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          • 本發(fā)明涉及上電極板加工技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種CVD反應(yīng)腔室的上電極板加工用清洗裝置,包括兩側(cè)傾斜設(shè)計(jì)的三角支撐架,三角支撐架一側(cè)斜面上放置有待清洗的鋁板,所述三角支撐架的外部一側(cè)設(shè)置有對(duì)待清洗鋁板清洗用的清洗裝置,清洗裝置沿著待清洗鋁板表面以...
          • 一種干冰清洗機(jī)及其使用方法,它涉及清洗技術(shù)領(lǐng)域,包括機(jī)體、上料輸送線(xiàn)和下料輸送線(xiàn)、用于承載工件的載具、定位頂升機(jī)構(gòu)、干冰清洗機(jī)構(gòu)以及設(shè)于中轉(zhuǎn)移載機(jī)構(gòu);上料輸送線(xiàn)用于將承載有工件的載具輸送至定位頂升機(jī)構(gòu)處;定位頂升機(jī)構(gòu)用于對(duì)載具進(jìn)行定位固定;...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于發(fā)動(dòng)機(jī)排氣接管生產(chǎn)線(xiàn)的高壓清洗設(shè)備,涉及發(fā)動(dòng)機(jī)排氣接管生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,包括框體和主水管,所述框體的內(nèi)側(cè)設(shè)置有不銹鋼網(wǎng)帶輸送機(jī),所述不銹鋼網(wǎng)帶輸送機(jī)入口端設(shè)置有與框體內(nèi)壁固定連接的導(dǎo)流板,所述主水管的一端連通有噴淋頭,所述不...
          • 本發(fā)明涉及物品清潔技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種用于體育用品的清潔裝置,包括有,支撐架和設(shè)置于所述支撐架頂板上的內(nèi)外清洗組件,所述內(nèi)外清洗組件包括有設(shè)置于所述支撐架頂板上的內(nèi)清洗組件和設(shè)置于所述內(nèi)清洗組件端部的外清洗組件,所述轉(zhuǎn)動(dòng)支撐座的中部設(shè)置有氧...
          • 本發(fā)明提供一種光電生產(chǎn)用單晶硅加工清潔設(shè)備,涉及單晶硅清潔技術(shù)領(lǐng)域,包括沖洗槽,所述沖洗槽上設(shè)有對(duì)單晶硅進(jìn)行沖洗的沖洗機(jī)構(gòu),所述沖洗槽上設(shè)有對(duì)沖洗機(jī)構(gòu)進(jìn)行調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),所述沖洗機(jī)構(gòu)包括立桿、儲(chǔ)水箱和分流器,所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括L形支架、間板和...
          • 本發(fā)明涉及玻璃表面清理技術(shù)領(lǐng)域,具體說(shuō)是一種蓋板玻璃加工表面清潔裝置;輸送帶對(duì)玻璃蓋板的下端進(jìn)行實(shí)時(shí)清理;在待清理的玻璃蓋板運(yùn)動(dòng)至擺動(dòng)塊的下端后,支撐板通過(guò)伸縮裝置在安裝板上向下移動(dòng),支撐板帶動(dòng)振動(dòng)電機(jī)和擺動(dòng)塊同步向下移動(dòng),過(guò)程中,擺動(dòng)塊對(duì)...
          • 本發(fā)明屬于清潔設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域;公開(kāi)了一種發(fā)動(dòng)機(jī)配件用清潔裝置及其使用方法,其中發(fā)動(dòng)機(jī)配件用清潔裝置,包括清洗柜體,清洗柜體的中部開(kāi)設(shè)有上下貫通的通槽,清洗柜體內(nèi)環(huán)繞通槽開(kāi)設(shè)有環(huán)形清洗槽,環(huán)形清洗槽的內(nèi)壁上固定安裝有若干個(gè)隔板,若干個(gè)隔板用于將...
          • 本發(fā)明屬于藥渣處理領(lǐng)域,具體的說(shuō)是一種中藥提取藥渣的連續(xù)化處理方法,采用雙螺桿擠壓機(jī)對(duì)濕藥渣進(jìn)行預(yù)脫溶,脫除一部分游離溶劑,獲得含溶藥渣;其次,將含溶藥渣送入真空帶式干燥機(jī),在真空度及氮?dú)獗Wo(hù)下經(jīng)三區(qū)梯度干燥,得到的干藥渣;隨后,通過(guò)熱泵式...
          • 本發(fā)明屬于固廢資源化利用技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種污泥焚燒爐渣資源化利用方法。本發(fā)明將污泥焚燒爐渣、水和酸混合進(jìn)行酸浸出,得到酸浸出液;將酸浸出液用堿調(diào)節(jié)pH值為3~5進(jìn)行第一堿處理,得到第一堿處理渣;將第一堿處理渣用堿調(diào)節(jié)pH值為11.5~1...
