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                  		攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本申請公開了一種加熱控制方法及圖像形成裝置，該加熱控制方法包括：在圖像形成裝置處于打印狀態時，確定所述定影組件由當前溫度或設定時刻的溫度上升至預設目標溫度所需的時間t1，基于預設位置到所述定影組件中心位置的路程、打印介質的行進速度及時間t1...
								
            
							
            
							
						
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								      一種鏡頭驅動機構，包括基板、鏡頭驅動模塊、以及集成電路模塊。鏡頭驅動模塊設置于基板該鏡頭驅動模塊包括：頂殼以及底座，構成外殼并固定地連接該基板，外殼形成容納空間；鏡頭承載件，位于容納空間內并用以承載鏡頭；電路基板，位于容納空間內；驅動組件，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備。提供包括導電性支承體、感光層和保護層的電子照相感光構件，其中保護層包含導電性顆粒，保護層中的導電性顆粒的含量為40體積％至70體積％，并且保護層的體積電阻率為1.0×109
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及顯影輥技術領域，且公開了一種斜錐式快速安裝顯影輥，包括硒鼓主體，所述硒鼓主體內部的兩側均安裝有安裝倉，所述安裝倉的一側安裝有安裝板，所述安裝板的一側安裝有軸承，所述軸承的內部安裝有斜錐式顯影輥。該斜錐式快速安裝顯影輥，當工作人...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及圖像形成技術領域，具體涉及一種處理盒。該處理盒包括感光單元、顯影單元及第一驅動力接收單元，第一驅動力接收單元用于接收來自打印機的第一驅動力以驅動顯影單元中的顯影輥轉動；第一驅動力接收單元包括嚙合構件及聯動構件，嚙合構件與聯動構...
								
            
							
            
							
						
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								      活動遮擋機構包括活動遮擋、活動遮擋支撐部件和彈性部件?；顒诱趽踉谝粋€方向上移動以關閉開口?；顒诱趽踔尾考位顒诱趽?。彈性部件在相反的方向上施力活動遮擋和活動遮擋支撐部件?；顒诱趽醢ㄣ^在活動遮擋支撐部件上的抵靠部，抵靠部被彈性部件施力。...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種帶有外燈罩的投影燈，包括有底座、安裝在所述底座上的且為半透光狀的外燈罩以及分別安裝在所述外燈罩內的且相互配合的投影裝置和反射鏡；所述投影裝置包括有向前依次分布的LED燈、投影片和成像鏡頭；所述反射鏡與所述投影裝置相對設置...
								
            
							
            
							
						
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								      一種光機包括照明模塊和成像模塊。照明模塊包括光源，成像模塊包括液晶面板。光機還包括第一導熱片、第二導熱片和調節件。第一導熱片包括第一端和第二端，第一導熱片的第一端與光源連接。第二導熱片包括第一端和第二端，第二導熱片的第一端與液晶面板連接。調...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種高反射率且具有優異的耐變色性、耐熱性、耐酸性、柔軟性的熱固化性樹脂組合物、干膜、固化物、以及電子部件。所述熱固化性樹脂組合物，其特征在于，含有：(A)以苯氧基樹脂為起始原料的含有羥基和羧基的樹脂、(B)封端異氰酸酯化合物、(C...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提出一種投影儀氣流橫向內循環散熱結構，包括密封殼，所述密封殼的內部安裝有投影機構。本實用新型中，通過導熱片將光源產生的熱量迅速傳導至頂散熱片和底散熱片，實現了多路徑散熱，避免熱量集中，提高散熱效率，而風機A吸入外部冷空氣并通過換熱...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及半導體器件制造技術領域，公開了一種掩模板的制備方法、掩模板及圖案轉移方法，掩模板的制備方法，包括：刻蝕半導體基底，形成掩模窗口；半導體基底一側表面上具有透射層，掩模窗口為半導體基底的另一側表面上暴露透射層的預設區域的開口，透射層對...
								
            
							
            
							
						
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								      一種光刻設備，包括：襯底支撐件，被配置為支撐襯底，該襯底支撐件包括被配置為從靠近襯底的邊緣的位置抽取流體的開口；至少一個處理系統，被配置為處理襯底，處理包括測量襯底或相對于襯底支撐件移動襯底；和控制器，被配置為控制至少一個處理系統，并向開口...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種成像結構以及攝像裝置，成像結構包括攝像頭組件、防護罩、第一控制塊以及光圈調節組件。攝像頭組件包括音圈馬達和鏡頭，鏡頭安裝于音圈馬達內。防護罩蓋接于音圈馬達，第一控制塊安裝于防護罩。光圈調節組件包括底座、多個光圈葉片和多個第二...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及半導體器件制造技術領域，公開了一種掩模板的制備方法、掩模板及圖案轉移方法，掩模板的制備方法包括：提供半導體基底；在半導體基底的一側表面上形成第一透射層；在遠離半導體基底的第一透射層的一側表面上形成多個金屬塊；在遠離半導體基底的第一...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種正性光刻膠組合物及其制備與使用方法，所述光刻膠組合物包括如下質量百分比的各組分：聚合物樹脂，光刻膠組合物總質量的15～25％；萘酰亞胺類光致產酸劑，聚合物樹脂的1.0～6.0％；酸擴散控制劑，萘酰亞胺類光致產酸劑的8～40％；...
								
            
							
            
							
						
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								      提供了一種半導體光刻膠組成物和使用該半導體光刻膠組成物形成圖案的方法。該半導體光刻膠組成物包括含Sn有機金屬化合物、包含至少一個芳基和不飽和鍵的羧酸化合物，以及溶劑。
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種多光斑零位偏差標定方法，包括：提供基板，所述基板上具有至少四個測量點；調焦調平系統將同一光束依次投影到每個所述測量點上進行第一次測量，所述光束包含至少兩個測量光斑，每次投影至所述測量點上時，同一個所述測量光斑與所述測量點對準...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種調焦調平裝置及光刻機，投影微鏡陣列組件的j個投影微鏡組將入射至其上的所述檢測光束轉換為j個投影光斑并投影成像在基底的表面，探測微鏡陣列組件的j個探測微鏡組分別將j個探測光斑分光后形成j個第一標記光斑和j個第二標記光斑，投影微...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及半導體器件制造領域，具體提供一種應用于圖案轉移的掩模板及其制備方法、圖案轉移方法。應用于圖案轉移的掩模板包括：薄膜窗口結構，薄膜窗口結構具有透射作用；薄膜窗口結構包括半導體襯底、位于半導體襯底的一側表面的刻蝕停止層以及位于刻蝕停止...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種厚膜化學增幅型正型抗蝕劑組合物。一種厚膜化學增幅型正型抗蝕劑組合物，其包含具有特定結構的堿可溶性樹脂(A)、光酸產生劑(B)以及溶劑(C)。
								
            
							
            
							
						
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