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          五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種基于磁控濺射的異型腔體內(nèi)壁鍍膜裝置,包括工作臺(tái)、真空腔體、第一磁體線(xiàn)圈、第二磁體線(xiàn)圈、第一支架、第二支架和濺射靶體,通過(guò)真空腔體提供鍍膜所需的高真空環(huán)境,真空腔體內(nèi)部設(shè)有異型腔體支撐結(jié)構(gòu),確保異型腔體在鍍膜過(guò)程中保持穩(wěn)定,通...
          • 本發(fā)明涉及一種用于高硬度模具鋼洗銑刀的納米復(fù)合涂層,屬于銑刀涂層技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供一種用于高硬度模具鋼洗銑刀的納米復(fù)合涂層,具體制備方法為,將銑刀超聲波清洗,吹干,干燥,離子刻蝕,得到處理后的刀具,進(jìn)行第一HiPIMS沉積得到第一涂層后,...
          • 本實(shí)用新型提供了一種內(nèi)外復(fù)合陶瓷環(huán)及石墨舟,屬于石墨舟技術(shù)領(lǐng)域,包括內(nèi)陶瓷環(huán)、外陶瓷環(huán)以及連接環(huán),同軸套裝于內(nèi)陶瓷環(huán)的外面,外陶瓷環(huán)與內(nèi)陶瓷環(huán)之間形成環(huán)形空腔;內(nèi)陶瓷環(huán)的軸向長(zhǎng)度大于外陶瓷環(huán)的軸向長(zhǎng)度,且內(nèi)陶瓷環(huán)的軸向兩端均凸伸于外陶瓷環(huán)的...
          • 本發(fā)明涉及一種環(huán)境自適應(yīng)潤(rùn)滑同型異質(zhì)結(jié)構(gòu)薄膜的可控制備方法,包括以下步驟:⑴將硅片基底用不同類(lèi)型的溶劑超聲清洗、烘干后即得干燥硅片;⑵采用由MoS2靶材、WS2靶材和Ti靶材三個(gè)磁控濺射源組成的多...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種PGTVD真空鍍膜用供氣裝置,涉及供氣裝置技術(shù)領(lǐng)域,其技術(shù)方案是:包括殼體,殼體上設(shè)有圓槽和方槽,殼體內(nèi)部設(shè)有過(guò)濾機(jī)構(gòu)和吸附機(jī)構(gòu),殼體一側(cè)設(shè)有控制組件;過(guò)濾機(jī)構(gòu)包括圓板,圓板設(shè)于殼體一側(cè),圓板兩側(cè)均固定設(shè)有滑板,圓板頂部和底...
          • 本發(fā)明涉及硬質(zhì)合金刀具技術(shù)領(lǐng)域,具體公開(kāi)了高性能高精度涂層硬質(zhì)合金數(shù)控刀具,包括P類(lèi)硬質(zhì)合金基體和沉積在硬質(zhì)合金基體表面的涂層,硬質(zhì)合金基體上脫β層厚度為20~25μm,涂層包括內(nèi)層、中層和外層,內(nèi)層材料為MT?TiCN,中層材料為T(mén)iAl...
          • 本發(fā)明的類(lèi)金剛石碳膜的表面加工方法包括:在類(lèi)金剛石碳膜上形成微孔結(jié)構(gòu);在所述類(lèi)金剛石碳膜上涂覆有機(jī)硅聚合物從而形成附著層;以及利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積在所述有機(jī)硅聚合物上形成無(wú)機(jī)化合物層。該方法簡(jiǎn)單高效,能夠有效改變類(lèi)金剛石碳膜的表面延...
          • 本實(shí)用新型提供了一種絕緣陶瓷套及石墨舟,屬于石墨舟技術(shù)領(lǐng)域,包括第一絕緣件以及第二絕緣件,第一絕緣件具有外絕緣套以及一體成型于的第一絕緣端蓋;第二絕緣件具有內(nèi)絕緣套以及一體成型的第二絕緣端蓋;內(nèi)絕緣套的外徑小于外絕緣套的內(nèi)徑,內(nèi)絕緣套同軸套...
          • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于光學(xué)鍍膜的夾具,包括鍍膜盤(pán),鍍膜盤(pán)內(nèi)開(kāi)設(shè)有安裝腔,鍍膜盤(pán)上安裝有多個(gè)夾持組件,夾持組件包括滑動(dòng)安裝在鍍膜盤(pán)頂部的夾塊,夾塊上斜向插設(shè)有斜頂塊,斜頂塊貫穿伸入安裝腔內(nèi),安裝腔內(nèi)設(shè)有安裝座,安裝座上安裝有與斜頂塊數(shù)量相對(duì)...