          • 本發(fā)明涉及不銹鋼帶冷軋技術(shù)領(lǐng)域,并具體公開(kāi)了一種不銹鋼帶冷軋?jiān)O(shè)備及其冷軋方法,所述清理部件遠(yuǎn)離軋輥部件的一側(cè)固定連接有延展部件,所述延展部件設(shè)置于兩個(gè)清理部件之間,所述清理部件遠(yuǎn)離延展部件的一側(cè)固定連接有輥壓部件。該不銹鋼帶冷軋?jiān)O(shè)備及其冷軋...
          • 本發(fā)明涉及建筑管材加工技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明公開(kāi)了一種建筑管材矯直裝置,包括底座,所述底座上端面的中間處固定有電動(dòng)矯直器,所述底座上端面的另一側(cè)固定有接水箱,所述接水箱的內(nèi)底部固定有第一環(huán)形噴水管道和兩個(gè)支架,兩個(gè)所述支架的頂部均固定有除銹機(jī)構(gòu)。...
          • 本發(fā)明涉及金屬?zèng)_壓技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種LED芯片支架加工沖壓設(shè)備,包括有框體和固接于框體頂部的殼體,殼體內(nèi)側(cè)設(shè)置有沖壓模具,框體頂部固定穿接有位于沖壓模具正下方的支撐板,支撐板上開(kāi)有四組與沖壓模具適配的通孔。本發(fā)明通過(guò)使鋼帶穿過(guò)壓緊輥與傳...
          • 本發(fā)明屬于微納結(jié)構(gòu)制造與成形領(lǐng)域,具體涉及一種用于薄帶微結(jié)構(gòu)制造的高壓可控空化射流成形裝置及方法。一種用于薄帶微結(jié)構(gòu)制造的高壓可控空化射流成形裝置,包括底座、亞克力液室和三級(jí)空化發(fā)生器,所述亞克力液室設(shè)置在底座上方,且在亞克力液室外部套裝有...
          • 本發(fā)明屬于沖切模具技術(shù)領(lǐng)域,提供了雙軌道沖切分離模具及沖切分離工藝,其中模具包括上模組件、裝夾組件和下模組件;上模組件設(shè)置有凸模固定板;凸模固定板朝向下模組件的表面安裝有若干種用于沖切工藝的凸模;裝夾組件設(shè)置有雙軌滑道,雙軌滑道固定安裝在上...
          • 本發(fā)明屬于沖孔加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種航空發(fā)動(dòng)機(jī)用護(hù)板的加工裝置,包括沖孔下模,所述沖孔下模的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有護(hù)板模腔,且護(hù)板模腔的腔壁開(kāi)設(shè)有沖孔通孔,所述沖孔下模的下表面固定連接有U形底板,所述沖孔下模的上表面活動(dòng)連接有沖孔外模。本發(fā)明...
          • 本發(fā)明提供一種不銹鋼管件沖孔拉拔設(shè)備及其加工方法,屬于不銹鋼管件沖孔拉拔設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,其結(jié)構(gòu)包括機(jī)架,而機(jī)架頂面中部橫向設(shè)置有管芯組件,且管芯組件左側(cè)下方設(shè)置有底板,所述底板頂面縱向設(shè)置有夾管拉拔模具組,所述夾管拉拔模具組中部上方設(shè)置有沖孔...
          • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種插座金屬觸點(diǎn)加工用沖壓成型一體機(jī),通過(guò)上模座的上下運(yùn)動(dòng),帶動(dòng)導(dǎo)套在導(dǎo)柱外側(cè)上下運(yùn)動(dòng),間歇性改變導(dǎo)套內(nèi)部的空間大小,從而在上抬時(shí)通過(guò)單向閥Ⅰ吸取外界空氣,在下壓時(shí)通過(guò)單向閥Ⅱ排出外界空氣至軟管中,再輸入聚氣腔中,從排氣孔噴向下...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種易拉蓋沖壓成型設(shè)備,涉及沖壓設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,包括機(jī)體、沖壓成型部件和輸送部件;還包括:放卷部件,設(shè)置在機(jī)體前端,用于釋放鋁卷材;沖裁部件,安裝于機(jī)體的前部,用于將釋放的鋁卷材裁切成大小相同的鋁片材;開(kāi)片部件,安裝于機(jī)體的后部,...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種帶有可開(kāi)閉式排氣結(jié)構(gòu)的鐵型覆砂造型機(jī),涉及鑄造技術(shù)領(lǐng)域,包括輸送設(shè)備、型板、固定架二、兩個(gè)射砂裝置、上模型和密封架,所述輸送設(shè)備外側(cè)安裝有夾持定位結(jié)構(gòu),所述上模型頂部固定設(shè)置有固定架三,所述固定架三與固定架二之間設(shè)置有位置控...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于超高速激光熔覆的Fe基非晶粉末及其涂層制備工藝,F(xiàn)e基非晶粉末,由以下元素成分組成:23~25wt%的Cr、2~2.5wt%的C、15~17wt%的Mo、2~4wt%的Ni、2~4wt%的Cu、1~3wt%的Zr、2~4...
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