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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜機的柱弧靶裝置，包括接電機構、磁芯機構和第一電機，接電機構包括上接電組件和下接電組件，上接電組件和下接電組件交替向管靶供電；磁芯機構包括靶芯組件、磁鐵組件，靶芯組件的外圓面具有第一安裝槽、第二安裝槽，磁鐵組件包括...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于材料鍍膜技術領域，公開了一種用于提高等離子體涂層中靶材的使用效率的設備，包括：涂層爐，作為設備整體的支撐結構：陰極體，與所述涂層爐相連；冷卻結構，連接于所述涂層爐；放置箱，固定于所述涂層爐；銅板，連接于所述放置箱；靶材，通過所述銅...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及真空鍍膜管道技術領域，公開了一種用于低溫管道絕緣裝置，包括安裝組件，安裝組件上可拆卸連接有活動密封組件和固定密封組件，活動密封組件和固定密封組件均連通有絕緣管道；絕緣管道包括不銹鋼內管、陶瓷層和橡膠層，陶瓷層設置在不銹鋼內管的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種基于聯動角度調整機制的激光入射角度調節裝置，屬于激光技術領域，在激光光路中，分別對聚焦透鏡和最后一級反射鏡設置可變角度安裝裝置，將聚焦透鏡的旋轉角度設定為反射鏡旋轉角度的兩倍，當聚焦透鏡與反射鏡角度按照上述比例聯動時，激光最終...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供的一種大氣等離子噴涂陶瓷涂層、制備方法及其應用，通過在大氣氛圍下，采用等離子焰流對金屬合金基體表面預熱后，形成預熱表面；以六鈦酸鈉為原料，采用破碎燒結或造粒燒結方式將原料制備成目標粉末；將目標粉末于等離子噴涂焰流中加熱熔化，形成熔...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種增強聚合物薄膜與金屬鍍層結合力的方法，包括如下步驟：(1)真空鍍金屬打底層；(2)激光熔融處理；(3)鍍金屬層。本發明利用超薄金屬熔點降低、表面能降低驅動的球形化和快速高能處理聚合物薄膜表面軟化三個特點，通過精確控制激光能量，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種耐等離子體刻蝕涂層的制備方法和應用，涉及涂層技術領域。包括采用低壓等離子噴涂法制備氧化釔層，氧化釔層包括依次層疊的相對多孔層（孔隙率為1~3%）和致密層（孔隙率小于1%），且相對多孔層用于與基體接觸。通過采用低壓等離子噴涂，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及玻璃酒瓶鍍膜技術領域，且公開了一種用于玻璃酒瓶鍍膜過程防晃放置架，包括鍍膜底座，鍍膜底座的頂部轉動連接有旋轉齒盤，鍍膜底座的頂部固定連接有固定齒管，鍍膜底座的底部固定連接有馬達，馬達的輸出軸固定連接有齒盤，本發明在齒桿二通過推動桿...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種低電阻溫度系數的埋阻銅箔的制備方法，屬于埋阻銅箔技術領域，以解決現有技術無法制備出低電阻溫度系數和阻值波動小、電阻率大于9×10?4的埋阻銅箔產品的問題。方法包括制備生箔層、制備表面處理層、反應濺射電阻...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種船用潛水鐘絞車絞纜管理裝置，包括轉盤和機身，所述轉盤的頂端安裝有機身，所述機身的頂端設置有橫臂，所述橫臂靠近機身的一端安裝有第一連接軸，且橫臂經過第一連接軸與機身活動連接，所述橫臂遠離第一連接軸的一端設置有彎臂，所述彎臂...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及光學鍍膜的技術領域，具體公開了一種TPU注塑件射出片的光學鍍膜加工方法。其包括以下步驟：S1、前處理：將TPU注塑件射出片置于超聲波清洗設備中進行脫油脫脂清洗；烘干后對TPU注塑件射出片噴涂有機硅改性樹脂，固化后在TPU注塑件射出...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開一種高塑性高耐蝕鎂合金，所述鎂合金包含以下重量百分含量的成分：Sn 1～6％、Al 0.1～1％、Zr 0.1～1％、Mn 0.01～3％，余量為Mg和不可避免的雜質。本發明通過對于鎂合金中元素成分的調控，并結合合適的擠壓工藝得到...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種通信濾光片加工用鍍膜治具，涉及通信濾光片加工領域，包括底座以及底座下端固定安裝的驅動電機，且驅動電機的輸出端固定安裝有鍍膜箱，并且鍍膜箱的前后兩端轉動安裝有轉動桿，而且前后兩個所述轉動桿的內側固定安裝有鍍膜盤，所述底座的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于熱電薄膜材料技術領域，具體公開了一種基于后碲化處理的高功率因子Bi2Se3薄膜的制備方法，包括以下步驟：S1、制備靶材；S2、放置基片與靶材；S3、調節真空度；S4、薄膜沉積，得到Bi<...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開一種塔機突然卸載防傾覆系統及其控制方法，所述防傾覆系統包括臂架與塔身鉸接；所述可脫落平衡重設置于臂架上；平衡重脫落機構，所述平衡重脫落機構在鎖止狀態下將所述可脫落平衡重鎖止于臂架上，在釋放狀態下解除對所述可脫落平衡重的鎖止，以使所...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開實施例提供了一種鍍膜設備，包括：第一腔室；靜電吸盤，位于所述第一腔室內；準直器，位于所述第一腔室內，具有多個間隔分布的準直通道；第二腔室，與所述第一腔室相鄰設置，其中，所述第二腔室與所述第一腔室相鄰的腔壁上具有連通通道，所述第二腔室通...
								
            
							
            
							
						
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								      提供了沉積處理設備。沉積處理設備包括裝載有襯底固定裝置的第一室、限定執行沉積處理的沉積處理空間的第二室以及包括將襯底固定裝置從第一室傳輸到第二室的傳輸模塊的第三室。襯底固定裝置包括第一支承件和第二支承件，第一支承件支承至少一個襯底，第二支承...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及顯示裝置的制造裝置和顯示裝置的制造方法，本發明的一實施例公開顯示裝置的制造裝置，包括：第一腔室，在所述第一腔室的內部裝載顯示基板；第二腔室，與所述第一腔室連通，在所述第二腔室中產生第一等離子體；氣體供給部，用于向所述第二腔室供給第...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種高強度高壓壓鑄鎂合金及其制備方法，屬于有色金屬材料技術領域。本發明提供的高強度高壓壓鑄鎂合金，按照重量百分比計，由以下成分組成：Zn 6?10％、Al 6?10％、La 0.1?1％、Ce 0.1?2％、Sm 0.001?0...
								
            
							
            
							
						
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								      一種具有雙粘結層結構的熱障涂層及其制備方法屬于熱障涂層領域。本發明所述熱障涂層以鎳基高溫合金為基底，依次包括MCrAlY下粘結層、Cr2AlC上粘結層和8YSZ陶瓷層，其中MCrAlY下粘結層和Cr2AlC上粘結層采用超音速火焰噴涂工藝制備...
								
            
							
            
							
						
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