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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本實(shí)用新型涉及PECVD鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種改善舟片碎耳的隔塊，包括雙頭螺桿，所述雙頭螺桿兩側(cè)固定安裝有固定螺母，所述雙頭螺桿外側(cè)活動(dòng)安裝有分隔筒，所述雙頭螺桿外側(cè)設(shè)置有片體機(jī)構(gòu)，所述片體機(jī)構(gòu)包括第一舟片和第二舟片，所述第一舟片前后兩端...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及芯片加工技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種高精度智能芯片膜的物理氣相沉積裝置，通過(guò)清洗機(jī)構(gòu)和烘干組件的設(shè)置，在清洗芯片時(shí)，能夠?qū)⒍鄠€(gè)芯片分別放置到若干載物框內(nèi)，并在提升桿的驅(qū)動(dòng)下進(jìn)入到清洗桶中，同時(shí)清洗多個(gè)芯片，從而提高了芯片的加工效率，且在清...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種控制脈沖直流物理氣相沉積(PVD)形成的材料層中應(yīng)力變化的方法及設(shè)備。該方法包以下步驟：設(shè)置一腔室，其包括形成材料層的靶和在其上能夠形成材料層的襯底；以及向腔室內(nèi)引入氣體。該方法還包括在腔室內(nèi)生成等離子體并且將第一磁場(chǎng)施加到...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及涂層制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種導(dǎo)熱性能良好的高溫磨損防護(hù)涂層、制備方法及其應(yīng)用，Ti2AlC粉末經(jīng)過(guò)造粒燒結(jié)篩分制備獲得，涂層原料為T(mén)i2AlC粉和金屬相NiCrAlY粉，Ti...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及真空處理技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種裝載裝置及真空處理設(shè)備，該裝載裝置包括支撐架、裝載組件、連動(dòng)組件和傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；裝載組件設(shè)置有若干個(gè)，若干個(gè)裝載組件相互平行且沿第一方向傾斜間隔設(shè)置，任意相鄰兩個(gè)裝載組件之間通過(guò)連動(dòng)組件連動(dòng)連接；傳...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種MPCVD裝置及其應(yīng)用，涉及微波等離子體的技術(shù)領(lǐng)域，包括同軸線、放大同軸線、第一漸變阻抗匹配器、第二漸變阻抗匹配器、等離子體反應(yīng)室、基臺(tái)，以及懸放于內(nèi)部的同軸內(nèi)導(dǎo)體；放大同軸線使同軸線中的TEM模式轉(zhuǎn)換到放大同軸線中形成穩(wěn)定...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種超聲波原位輔助激光熔覆裝置及使用方法，包括激光頭和電子計(jì)算機(jī)，電子計(jì)算機(jī)控制有激光熔覆制造模塊和超聲波模塊。本發(fā)明通過(guò)同軸夾具剛性連接激光頭、超聲振動(dòng)裝置及送絲噴口，實(shí)現(xiàn)送粉/填絲熔覆模式的無(wú)縫切換，解決了現(xiàn)有技術(shù)中鎢絲獨(dú)立...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供的一種大氣等離子噴涂陶瓷涂層、制備方法及其應(yīng)用，通過(guò)在大氣氛圍下，采用等離子焰流對(duì)金屬合金基體表面預(yù)熱后，形成預(yù)熱表面；以六鈦酸鈉為原料，采用破碎燒結(jié)或造粒燒結(jié)方式將原料制備成目標(biāo)粉末；將目標(biāo)粉末于等離子噴涂焰流中加熱熔化，形成熔...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種基于聯(lián)動(dòng)角度調(diào)整機(jī)制的激光入射角度調(diào)節(jié)裝置，屬于激光技術(shù)領(lǐng)域，在激光光路中，分別對(duì)聚焦透鏡和最后一級(jí)反射鏡設(shè)置可變角度安裝裝置，將聚焦透鏡的旋轉(zhuǎn)角度設(shè)定為反射鏡旋轉(zhuǎn)角度的兩倍，當(dāng)聚焦透鏡與反射鏡角度按照上述比例聯(lián)動(dòng)時(shí)，激光最終...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及真空鍍膜管道技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種用于低溫管道絕緣裝置，包括安裝組件，安裝組件上可拆卸連接有活動(dòng)密封組件和固定密封組件，活動(dòng)密封組件和固定密封組件均連通有絕緣管道；絕緣管道包括不銹鋼內(nèi)管、陶瓷層和橡膠層，陶瓷層設(shè)置在不銹鋼內(nèi)管的...