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          五金工具產品及配附件制造技術
          • 本實用新型公開了一種疊層,該疊層形成在基板表面,在基板表面往外依次為碳氧化硅膜層、含碳元素層、氧化鋁膜層,所述碳氧化硅膜層與基板表面直接接觸,所述碳氧化硅膜層2至少由一層膜層組成,所述氧化鋁膜層至少由一層膜層組成,由此該疊層可進行高溫熱處理...
          • 本發明提供一種空間多層潤滑膜及其制備方法,涉及表面工程領域。該空間多層潤滑膜包括在金屬基體表面形成的滲氮層,所述滲氮層的表面形成有微織構,所述微織構上依次設置有Cr結合層和復合固體潤滑膜,所述復合固體潤滑膜包括依次設置在所述Cr結合層表面的...
          • 本發明涉及一種堿金屬薄膜、制備方法、應用及裝置。堿金屬薄膜的制備方法,包括以下步驟:采用硅片制備獲得Si?7×7襯底;在真空條件下,給鎘源除氣,然后加熱使鎘原子蒸鍍到Si?7×7襯底的表面,獲得Cd薄膜;在真空條件下,給對三聯苯分子除氣,然...
          • 本發明提供了一種用于立體成像的銅銦鎵梯度光學鍍膜,采用磁控濺射工藝在襯底表面沉積形成反射鍍膜,反射鍍膜中包括銅元素、銦元素和鎵元素;反射鍍膜與襯底接觸的一側為里層,背離襯底的一側為表層,銅元素的含量沿反射鍍膜的厚度方向由反射鍍膜的里層至表層...
          • 本發明涉及鈍化裝置技術領域,且公開了熱鍍鋅鋼構件的全無鉻鈍化裝置,包括移動裝置,移動裝置的前端設有反應裝置,反應裝置的上端設有限位裝置,移動裝置包括電動滑軌,電動滑軌的上端滑動連接有電動吊臂。該熱鍍鋅鋼構件的全無鉻鈍化裝置,通過將鍍鋅鋼絲固...
          • 根據本發明的一個方面的鍍鋅鋼板可以包括:基礎鋼板;以及Zn?Al?Mg基鍍層,所述Zn?Al?Mg基鍍層設置在所述基礎鋼板的至少一面上,其中,所述Zn?Al?Mg基鍍層可以在所述Zn?Al?Mg基鍍層的表層側包括富集有鈰(Ce)的表面改性區...
          • 本申請公開了一種具有氮化物和氧化物的涂層及制備方法和應用,涂層包括依次沉積所獲得的TiAlN層、CrAlO層和CrAlON層。制備方法包括如下流程:S1,清洗基體;S2,在鍍膜腔室中對基體表面進行原位刻蝕;S3,在基體表面利用陰極弧蒸發沉積...
          • 本發明提供了一種利用PS?PVD對熱障涂層進行表面前處理方法和熱障涂層的制備方法,涉及熱障涂層技術領域。本發明將將待處理基體預熱至300~800℃,能夠避免高溫條件下O2與葉片表面優先發生反應生成預氧化層;在PS?PV...
          • 本發明提供了一種半導體設備的加熱控制方法及控制系統,本發明的加熱控制方法中,通過步驟Si得到第一加熱區和第二加熱區各自的第i最佳升溫功率以進行第i升溫過程,并且步驟S(i+n)根據目標溫度相關參數,步驟Si中的預測溫度相關參數,以及第一加熱...
          • 本發明涉及氣相包覆回轉窯技術領域,本申請公開了一種硅碳氣相沉積用氣相包覆回轉窯,包括回轉窖主體,所述回轉窖主體外側等距套設有若干個定位支撐組件,用于支撐回轉窖主體,本發明通過進料端的導料板和分散撥板,可以對充入回轉窖主體內部多孔碳顆粒和硅烷...
          • 本發明公開一種惠斯通電橋膜片及其制備方法、壓力傳感器,涉及惠斯通電橋膜片技術領域,其包括底座和鋼薄片,鋼薄片表面設置納米薄膜槽,在納米薄膜槽表面設置納米薄膜層。惠斯通電橋膜片的制備方法:S1.預處理:在不銹鋼薄片上加工出納米薄膜槽,納米薄膜...
          • 本發明提出了一種臥式鍍膜生產線,包括托盤和循環輸送組件、第一升降組件、進片室、鍍膜室、出片室和第二升降組件;托盤包括安裝板和托板,托板轉動安裝于安裝板底部;第一升降組件從低到高設有收發位、進入位和回傳位;進片室包括第一機架,第一機架上設有入...
          • 本發明屬于生物醫用材料領域,公開了一種磷酸鋅/羥基磷灰石復合涂層制備方法,包括如下步驟:鈦合金表面預處理;將預處理好的樣品放入轉化液中電偶誘導化學轉化;在轉化涂層(過渡層磷酸鋅)表面噴涂羥基磷灰石;本發明以磷酸鋅為過渡層噴涂羥基磷灰石,能夠...
          • 本實用新型提出一種環狀產品氮化防傾倒工裝,包括立柱、防護桿和底盤,立柱底部與底盤中心固定連接,立柱和底盤共同確定出可供使用的氮化熱處理空間;防護桿有多個,每個防護桿的底部與底盤連接,并相對底盤中心均勻分布,通過防護桿以限定環狀產品的碼放高度...
          • 本發明公開了一種利用共滲控制系統提高金屬滲鋅效果的方法,涉及金屬多元合金共滲防腐技術領域,滲鋅開始前,將工件尺寸、材質、滲層深度(按客戶要求的滲層深度,也可通過客戶要求的中性鹽霧時間折算)、鋅粉參數、助滲劑、滲灌轉速等參數按實際值輸入工控機...
          • 本實用新型涉及鍍膜設備技術領域,具體涉及一種濺射鍍膜真空室用防護裝置,包括真空室腔體,所述真空室腔體的一側固設有保護罩,所述保護罩與真空室腔體之間設有透光玻璃,所述透光玻璃嵌設在所述保護罩的內部,所述保護罩遠離所述真空室腔體的一側設有通孔,...
          • 本實用新型涉及一種用于安裝卡盤和玻璃基板的裝配設備,包括殼體、輸送組件、第一除塵組件、第二除塵組件和裝配組件。殼體內形成有裝配腔室,輸送組件包括多個滾輪。第一除塵組件包括吸塵罩和磁鐵,吸塵罩罩設于滾輪的外圍,磁鐵設置于吸塵罩上,磁鐵和/或吸...
          • 本發明涉及納米薄膜的技術領域,具體公開了一種稀貴金屬合金納米薄膜的原子層沉積制備方法。其包括以下步驟:S1、沉積第一層稀貴金屬納米薄膜:采用原子層沉積(ALD)技術,將稀貴金屬反應源加熱后通過載氣脈沖引入反應腔室,再將共反應劑引入反應腔室,...
          • 本發明涉及一種高硬度模具鋼洗銑刀具用涂層及其制備,屬于銑刀涂層技術領域。本發明提供一種高硬度模具鋼洗銑刀具用涂層的制備方法,其步驟包括,將銑刀超聲清洗清洗后,去離子水漂洗并干燥,預熱,得到處理后的基材,接著采用多弧離子鍍對處理后的基材進行底...
          • 本發明公開了一種多功能寬密度等離子體放電方法,涉及等離子體技術領域,包括步驟:S1、系統設計與構建;S2、等離子體放電模式切換;S3、等離子體輔助化學氣相沉積;S4、等離子體輔助原子層沉積;S5、系統性能優化與驗證。該多功能寬密度等離子體放...
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