜，按重量份計，制備原料包括15?40份酸酐改性環氧丙烯酸樹脂、20?30份丙烯酸酯、10?20份固化劑、1?10份光引發劑、2?40份溶劑。本申請得到的阻焊干...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種感光性樹脂組合物及光刻膠。該感光性樹脂組合物包括樹脂，樹脂包括至少兩種感光性樹脂，兩種感光性樹脂各自獨立地具有結構式I所示結構，且其中一種感光性樹脂為高分子量感光性樹脂且其重均分子量為6300～7800，另一種感光性樹脂低分...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種黃光蝕刻方法，屬于超薄脆性材料精密加工技術領域。本方案首先在基材的待加工面制備耐強堿的保護層，然后在保護層上制備光阻層，通過黃光工藝在光阻層上形成紋理圖案，接著去除紋理圖案下露出的保護層、根據紋理圖案對基材進行第一次堿性蝕刻...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種收納體積小的投影幕支架，包括連接盤、多根第一支撐桿和兩根支腿，所述第一支撐桿與連接盤旋轉連接，多根所述第一支撐桿環繞連接盤的外側排布，所述第一支撐桿上設有第一彈性掛件，所述第一彈性掛件上延伸有第一卡扣，所述第一卡扣卡入第...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開提供了一種安裝結構、鏡頭組件與拍攝設備，該安裝結構用于拍攝設備的支架與蓋體的拆裝，安裝結構包括鎖緊結構，鎖緊結構包括分別設置于蓋體和支架的限位凹部和限位件，限位件包括可伸入或退出限位凹部的限位凸部。
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種具有電子可調增益的儀器放大器。通過電子地控制耦接到該儀器放大器的反饋部分的電阻來調節該增益。通過由在該儀器放大器的輸入處出現的共模電壓的電阻器控制信號基準控制的開關來調節該電阻。因此，該儀器放大器能夠適應共模電壓的高電壓范圍...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供一種光刻膠減壓干燥裝置，尤其涉及半導體生產技術領域，包括箱體，該光刻膠減壓干燥裝置，在使用時，將涂膠后的半導體放置在放置板上，然后關閉箱體，啟動第一真空泵，打開控制閥，通過第一抽氣管將箱體內的氣體吸出，并排出，從而實現減壓干燥...
								
            
							
            
							
						
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								      一種調整模塊、光機模塊及包括調整模塊及光機模塊的投影裝置。投影裝置包含光源模塊，光源模塊提供照明光束。光機模塊用以接收照明光束，光機模塊將照明光束轉換為影像光束。調整模塊位于光源模塊與光機模塊的入光部之間。光源模塊鎖固于調整模塊的基板。調整...
								
            
							
            
							
						
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								      公開了一種確定采樣方案的方法。該方法包括獲得并行傳感器描述，基于所述并行傳感器描述和潛在量測位置來識別多個候選獲取配置。在評估度量方面評估每個所述候選獲取配置，并且基于所述評估來選擇候選獲取配置。將所選擇的獲取配置的相應量測位置添加到采樣方...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種便攜式攝影箱，涉及攝影箱領域，包括箱板。本實用新型通過設置有箱板、把手、移動槽、轉動板、第一轉動軸和第二轉動軸，代替了現有技術多組板塊拼接安裝的方式，無需工作人員進行拼裝，只需拉動把手使得轉動板發生轉動，在阻尼轉軸的作用...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種套刻誤差補償方法及系統。所述方法包括：STEP1：獲取目標硅片的每個曝光場中心標記的X向坐標設定值、Y向坐標設定值、X向套刻誤差和Y向套刻誤差；STEP2：獲取所述目標硅片的每個標記的X向坐標設定值、Y向坐標設定值、X向套刻誤...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及相位移掩膜生產技術領域，公開了一種防止漏光的相位移掩膜，掩膜包括多個主圖形區、劃片道區以及漏光保護區，每一個主圖形區包括白區和圖案區，劃片道區由下至上依次包括透明基板、部分透光層和不透光擋層，漏光保護區設置于劃片道區最外圍切割道的...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供了一種曝光裝置，屬于曝光技術領域。該曝光裝置包括：工作臺、多個標記燈組件、多個輔助燈組件、視覺組件、曝光組件。其中工作臺包括用于放置待曝光工件的預設區域；多個標記燈組件設置在預設區域內，待曝光工件正面曝光時在待曝光工件的反面形...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種開關式支撐機構，適用于雙層光罩容器的內盒基座。開關式支撐機構與內盒基座之間建立一靜電消散導通路徑的開關，當開關式支撐機構的支撐件受到光罩下壓并接觸到內盒基座的瞬間，即開啟靜電消散導通路徑，使光罩正面所累積靜電荷進行導通消散。反...
								
            
							
            
							
						
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