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          攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種表征套刻精度測(cè)量準(zhǔn)確性的方法,屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。該方法包括:設(shè)計(jì)第一套刻標(biāo)記(當(dāng)層對(duì)當(dāng)層)和第二套刻標(biāo)記(當(dāng)層對(duì)前層);進(jìn)行第一次光刻,測(cè)量第二套刻標(biāo)記獲得最佳補(bǔ)正值并返工晶圓;進(jìn)行第二次光刻,使用最佳補(bǔ)正值曝光第一晶圓,...
          • 本公開(kāi)涉及一種成像設(shè)備,包括可旋轉(zhuǎn)的圖像承載構(gòu)件和可旋轉(zhuǎn)的顯影構(gòu)件,顯影構(gòu)件構(gòu)造成承載由調(diào)色劑顆粒和附著到所述調(diào)色劑顆粒的表面的載體顆粒構(gòu)成的顯影劑。在將所述顯影構(gòu)件壓抵所述圖像承載構(gòu)件的按壓力為F1并且介于所述調(diào)色劑顆粒和所述圖像承載構(gòu)件...
          • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種便于添加碳粉的碳粉盒,涉及激光打印技術(shù)領(lǐng)域,包括上盒蓋和下盒蓋,所述上盒蓋和下盒蓋的內(nèi)部安裝有攪拌機(jī)構(gòu),所述上盒蓋的兩側(cè)固定安裝有上固定邊,所述下盒蓋的兩側(cè)固定安裝有下固定邊,所述下固定邊和上固定邊通過(guò)定位機(jī)構(gòu)相互連接。...
          • 本實(shí)用新型提供了一種具有防漏粉活塞出粉結(jié)構(gòu)的粉筒,包括粉筒本體,所述粉筒本體的一端設(shè)置有螺桿密封結(jié)構(gòu),所述螺桿密封結(jié)構(gòu)包括密封部件和活塞螺桿組件,所述密封部件從外到內(nèi)依次由外密封層、第一雙面膠層、內(nèi)密封層以及第二雙面膠層組成,所述密封部件通...
          • 本發(fā)明涉及定影裝置和成像裝置。定影裝置包括第一旋轉(zhuǎn)部件、加熱元件、第二旋轉(zhuǎn)部件、夾持部件、反射部件和支撐部件。支撐部件被構(gòu)造成能轉(zhuǎn)到加壓狀態(tài)和非加壓狀態(tài),加壓狀態(tài)是支撐部件的第一位置和第二位置被沿加壓方向朝第二旋轉(zhuǎn)部件加壓的狀態(tài),非加壓狀態(tài)...
          • 本實(shí)用新型涉及圖像形成技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種處理盒。該處理盒包括感光單元、顯影單元、第一驅(qū)動(dòng)力接收單元及第二驅(qū)動(dòng)力接收單元,第一驅(qū)動(dòng)力接收單元用于接收來(lái)自打印機(jī)中第一驅(qū)動(dòng)頭的第一驅(qū)動(dòng)力以驅(qū)動(dòng)顯影單元中的顯影輥轉(zhuǎn)動(dòng),第二驅(qū)動(dòng)力接收單元用于接收...
          • 本發(fā)明涉及調(diào)色劑。所述調(diào)色劑包含調(diào)色劑顆粒和外部添加劑,其中外部添加劑包含含有覆蓋氧化鋁顆粒的表面的有機(jī)硅聚合物細(xì)顆粒的復(fù)合體顆粒,氧化鋁顆粒的表面的由有機(jī)硅聚合物細(xì)顆粒的覆蓋率為1至50面積%,并且給定A(nm)作為有機(jī)硅聚合物細(xì)顆粒的一...
          • 本實(shí)用新型涉及打印耗材技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種導(dǎo)電件、支架及處理盒。所述導(dǎo)電件,通過(guò)支架可拆卸安裝在處理盒中,所述導(dǎo)電件包括:導(dǎo)電件主體;第一接觸部,從所述導(dǎo)電件主體沿第一方向延伸與送粉輥接觸;第二接觸部,從所述導(dǎo)電件主體的第一端沿第一方向延...
          • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種加熱控制方法及圖像形成裝置,該加熱控制方法包括:在圖像形成裝置處于打印狀態(tài)時(shí),確定所述定影組件由當(dāng)前溫度或設(shè)定時(shí)刻的溫度上升至預(yù)設(shè)目標(biāo)溫度所需的時(shí)間t1,基于預(yù)設(shè)位置到所述定影組件中心位置的路程、打印介質(zhì)的行進(jìn)速度及時(shí)間t1...
