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            拖動(dòng)滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本發(fā)明涉及一種堿金屬薄膜、制備方法、應(yīng)用及裝置。堿金屬薄膜的制備方法，包括以下步驟：采用硅片制備獲得Si?7×7襯底；在真空條件下，給鎘源除氣，然后加熱使鎘原子蒸鍍到Si?7×7襯底的表面，獲得Cd薄膜；在真空條件下，給對(duì)三聯(lián)苯分子除氣，然...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種用于立體成像的銅銦鎵梯度光學(xué)鍍膜，采用磁控濺射工藝在襯底表面沉積形成反射鍍膜，反射鍍膜中包括銅元素、銦元素和鎵元素；反射鍍膜與襯底接觸的一側(cè)為里層，背離襯底的一側(cè)為表層，銅元素的含量沿反射鍍膜的厚度方向由反射鍍膜的里層至表層...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及鈍化裝置技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了熱鍍鋅鋼構(gòu)件的全無(wú)鉻鈍化裝置，包括移動(dòng)裝置，移動(dòng)裝置的前端設(shè)有反應(yīng)裝置，反應(yīng)裝置的上端設(shè)有限位裝置,移動(dòng)裝置包括電動(dòng)滑軌，電動(dòng)滑軌的上端滑動(dòng)連接有電動(dòng)吊臂。該熱鍍鋅鋼構(gòu)件的全無(wú)鉻鈍化裝置，通過(guò)將鍍鋅鋼絲固...
								
            
							
            
							