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜機(jī)的柱弧靶裝置，包括接電機(jī)構(gòu)、磁芯機(jī)構(gòu)和第一電機(jī)，接電機(jī)構(gòu)包括上接電組件和下接電組件，上接電組件和下接電組件交替向管靶供電；磁芯機(jī)構(gòu)包括靶芯組件、磁鐵組件，靶芯組件的外圓面具有第一安裝槽、第二安裝槽，磁鐵組件包括...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于材料鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種用于提高等離子體涂層中靶材的使用效率的設(shè)備，包括：涂層爐，作為設(shè)備整體的支撐結(jié)構(gòu)：陰極體，與所述涂層爐相連；冷卻結(jié)構(gòu)，連接于所述涂層爐；放置箱，固定于所述涂層爐；銅板，連接于所述放置箱；靶材，通過(guò)所述銅...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種增強(qiáng)聚合物薄膜與金屬鍍層結(jié)合力的方法，包括如下步驟：(1)真空鍍金屬打底層；(2)激光熔融處理；(3)鍍金屬層。本發(fā)明利用超薄金屬熔點(diǎn)降低、表面能降低驅(qū)動(dòng)的球形化和快速高能處理聚合物薄膜表面軟化三個(gè)特點(diǎn)，通過(guò)精確控制激光能量，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種耐等離子體刻蝕涂層的制備方法和應(yīng)用，涉及涂層技術(shù)領(lǐng)域。包括采用低壓等離子噴涂法制備氧化釔層，氧化釔層包括依次層疊的相對(duì)多孔層（孔隙率為1~3%）和致密層（孔隙率小于1%），且相對(duì)多孔層用于與基體接觸。通過(guò)采用低壓等離子噴涂，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及玻璃酒瓶鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了一種用于玻璃酒瓶鍍膜過(guò)程防晃放置架，包括鍍膜底座，鍍膜底座的頂部轉(zhuǎn)動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)齒盤(pán)，鍍膜底座的頂部固定連接有固定齒管，鍍膜底座的底部固定連接有馬達(dá)，馬達(dá)的輸出軸固定連接有齒盤(pán)，本發(fā)明在齒桿二通過(guò)推動(dòng)桿...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種低電阻溫度系數(shù)的埋阻銅箔的制備方法，屬于埋阻銅箔技術(shù)領(lǐng)域，以解決現(xiàn)有技術(shù)無(wú)法制備出低電阻溫度系數(shù)和阻值波動(dòng)小、電阻率大于9×10?4的埋阻銅箔產(chǎn)品的問(wèn)題。方法包括制備生箔層、制備表面處理層、反應(yīng)濺射電阻...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種船用潛水鐘絞車絞纜管理裝置，包括轉(zhuǎn)盤(pán)和機(jī)身，所述轉(zhuǎn)盤(pán)的頂端安裝有機(jī)身，所述機(jī)身的頂端設(shè)置有橫臂，所述橫臂靠近機(jī)身的一端安裝有第一連接軸，且橫臂經(jīng)過(guò)第一連接軸與機(jī)身活動(dòng)連接，所述橫臂遠(yuǎn)離第一連接軸的一端設(shè)置有彎臂，所述彎臂...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及光學(xué)鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種TPU注塑件射出片的光學(xué)鍍膜加工方法。其包括以下步驟：S1、前處理：將TPU注塑件射出片置于超聲波清洗設(shè)備中進(jìn)行脫油脫脂清洗；烘干后對(duì)TPU注塑件射出片噴涂有機(jī)硅改性樹(shù)脂，固化后在TPU注塑件射出...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)一種高塑性高耐蝕鎂合金，所述鎂合金包含以下重量百分含量的成分：Sn 1～6％、Al 0.1～1％、Zr 0.1～1％、Mn 0.01～3％，余量為Mg和不可避免的雜質(zhì)。本發(fā)明通過(guò)對(duì)于鎂合金中元素成分的調(diào)控，并結(jié)合合適的擠壓工藝得到...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于熱電薄膜材料技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種基于后碲化處理的高功率因子Bi2Se3薄膜的制備方法，包括以下步驟：S1、制備靶材；S2、放置基片與靶材；S3、調(diào)節(jié)真空度；S4、薄膜沉積，得到Bi<...
								
            
							
            
							
						
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