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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本發明提供一種圖像形成裝置，其能夠裝拆地支承顯影裝置。所述圖像形成裝置包括：容器，能夠在內部收納顯影劑；裝置主體，將所述容器能夠裝拆地支承；檢測裝置，設置于所述裝置主體，用于檢測所述容器的安裝狀態；控制部，基于所述檢測裝置的檢測結果，判斷所...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種外接鏡頭模組及電子設備，該外接鏡頭模組用于連接至電子設備，外接鏡頭模組包括外接鏡頭、安裝支架及旋轉環，外接鏡頭的定位柱用于嵌設于定位孔；安裝支架與外接鏡頭之間沿光軸方向具有活動間隙且為滑動連接，沿外接鏡頭的周向相對固定；彈性...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種正性感光聚苯并惡唑樹脂組合物、制備方法及其應用，由以下重量份的成分組成：100重量份的芳香含硅聚苯并惡唑前驅體聚合物、1?50重量份的感光劑、80?800重量份的溶劑和添加劑組成；經過涂布、前烘、曝光、顯影和熱固化步驟，完成...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種i線光刻膠及其制備方法和應用。本發明公開的i線光刻膠組合物的制備方法包括下列步驟：將i線光刻膠組合物的各組分混合均勻，即可；所述i線光刻膠組合物包括以下組分：樹脂、光敏劑、有機硅流平劑和有機溶劑；所述樹脂包括下述重量份數的組...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及正型感光性樹脂組合物、經圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經圖案化的抗蝕劑膜。本發明的課題在于提供能夠形成截面形狀良好的經圖案化的抗蝕劑膜且敏感度高的正型感光性樹脂組合物、使用該正型感光性樹脂組合物的經圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、和由...
								
            
							
            
							
						
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								      本案的實施方式包括一種用于圖案化層狀結構的光刻設備、圖案化系統及方法。圖案化系統包括圖像形成裝置及反應層。圖案化系統允許在單一操作中創建光刻圖案。光刻設備包括圖案化系統和光學系統。光刻設備與圖像形成裝置一起使用多個波長的光，以在反應層上創建...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種光刻關鍵尺寸的修正方法，旨在解決因襯底圖形密度不同導致的光刻關鍵尺寸不均勻問題。該方法包括：獲取待光刻晶圓的襯底圖形信息，并根據襯底圖形的密度將襯底表面劃分為具有不同襯底圖形密度的至少兩個區域；然后，針對各區域的襯底圖形密度...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種微距3D材質掃描裝置與方法，包括側拍組件、俯拍組件、轉臺組件及光源調節組件；轉臺組件設置有置物臺及可圍繞置物臺而轉動的轉臺，轉臺轉動過程中置物臺保持不動；側拍組件的相機取景鏡頭向下傾斜并朝向置物臺表面；俯拍組件的相機取景鏡頭豎...
								
            
							
            
							
						
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								      一種圖像形成裝置及圖像形成方法，所述圖像形成裝置為將包含色調劑及載體A的雙組分顯影劑容納于顯影機內，且對應于由顯影消耗的色調劑而補充色調劑，并且補充補充用載體B的滴流顯影方式，其中，所述載體A具有磁性芯材A及包覆所述磁性芯材A的樹脂包覆層A...
								
            
							
            
							
						
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								      一種定影部件、定影裝置及圖像形成裝置，所述定影部件具有如下表面層，該表面層相對于熔點為90℃且針入度為3(1/10mm)的費托蠟，在150℃的滑落角為25度以下。
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種帶有雙層清潔刮刀的硒鼓，包括硒鼓本體與刮刀組件，其中刮刀組件可與硒鼓本體外壁貼合，刮刀組件具有機殼、支架、安裝柱、鎖緊套、雙層刮刀、外延架、浮動支架與安裝座，其中支架集成于機殼內部兩側，兩側支架的前端轉動安裝有安裝柱，兩...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種所獲得的圖案的形狀優異的圖案形成方法、用于上述圖案形成方法的感光性樹脂組合物、包括上述圖案形成方法的層疊體的制造方法及包括上述圖案形成方法的電子器件的制造方法。圖案形成方法包括：第一區域曝光工序，對由感光性樹脂組合物構成的感光...
								
            
							
            
							
						
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								      粉盒，至少包括：容納顯影劑的粉倉、可轉動地設置于所述粉倉內的磁輥、設置于所述粉倉一端的齒輪端蓋；所述磁輥設置于所述粉倉的兩端壁之間；所述齒輪端蓋上設置有安裝軸套的軸套安裝部，所述軸套設置于所述軸套安裝部上；所述磁輥的一端和磁輥齒輪相連，所述...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請實施例提供了一種盒、盒組及圖像形成裝置，盒可拆卸地設置在圖像形成裝置本體上；圖像形成裝置包括容納腔、導電單元、配合單元及電信號響應單元；盒上設有裝配單元，用于與配合單元相配合，使得盒可以在容納腔中安裝至預定位置；電信號觸發組件用于，當...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種多通道紙箱印刷設備，涉及印刷設備技術領域，包括工作臺組件，工作臺組件設置有兩組，兩組工作臺組件頂面設置有打印腔室，兩組打印腔室一側設置有凈化氣體組件；工作臺組件包括支撐臺，支撐臺頂部設置有通槽，通槽一側滑動連接有阻擋板，...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開提供一種光學元件驅動機構。光學元件驅動機構包括活動組件、固定部、驅動組件、電路組件。活動組件用以連接光學元件，活動組件可相對固定部運動，驅動組件用以驅動活動部相對固定部運動。電路組件連接活動組件與固定部。
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供一種充電輥加工用穿棉機，涉及穿棉機技術領域，包括底殼，所述底殼的頂部固定安裝有框架一，所述框架一的頂部固定安裝有框架二，所述框架二的內表面開設有放置槽。本實用新型通過拉動拉桿使其帶動限位插柱在預留孔的內部滑動，限位插柱在滑動的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種新型Metal Mesh產品的生產工藝，包括如下步驟：1)清洗玻璃基板；2)在玻璃基板表面鍍一層Metal，作為第一Metal；3)曝光、顯影及蝕刻第一Metal；4)在第一Metal上制作第一OC層；5)在第一OC層鍍一層...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請實施例公開一種套刻誤差補償方法及系統、存儲介質。套刻誤差補償方法，包括提供N個晶圓組，N個晶圓組中的每一晶圓組包括M個晶圓，M個晶圓中的每個晶圓包括當層和前層；其中，N和M均為大于等于2的正整數；根據當層和前層的器件結構確定每個晶圓的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種多反饋源的套刻精度補償方法及系統，屬于半導體領域。該多反饋源的套刻精度補償方法包括提供一與工藝工程相匹配套刻標識，所述套刻標識包括前層標識和當層標識；量測前層刻蝕圖案和當層刻蝕圖案的參數，獲取前層標識與當層標識的套刻精度；設...
								
            
							
            
							
						
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