          • 提供了一種用于熱蒸鍍的方法和設(shè)備。所述熱蒸鍍器包括蒸鍍器主體,所述蒸鍍器主體可操作用于存放和蒸鍍待沉積的涂覆材料兩者。所述蒸鍍器主體包括:圓柱形壁,所述圓柱形壁具有第一端部和與所述第一端部相反的第二端部;第一側(cè)壁,所述第一側(cè)壁與所述圓柱形壁...
          • 本發(fā)明提供了一種抗氧化低磨損耐熱汽輪機(jī)葉片涂層及其制備方法,涉及材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域,包括以下質(zhì)量比成分:鎳鈷鉻鋁釔合金20?30份、氧化鋯?氧化釔?氧化鋁復(fù)合陶瓷30?40份、鉿粉與錸粉混合物10?15份、三氧化二鉻5?10份、稀土氧化物...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種降低塑料夾具表面應(yīng)力的真空處理方法,首先對(duì)塑料夾具基材進(jìn)行清潔處理,再對(duì)所述塑料夾具基材進(jìn)行等離子刻蝕,并以石墨作為靶材,采用物理氣相沉積法在所述塑料夾具基材沉積DLC薄膜,其中,石墨靶材的電流為1.5?3.0A,控制所述塑...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種超薄銅箔二層型撓性覆銅板及其制造方法,涉及覆銅板技術(shù)領(lǐng)域,制造方法包括以下步驟:膜材烘干后進(jìn)行卷接,然后對(duì)膜材進(jìn)行刻蝕與活化;在膜材表面從下至上依次沉積底層合金銅膜、中層銅膜、面層合金銅膜;底層合金銅膜和面層合金銅膜均采用磁...
          • 本發(fā)明涉及一種超厚模塊化類(lèi)金剛石涂層及其制備方法。本發(fā)明的超厚模塊化類(lèi)金剛石涂層從下到上依次包括基材、第一金屬層、過(guò)渡層、第二金屬層、支撐層和類(lèi)金剛石涂層;所述過(guò)渡層為金屬氮化物多層結(jié)構(gòu),由交替的第一金屬氮化物分層和第二金屬氮化物分層循環(huán)構(gòu)...
          • 本發(fā)申請(qǐng)涉及鉭鎢合金的表面處理技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種帶有碳化鉭滲層的鉭鎢合金材料及其制備方法。本申請(qǐng)通過(guò)脈沖滲碳法制備了帶有碳化鉭滲層的鉭鎢合金材料,產(chǎn)品的碳化鉭滲層結(jié)合于鉭鎢合金基體表面,包括TaC相和Ta2C相,基...
          • 本發(fā)明涉及類(lèi)金剛石薄膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高硬度類(lèi)金剛石薄膜鍍膜方法。上述高硬度類(lèi)金剛石薄膜鍍膜方法,將金屬基材拋光,清洗,烘干,熱處理,降至室溫;送入真空鍍膜裝置中,通過(guò)離子源通入氬氣,開(kāi)啟離子源刻蝕基材;分別以鈦、碳化鈦為靶材進(jìn)行濺射...
          • 本發(fā)明屬于金屬蝕刻技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種金屬散熱片的蝕刻工藝,所述該工藝包括:金屬板材預(yù)處理、涂覆光刻膠、曝光和顯影、初步蝕刻、二次精細(xì)蝕刻、去除光刻膠和后處理;具體包括以下步驟:步驟一:金屬板材預(yù)處理清洗:將待蝕刻的金屬板材放入含有表面活...
          • 本申請(qǐng)涉及模板加工領(lǐng)域,公開(kāi)了一種耐刮擦金屬膜防護(hù)的模板離型處理方法,包括以下步驟:S1.模板表面預(yù)處理:準(zhǔn)備好待處理的模板,將其放入射頻等離子體清洗機(jī)內(nèi);S2.涂覆襯底層:通過(guò)磁控濺射技術(shù)在活化后的模板表面涂覆一層襯底層;S3.使用化學(xué)氣...
          • 本發(fā)明涉及一種濺射沉積絕緣涂層及其制備方法,屬于絕緣涂層技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過(guò)對(duì)金屬基體進(jìn)行電化學(xué)拋光,獲得光滑平整且具有一定粗糙度的預(yù)處理金屬基體,然后通過(guò)在預(yù)處理金屬基體表面濺射沉積Cr?Ce合金涂層,并控制Cr?Ce合金涂層中Ce元素的...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種鐵基鑄件的熱鍍鋅裝置及工藝,涉及鐵基鑄件技術(shù)領(lǐng)域;而本發(fā)明包括安裝外架,安裝外架的內(nèi)側(cè)底端固定安裝有盛料底箱,且盛料底箱上連通設(shè)有對(duì)稱(chēng)設(shè)置的側(cè)接框體,盛料底箱的內(nèi)腔中設(shè)有配合使用的分隔機(jī)構(gòu),且安裝外架的頂端設(shè)有與盛料底箱配合...
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