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            拖動(dòng)滑塊完成拼圖
        
          
        
          
    
          
    
          
        
          
        
          
    
          

          














          
    
    
          
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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鍍鋅管用熱鍍鋅冷卻水槽水蒸氣回收裝置，包括設(shè)置在冷卻池口外兩側(cè)的立板，立板的頂部連接有橫板，橫板遠(yuǎn)離立板的一端鉸接有遮擋板，橫板上安裝有控制遮擋板角度的調(diào)整組件；立板上開(kāi)設(shè)有若干個(gè)安裝孔，安裝孔內(nèi)插入有L形的吸氣管，吸氣...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種電容薄膜鍍膜機(jī)，包括鍍膜箱，還包括：靶材，靶材安裝于鍍膜箱內(nèi)部，靶材上方設(shè)置有安裝于鍍膜箱內(nèi)壁的離子源；卷繞組件，卷繞組件設(shè)置于鍍膜箱內(nèi)部，且卷繞組件用于對(duì)電容薄膜進(jìn)行卷繞；變速組件，變速組件設(shè)置于鍍膜箱...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種抗CMAS腐蝕的熱障涂層及其制備方法，屬于熱障涂層技術(shù)領(lǐng)域，制備方法包括：制備粘結(jié)層；在粘結(jié)層上制備YSZ涂層；在YSZ涂層上采用Gd2O3陶瓷漿料微流擠出成型制備Gd2...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種多腔體氧化鎵外延薄膜生長(zhǎng)自動(dòng)化量產(chǎn)裝置及其使用方法，生長(zhǎng)裝置包括滑軌、襯底安裝結(jié)構(gòu)、待沉積襯底、若干個(gè)HVPE半導(dǎo)體外延生長(zhǎng)裝置、轉(zhuǎn)運(yùn)結(jié)構(gòu)和MOCVD外延生長(zhǎng)裝置，襯底安裝結(jié)構(gòu)滑動(dòng)安裝在滑軌上，襯底安裝結(jié)構(gòu)上設(shè)置有若干個(gè)陶瓷...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及鋼管鈍化處理技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種無(wú)縫鋼管表面處理用鈍化裝置，包括鈍化槽、設(shè)于鈍化槽上方的承載組件以及提升組件，承載組件包括呈上下設(shè)置的第一框架和第二框架，提升組件包括支架、液壓桿、銜接架、支撐架以及承載板，承載板上設(shè)有用于對(duì)第一框...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種傳感器芯片金屬電極熱防護(hù)結(jié)構(gòu)及其制備方法，屬于金屬電極熱防護(hù)結(jié)構(gòu)技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的熱防護(hù)結(jié)構(gòu)包括：傳感器基底，其上依次設(shè)置有電極緩沖層和連續(xù)多層Pt?W電極。在這種結(jié)構(gòu)中，Pt電極是在W電極上沉積的，這種沉積方式使得Pt晶體...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種薄膜沉積設(shè)備、一種薄膜沉積方法及一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。所述薄膜沉積設(shè)備包括工藝腔室、真空泵、反應(yīng)氣源、吹掃氣源及控制器。所述工藝腔室中包括晶圓托盤(pán)。所述真空泵經(jīng)由第一閥門(mén)及晶圓吸附管路連接所述晶圓托盤(pán)。所述反應(yīng)氣源經(jīng)由第二...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種W?S?Ti?O潤(rùn)滑薄膜及其制備方法和應(yīng)用，屬于空間潤(rùn)滑技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供了一種W?S?Ti?O潤(rùn)滑薄膜，所述W?S?Ti?O潤(rùn)滑薄膜具有致密非晶結(jié)構(gòu)，由WS2相、WSxO
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及高溫防護(hù)涂層技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種納米多孔滲鋁?碳化硅梯度涂層及其制備方法，其包括對(duì)鎳基高溫合金進(jìn)行預(yù)處理、化學(xué)氣相沉積滲鋁、脫合金腐蝕形成納米多孔層及CVD生長(zhǎng)碳化硅納米線的步驟。該涂層通過(guò)納米多孔滲鋁層提供高比表面積和催化活...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種提升玻璃通孔基板與銅層間附著力和穩(wěn)定性的方法，通過(guò)在玻璃通孔基板與銅層之間磁控濺射沉積聚四氟乙烯薄膜，以緩解銅與玻璃通孔基板之間的熱應(yīng)力差異，提升銅層與基板間的界面黏附力。所述聚四氟乙烯薄膜質(zhì)地柔軟，具備優(yōu)異的力學(xué)緩沖能力，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種光子晶體薄膜、其制備方法和器件。通過(guò)在襯底的薄膜表面生長(zhǎng)掩模層作為刻蝕掩模板，進(jìn)行光子晶體薄膜的制備，并且在刻蝕結(jié)束后仍然保留掩模層。這種方法有效避免了常規(guī)工藝中的濕法腐蝕液對(duì)光子晶體薄膜的破壞，同時(shí)在不改變光子晶體光學(xué)能帶...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種切削鈦合金TC4用AlCrTiXN涂層及生產(chǎn)工藝，屬于鈦合金涂層的技術(shù)領(lǐng)域。