						
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								      根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的鍍鋅鋼板可以包括：基礎(chǔ)鋼板；以及Zn?Al?Mg基鍍層，所述Zn?Al?Mg基鍍層設(shè)置在所述基礎(chǔ)鋼板的至少一面上，其中，所述Zn?Al?Mg基鍍層可以在所述Zn?Al?Mg基鍍層的表層側(cè)包括富集有鈰(Ce)的表面改性區(qū)...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)公開(kāi)了一種具有氮化物和氧化物的涂層及制備方法和應(yīng)用，涂層包括依次沉積所獲得的TiAlN層、CrAlO層和CrAlON層。制備方法包括如下流程：S1，清洗基體；S2，在鍍膜腔室中對(duì)基體表面進(jìn)行原位刻蝕；S3，在基體表面利用陰極弧蒸發(fā)沉積...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種利用PS?PVD對(duì)熱障涂層進(jìn)行表面前處理方法和熱障涂層的制備方法，涉及熱障涂層技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將將待處理基體預(yù)熱至300~800℃，能夠避免高溫條件下O2與葉片表面優(yōu)先發(fā)生反應(yīng)生成預(yù)氧化層；在PS?PV...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體設(shè)備的加熱控制方法及控制系統(tǒng)，本發(fā)明的加熱控制方法中，通過(guò)步驟Si得到第一加熱區(qū)和第二加熱區(qū)各自的第i最佳升溫功率以進(jìn)行第i升溫過(guò)程，并且步驟S(i+n)根據(jù)目標(biāo)溫度相關(guān)參數(shù)，步驟Si中的預(yù)測(cè)溫度相關(guān)參數(shù)，以及第一加熱...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及氣相包覆回轉(zhuǎn)窯技術(shù)領(lǐng)域，本申請(qǐng)公開(kāi)了一種硅碳?xì)庀喑练e用氣相包覆回轉(zhuǎn)窯，包括回轉(zhuǎn)窖主體，所述回轉(zhuǎn)窖主體外側(cè)等距套設(shè)有若干個(gè)定位支撐組件，用于支撐回轉(zhuǎn)窖主體，本發(fā)明通過(guò)進(jìn)料端的導(dǎo)料板和分散撥板，可以對(duì)充入回轉(zhuǎn)窖主體內(nèi)部多孔碳顆粒和硅烷...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)一種惠斯通電橋膜片及其制備方法、壓力傳感器，涉及惠斯通電橋膜片技術(shù)領(lǐng)域，其包括底座和鋼薄片，鋼薄片表面設(shè)置納米薄膜槽，在納米薄膜槽表面設(shè)置納米薄膜層。惠斯通電橋膜片的制備方法：S1.預(yù)處理：在不銹鋼薄片上加工出納米薄膜槽，納米薄膜...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提出了一種臥式鍍膜生產(chǎn)線，包括托盤(pán)和循環(huán)輸送組件、第一升降組件、進(jìn)片室、鍍膜室、出片室和第二升降組件；托盤(pán)包括安裝板和托板，托板轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于安裝板底部；第一升降組件從低到高設(shè)有收發(fā)位、進(jìn)入位和回傳位；進(jìn)片室包括第一機(jī)架，第一機(jī)架上設(shè)有入...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于生物醫(yī)用材料領(lǐng)域，公開(kāi)了一種磷酸鋅/羥基磷灰石復(fù)合涂層制備方法，包括如下步驟：鈦合金表面預(yù)處理；將預(yù)處理好的樣品放入轉(zhuǎn)化液中電偶誘導(dǎo)化學(xué)轉(zhuǎn)化；在轉(zhuǎn)化涂層（過(guò)渡層磷酸鋅）表面噴涂羥基磷灰石；本發(fā)明以磷酸鋅為過(guò)渡層噴涂羥基磷灰石，能夠...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提出一種環(huán)狀產(chǎn)品氮化防傾倒工裝，包括立柱、防護(hù)桿和底盤(pán)，立柱底部與底盤(pán)中心固定連接，立柱和底盤(pán)共同確定出可供使用的氮化熱處理空間；防護(hù)桿有多個(gè)，每個(gè)防護(hù)桿的底部與底盤(pán)連接，并相對(duì)底盤(pán)中心均勻分布，通過(guò)防護(hù)桿以限定環(huán)狀產(chǎn)品的碼放高度...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種利用共滲控制系統(tǒng)提高金屬滲鋅效果的方法，涉及金屬多元合金共滲防腐技術(shù)領(lǐng)域，滲鋅開(kāi)始前，將工件尺寸、材質(zhì)、滲層深度(按客戶要求的滲層深度，也可通過(guò)客戶要求的中性鹽霧時(shí)間折算)、鋅粉參數(shù)、助滲劑、滲灌轉(zhuǎn)速等參數(shù)按實(shí)際值輸入工控機(jī)...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種濺射鍍膜真空室用防護(hù)裝置，包括真空室腔體，所述真空室腔體的一側(cè)固設(shè)有保護(hù)罩，所述保護(hù)罩與真空室腔體之間設(shè)有透光玻璃，所述透光玻璃嵌設(shè)在所述保護(hù)罩的內(nèi)部，所述保護(hù)罩遠(yuǎn)離所述真空室腔體的一側(cè)設(shè)有通孔，...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及一種用于安裝卡盤(pán)和玻璃基板的裝配設(shè)備，包括殼體、輸送組件、第一除塵組件、第二除塵組件和裝配組件。殼體內(nèi)形成有裝配腔室，輸送組件包括多個(gè)滾輪。第一除塵組件包括吸塵罩和磁鐵，吸塵罩罩設(shè)于滾輪的外圍，磁鐵設(shè)置于吸塵罩上，磁鐵和/或吸...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及納米薄膜的技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種稀貴金屬合金納米薄膜的原子層沉積制備方法。其包括以下步驟：S1、沉積第一層稀貴金屬納米薄膜：采用原子層沉積(ALD)技術(shù)，將稀貴金屬反應(yīng)源加熱后通過(guò)載氣脈沖引入反應(yīng)腔室，再將共反應(yīng)劑引入反應(yīng)腔室，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種高硬度模具鋼洗銑刀具用涂層及其制備，屬于銑刀涂層技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供一種高硬度模具鋼洗銑刀具用涂層的制備方法，其步驟包括，將銑刀超聲清洗清洗后，去離子水漂洗并干燥，預(yù)熱，得到處理后的基材，接著采用多弧離子鍍對(duì)處理后的基材進(jìn)行底...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種多功能寬密度等離子體放電方法，涉及等離子體技術(shù)領(lǐng)域，包括步驟：S1、系統(tǒng)設(shè)計(jì)與構(gòu)建；S2、等離子體放電模式切換；S3、等離子體輔助化學(xué)氣相沉積；S4、等離子體輔助原子層沉積；S5、系統(tǒng)性能優(yōu)化與驗(yàn)證。該多功能寬密度等離子體放...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種氧化物固態(tài)電解質(zhì)薄膜的磁控濺射制備工藝，涉及電解質(zhì)制備領(lǐng)域，包括以下步驟：襯底預(yù)處理、動(dòng)態(tài)溫度控制濺射、梯度多層結(jié)構(gòu)沉積、原位退火處理與后處理。本發(fā)明通過(guò)多步驟優(yōu)化提升氧化物固態(tài)電解質(zhì)薄膜性能：襯底預(yù)處理提升清潔度與結(jié)合強(qiáng)度...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N陶瓷基低頻吸波涂層及其制備方法和應(yīng)用，其中，陶瓷基低頻吸波涂層的制備方法包括：對(duì)金屬基底進(jìn)行倒角、去油、噴砂處理后，采用等離子噴涂工藝在所述金屬基底上制備粘結(jié)層；采用等離子噴涂工藝在所述粘結(jié)層上制備陶瓷層，再將鋁膜膠帶貼在所...
								
            
							
            
							
						
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