          • 本發(fā)明涉及電子照相感光構(gòu)件、處理盒和電子照相設(shè)備。提供包括導(dǎo)電性支承體、感光層和保護(hù)層的電子照相感光構(gòu)件,其中保護(hù)層包含導(dǎo)電性顆粒,保護(hù)層中的導(dǎo)電性顆粒的含量為40體積%至70體積%,并且保護(hù)層的體積電阻率為1.0×109
          • 本實(shí)用新型涉及顯影輥技術(shù)領(lǐng)域,且公開(kāi)了一種斜錐式快速安裝顯影輥,包括硒鼓主體,所述硒鼓主體內(nèi)部的兩側(cè)均安裝有安裝倉(cāng),所述安裝倉(cāng)的一側(cè)安裝有安裝板,所述安裝板的一側(cè)安裝有軸承,所述軸承的內(nèi)部安裝有斜錐式顯影輥。該斜錐式快速安裝顯影輥,當(dāng)工作人...
          • 本實(shí)用新型涉及圖像形成技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種處理盒。該處理盒包括感光單元、顯影單元及第一驅(qū)動(dòng)力接收單元,第一驅(qū)動(dòng)力接收單元用于接收來(lái)自打印機(jī)的第一驅(qū)動(dòng)力以驅(qū)動(dòng)顯影單元中的顯影輥轉(zhuǎn)動(dòng);第一驅(qū)動(dòng)力接收單元包括嚙合構(gòu)件及聯(lián)動(dòng)構(gòu)件,嚙合構(gòu)件與聯(lián)動(dòng)構(gòu)...
          • 定位部件(40)規(guī)定第一旋轉(zhuǎn)體(11)和第二旋轉(zhuǎn)體(13a)之間的面對(duì)距離,定位部件包括嵌合部(40a)、凹槽(40b)及限制部件(41、45、46)。第一旋轉(zhuǎn)體的被嵌合部(11a)可旋轉(zhuǎn)地嵌入嵌合部。凹槽具有在預(yù)定方向上從開(kāi)口部延伸到抵靠...
          • 活動(dòng)遮擋機(jī)構(gòu)包括活動(dòng)遮擋、活動(dòng)遮擋支撐部件和彈性部件。活動(dòng)遮擋在一個(gè)方向上移動(dòng)以關(guān)閉開(kāi)口。活動(dòng)遮擋支撐部件支撐活動(dòng)遮擋。彈性部件在相反的方向上施力活動(dòng)遮擋和活動(dòng)遮擋支撐部件。活動(dòng)遮擋包括鉤在活動(dòng)遮擋支撐部件上的抵靠部,抵靠部被彈性部件施力。...
          • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種帶有外燈罩的投影燈,包括有底座、安裝在所述底座上的且為半透光狀的外燈罩以及分別安裝在所述外燈罩內(nèi)的且相互配合的投影裝置和反射鏡;所述投影裝置包括有向前依次分布的LED燈、投影片和成像鏡頭;所述反射鏡與所述投影裝置相對(duì)設(shè)置...
          • 一種光機(jī)包括照明模塊和成像模塊。照明模塊包括光源,成像模塊包括液晶面板。光機(jī)還包括第一導(dǎo)熱片、第二導(dǎo)熱片和調(diào)節(jié)件。第一導(dǎo)熱片包括第一端和第二端,第一導(dǎo)熱片的第一端與光源連接。第二導(dǎo)熱片包括第一端和第二端,第二導(dǎo)熱片的第一端與液晶面板連接。調(diào)...
          • 一種鏡頭驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),包括基板、鏡頭驅(qū)動(dòng)模塊、以及集成電路模塊。鏡頭驅(qū)動(dòng)模塊設(shè)置于基板該鏡頭驅(qū)動(dòng)模塊包括:頂殼以及底座,構(gòu)成外殼并固定地連接該基板,外殼形成容納空間;鏡頭承載件,位于容納空間內(nèi)并用以承載鏡頭;電路基板,位于容納空間內(nèi);驅(qū)動(dòng)組件,...
          • 本發(fā)明提供一種高反射率且具有優(yōu)異的耐變色性、耐熱性、耐酸性、柔軟性的熱固化性樹(shù)脂組合物、干膜、固化物、以及電子部件。所述熱固化性樹(shù)脂組合物,其特征在于,含有:(A)以苯氧基樹(shù)脂為起始原料的含有羥基和羧基的樹(shù)脂、(B)封端異氰酸酯化合物、(C...
          • 本實(shí)用新型提出一種投影儀氣流橫向內(nèi)循環(huán)散熱結(jié)構(gòu),包括密封殼,所述密封殼的內(nèi)部安裝有投影機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型中,通過(guò)導(dǎo)熱片將光源產(chǎn)生的熱量迅速傳導(dǎo)至頂散熱片和底散熱片,實(shí)現(xiàn)了多路徑散熱,避免熱量集中,提高散熱效率,而風(fēng)機(jī)A吸入外部冷空氣并通過(guò)換熱...
          • 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件制造技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種掩模板的制備方法、掩模板及圖案轉(zhuǎn)移方法,掩模板的制備方法,包括:刻蝕半導(dǎo)體基底,形成掩模窗口;半導(dǎo)體基底一側(cè)表面上具有透射層,掩模窗口為半導(dǎo)體基底的另一側(cè)表面上暴露透射層的預(yù)設(shè)區(qū)域的開(kāi)口,透射層對(duì)...
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