所述生產(chǎn)工藝的制備包括以下步驟：對(duì)刀具除油、脫脂、清洗后進(jìn)行噴軟砂處理，在惰性氛圍下浸泡于混合溶液中超聲處理后，取出清洗后進(jìn)行真空干燥，得到預(yù)處理硬質(zhì)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及起重機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種船舶起重機(jī)穩(wěn)定組件，包括：底座，底座的頂部設(shè)置有立桿；擺動(dòng)桿，擺動(dòng)桿的端部設(shè)置有伸縮桿，伸縮桿的端部設(shè)置有頂持桿，擺動(dòng)桿的表面開(kāi)設(shè)有第一開(kāi)槽，擺動(dòng)桿的表面設(shè)置有限位板，限位板中設(shè)置有滑動(dòng)塊，滑動(dòng)塊的端部設(shè)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜制造技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)一種金剛石增透保護(hù)薄膜結(jié)構(gòu)及其制備方法。本發(fā)明提供的制備方法包括：采用化學(xué)氣相沉積法在基底上沉積金剛石薄膜；將所述基底的鍍膜面和硫系玻璃貼合，于190℃～210℃、800N～1200N條件下進(jìn)行壓制，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種銅銀金超疏水納米涂層轉(zhuǎn)化液，包括下述重量份的組分：水73.0?80.6份，有機(jī)硫助劑15.0?17.0份，氨基磺酸1.0?1.3份，苯丙三氮唑0.2?0.3份，二丙二醇甲醚5?10.0份，十六烷基羥乙基咪唑啉0.2?0.5份...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)涉及蒸鍍過(guò)程監(jiān)控技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種基于數(shù)據(jù)分析的蒸鍍過(guò)程監(jiān)控方法、系統(tǒng)及介質(zhì)。該方法包括：對(duì)蒸鍍腔體內(nèi)傳感器采集數(shù)據(jù)，經(jīng)濾波標(biāo)準(zhǔn)化處理獲得工藝參數(shù)數(shù)據(jù)；對(duì)工藝參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行時(shí)頻分析和相關(guān)性計(jì)算，提取關(guān)鍵參數(shù)特征；基于關(guān)鍵參數(shù)特征設(shè)定動(dòng)...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型屬于光伏發(fā)電技術(shù)領(lǐng)域，本實(shí)用新型公開(kāi)了一種全干法制備鈣鈦礦材料蒸鍍?cè)O(shè)備防腐蝕冷屏，蒸鍍?cè)O(shè)備包括蒸發(fā)源，蒸發(fā)源蒸發(fā)出鈣鈦礦材料分子，防腐蝕冷屏包括真空腔體、冷屏板、冷屏板固定柱、均熱板、低溫泵、冷媒管、均熱板固定柱和冷阱；冷屏板包括...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及可排列均勻的螺栓加工用防氧化設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了一種可排列均勻的螺栓加工用防氧化設(shè)備，包括浸入箱和浸入箱上側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)連接的轉(zhuǎn)蓋，所述浸入箱內(nèi)側(cè)設(shè)置有搖晃排列機(jī)構(gòu)、振動(dòng)機(jī)構(gòu)和浸泡機(jī)構(gòu)，所述搖晃排列機(jī)構(gòu)設(shè)置在搖晃排列機(jī)構(gòu)和浸泡機(jī)構(gòu)中側(cè)，...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及鋼管表面處理領(lǐng)域，公開(kāi)了一種智能精準(zhǔn)控量的鋼管表面在線鈍化劑添加裝置，包括：鈍化劑存放箱，所述鈍化劑存放箱上設(shè)置有控量添加機(jī)構(gòu)；所述控量添加機(jī)構(gòu)包括支架、伺服電機(jī)、轉(zhuǎn)盤(pán)、底框、橫板、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、絲桿、L型孔、密封板一、密封板二、立板...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及鎂合金表面熱控耐磨潤(rùn)滑膜層及其制備方法，采用激光織構(gòu)技術(shù)在鎂合金表面加工出四棱臺(tái)結(jié)構(gòu)，再利用微弧氧化技術(shù)在四棱臺(tái)結(jié)構(gòu)表面原位生長(zhǎng)一層致密陶瓷膜層，最后在陶瓷膜層上磁控濺射一層二硫化鉬膜，得到熱控耐磨潤(rùn)滑膜層。本發(fā)明可以用于在空間環(huán)...
								
            
							
            
							
						
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          技術(shù)分類(lèi)
          
                  
          
                      
                  
          
                
          
            
          
          
          
      
          
    
          
    
    

























































































































































 
 
    







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