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            拖動滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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								      本發明涉及鍍膜機技術領域，公開了一種電容薄膜鍍膜機，包括鍍膜箱，還包括：靶材，靶材安裝于鍍膜箱內部，靶材上方設置有安裝于鍍膜箱內壁的離子源；卷繞組件，卷繞組件設置于鍍膜箱內部，且卷繞組件用于對電容薄膜進行卷繞；變速組件，變速組件設置于鍍膜箱...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種抗CMAS腐蝕的熱障涂層及其制備方法，屬于熱障涂層技術領域，制備方法包括：制備粘結層；在粘結層上制備YSZ涂層；在YSZ涂層上采用Gd2O3陶瓷漿料微流擠出成型制備Gd2...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種多腔體氧化鎵外延薄膜生長自動化量產裝置及其使用方法，生長裝置包括滑軌、襯底安裝結構、待沉積襯底、若干個HVPE半導體外延生長裝置、轉運結構和MOCVD外延生長裝置，襯底安裝結構滑動安裝在滑軌上，襯底安裝結構上設置有若干個陶瓷...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及鋼管鈍化處理技術領域，公開了一種無縫鋼管表面處理用鈍化裝置，包括鈍化槽、設于鈍化槽上方的承載組件以及提升組件，承載組件包括呈上下設置的第一框架和第二框架，提升組件包括支架、液壓桿、銜接架、支撐架以及承載板，承載板上設有用于對第一框...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種傳感器芯片金屬電極熱防護結構及其制備方法，屬于金屬電極熱防護結構技術領域。本發明的熱防護結構包括：傳感器基底，其上依次設置有電極緩沖層和連續多層Pt?W電極。在這種結構中，Pt電極是在W電極上沉積的，這種沉積方式使得Pt晶體...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種薄膜沉積設備、一種薄膜沉積方法及一種計算機可讀存儲介質。所述薄膜沉積設備包括工藝腔室、真空泵、反應氣源、吹掃氣源及控制器。所述工藝腔室中包括晶圓托盤。所述真空泵經由第一閥門及晶圓吸附管路連接所述晶圓托盤。所述反應氣源經由第二...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種W?S?Ti?O潤滑薄膜及其制備方法和應用，屬于空間潤滑技術領域。本發明提供了一種W?S?Ti?O潤滑薄膜，所述W?S?Ti?O潤滑薄膜具有致密非晶結構，由WS2相、WSxO
							
            
							
						
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								      本發明涉及高溫防護涂層技術領域，尤其是涉及一種納米多孔滲鋁?碳化硅梯度涂層及其制備方法，其包括對鎳基高溫合金進行預處理、化學氣相沉積滲鋁、脫合金腐蝕形成納米多孔層及CVD生長碳化硅納米線的步驟。該涂層通過納米多孔滲鋁層提供高比表面積和催化活...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種提升玻璃通孔基板與銅層間附著力和穩定性的方法，通過在玻璃通孔基板與銅層之間磁控濺射沉積聚四氟乙烯薄膜，以緩解銅與玻璃通孔基板之間的熱應力差異，提升銅層與基板間的界面黏附力。所述聚四氟乙烯薄膜質地柔軟，具備優異的力學緩沖能力，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種光子晶體薄膜、其制備方法和器件。通過在襯底的薄膜表面生長掩模層作為刻蝕掩模板，進行光子晶體薄膜的制備，并且在刻蝕結束后仍然保留掩模層。這種方法有效避免了常規工藝中的濕法腐蝕液對光子晶體薄膜的破壞，同時在不改變光子晶體光學能帶...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種切削鈦合金TC4用AlCrTiXN涂層及生產工藝，屬于鈦合金涂層的技術領域。所述生產工藝的制備包括以下步驟：對刀具除油、脫脂、清洗后進行噴軟砂處理，在惰性氛圍下浸泡于混合溶液中超聲處理后，取出清洗后進行真空干燥，得到預處理硬質...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及起重機技術領域，具體為一種船舶起重機穩定組件，包括：底座，底座的頂部設置有立桿；擺動桿，擺動桿的端部設置有伸縮桿，伸縮桿的端部設置有頂持桿，擺動桿的表面開設有第一開槽，擺動桿的表面設置有限位板，限位板中設置有滑動塊，滑動塊的端部設...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及光學薄膜制造技術領域，具體公開一種金剛石增透保護薄膜結構及其制備方法。本發明提供的制備方法包括：采用化學氣相沉積法在基底上沉積金剛石薄膜；將所述基底的鍍膜面和硫系玻璃貼合，于190℃～210℃、800N～1200N條件下進行壓制，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種銅銀金超疏水納米涂層轉化液，包括下述重量份的組分：水73.0?80.6份，有機硫助劑15.0?17.0份，氨基磺酸1.0?1.3份，苯丙三氮唑0.2?0.3份，二丙二醇甲醚5?10.0份，十六烷基羥乙基咪唑啉0.2?0.5份...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及蒸鍍過程監控技術領域，公開了一種基于數據分析的蒸鍍過程監控方法、系統及介質。該方法包括：對蒸鍍腔體內傳感器采集數據，經濾波標準化處理獲得工藝參數數據；對工藝參數數據進行時頻分析和相關性計算，提取關鍵參數特征；基于關鍵參數特征設定動...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型屬于光伏發電技術領域，本實用新型公開了一種全干法制備鈣鈦礦材料蒸鍍設備防腐蝕冷屏，蒸鍍設備包括蒸發源，蒸發源蒸發出鈣鈦礦材料分子，防腐蝕冷屏包括真空腔體、冷屏板、冷屏板固定柱、均熱板、低溫泵、冷媒管、均熱板固定柱和冷阱；冷屏板包括...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及可排列均勻的螺栓加工用防氧化設備技術領域，且公開了一種可排列均勻的螺栓加工用防氧化設備，包括浸入箱和浸入箱上側轉動連接的轉蓋，所述浸入箱內側設置有搖晃排列機構、振動機構和浸泡機構，所述搖晃排列機構設置在搖晃排列機構和浸泡機構中側，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及鋼管表面處理領域，公開了一種智能精準控量的鋼管表面在線鈍化劑添加裝置，包括：鈍化劑存放箱，所述鈍化劑存放箱上設置有控量添加機構；所述控量添加機構包括支架、伺服電機、轉盤、底框、橫板、驅動電機、絲桿、L型孔、密封板一、密封板二、立板...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及鎂合金表面熱控耐磨潤滑膜層及其制備方法，采用激光織構技術在鎂合金表面加工出四棱臺結構，再利用微弧氧化技術在四棱臺結構表面原位生長一層致密陶瓷膜層，最后在陶瓷膜層上磁控濺射一層二硫化鉬膜，得到熱控耐磨潤滑膜層。本發明可以用于在空間環...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供一種用于cvd氣相沉積反應爐取放樣桿，包括取放主桿以及取放副桿，取放主桿旁邊設置有取放副桿，取放主桿和取放副桿上端均設置有用于對外界碳纖維布進行支撐的樣品放置組件，取放主桿和取放副桿上端面后側設置有支撐組件，本實用通過在取放主...
								
            
							
            
							
						
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