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								      本發明提供一種用于多MOCVD反應室的同步控制方法及裝置，在串聯式MOCVD反應室中，通過在當前反應室已完成其對應的外延層生長的工序，但負責下一工序的反應室尚未結束時，基于當前反應室的生長溫度及下一反應室的生長溫度，利用托盤徑向上的溫度差異...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及鍍鋅技術領域，且公開了連通式管狀件熱鍍鋅裝置及其工作方法，包括鍋體、精置箱、活動軌道、活動夾持裝置、母鋅鍋、子鋅鍋、伸縮氣缸裝置和連接槽，母鋅鍋的兩側內壁交錯開設有安裝槽，在母鋅鍋的內部對應安裝槽位置設置有約束板，在約束板的兩側交...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種基于磁控濺射的異型腔體內壁鍍膜裝置，包括工作臺、真空腔體、第一磁體線圈、第二磁體線圈、第一支架、第二支架和濺射靶體，通過真空腔體提供鍍膜所需的高真空環境，真空腔體內部設有異型腔體支撐結構，確保異型腔體在鍍膜過程中保持穩定，通...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種用于高硬度模具鋼洗銑刀的納米復合涂層，屬于銑刀涂層技術領域。本發明提供一種用于高硬度模具鋼洗銑刀的納米復合涂層，具體制備方法為，將銑刀超聲波清洗，吹干，干燥，離子刻蝕，得到處理后的刀具，進行第一HiPIMS沉積得到第一涂層后，...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供了一種內外復合陶瓷環及石墨舟，屬于石墨舟技術領域，包括內陶瓷環、外陶瓷環以及連接環，同軸套裝于內陶瓷環的外面，外陶瓷環與內陶瓷環之間形成環形空腔；內陶瓷環的軸向長度大于外陶瓷環的軸向長度，且內陶瓷環的軸向兩端均凸伸于外陶瓷環的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種環境自適應潤滑同型異質結構薄膜的可控制備方法，包括以下步驟：⑴將硅片基底用不同類型的溶劑超聲清洗、烘干后即得干燥硅片；⑵采用由MoS2靶材、WS2靶材和Ti靶材三個磁控濺射源組成的多...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種PGTVD真空鍍膜用供氣裝置，涉及供氣裝置技術領域，其技術方案是：包括殼體，殼體上設有圓槽和方槽，殼體內部設有過濾機構和吸附機構，殼體一側設有控制組件；過濾機構包括圓板，圓板設于殼體一側，圓板兩側均固定設有滑板，圓板頂部和底...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及硬質合金刀具技術領域，具體公開了高性能高精度涂層硬質合金數控刀具，包括P類硬質合金基體和沉積在硬質合金基體表面的涂層，硬質合金基體上脫β層厚度為20～25μm，涂層包括內層、中層和外層，內層材料為MT?TiCN，中層材料為TiAl...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明的類金剛石碳膜的表面加工方法包括：在類金剛石碳膜上形成微孔結構；在所述類金剛石碳膜上涂覆有機硅聚合物從而形成附著層；以及利用等離子體增強化學氣相沉積在所述有機硅聚合物上形成無機化合物層。該方法簡單高效，能夠有效改變類金剛石碳膜的表面延...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型提供了一種絕緣陶瓷套及石墨舟，屬于石墨舟技術領域，包括第一絕緣件以及第二絕緣件，第一絕緣件具有外絕緣套以及一體成型于的第一絕緣端蓋；第二絕緣件具有內絕緣套以及一體成型的第二絕緣端蓋；內絕緣套的外徑小于外絕緣套的內徑，內絕緣套同軸套...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種用于光學鍍膜的夾具，包括鍍膜盤，鍍膜盤內開設有安裝腔，鍍膜盤上安裝有多個夾持組件，夾持組件包括滑動安裝在鍍膜盤頂部的夾塊，夾塊上斜向插設有斜頂塊，斜頂塊貫穿伸入安裝腔內，安裝腔內設有安裝座，安裝座上安裝有與斜頂塊數量相對...
								
            
							
            
							
						
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								      提供了一種用于熱蒸鍍的方法和設備。所述熱蒸鍍器包括蒸鍍器主體，所述蒸鍍器主體可操作用于存放和蒸鍍待沉積的涂覆材料兩者。所述蒸鍍器主體包括：圓柱形壁，所述圓柱形壁具有第一端部和與所述第一端部相反的第二端部；第一側壁，所述第一側壁與所述圓柱形壁...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種降低塑料夾具表面應力的真空處理方法，首先對塑料夾具基材進行清潔處理，再對所述塑料夾具基材進行等離子刻蝕，并以石墨作為靶材，采用物理氣相沉積法在所述塑料夾具基材沉積DLC薄膜，其中，石墨靶材的電流為1.5?3.0A，控制所述塑...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供了一種抗氧化低磨損耐熱汽輪機葉片涂層及其制備方法，涉及材料表面處理技術領域，包括以下質量比成分：鎳鈷鉻鋁釔合金20?30份、氧化鋯?氧化釔?氧化鋁復合陶瓷30?40份、鉿粉與錸粉混合物10?15份、三氧化二鉻5?10份、稀土氧化物...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種超薄銅箔二層型撓性覆銅板及其制造方法，涉及覆銅板技術領域，制造方法包括以下步驟：膜材烘干后進行卷接，然后對膜材進行刻蝕與活化；在膜材表面從下至上依次沉積底層合金銅膜、中層銅膜、面層合金銅膜；底層合金銅膜和面層合金銅膜均采用磁...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及一種超厚模塊化類金剛石涂層及其制備方法。本發明的超厚模塊化類金剛石涂層從下到上依次包括基材、第一金屬層、過渡層、第二金屬層、支撐層和類金剛石涂層；所述過渡層為金屬氮化物多層結構，由交替的第一金屬氮化物分層和第二金屬氮化物分層循環構...
								
            
							
            
							
						
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								      本發申請涉及鉭鎢合金的表面處理技術領域，具體涉及一種帶有碳化鉭滲層的鉭鎢合金材料及其制備方法。本申請通過脈沖滲碳法制備了帶有碳化鉭滲層的鉭鎢合金材料，產品的碳化鉭滲層結合于鉭鎢合金基體表面，包括TaC相和Ta2C相，基...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及類金剛石薄膜技術領域，尤其涉及一種高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法。上述高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法，將金屬基材拋光，清洗，烘干，熱處理，降至室溫；送入真空鍍膜裝置中，通過離子源通入氬氣，開啟離子源刻蝕基材；分別以鈦、碳化鈦為靶材進行濺射...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于金屬蝕刻技術領域，具體涉及一種金屬散熱片的蝕刻工藝，所述該工藝包括：金屬板材預處理、涂覆光刻膠、曝光和顯影、初步蝕刻、二次精細蝕刻、去除光刻膠和后處理；具體包括以下步驟：步驟一：金屬板材預處理清洗：將待蝕刻的金屬板材放入含有表面活...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請涉及模板加工領域，公開了一種耐刮擦金屬膜防護的模板離型處理方法，包括以下步驟：S1.模板表面預處理：準備好待處理的模板，將其放入射頻等離子體清洗機內；S2.涂覆襯底層：通過磁控濺射技術在活化后的模板表面涂覆一層襯底層；S3.使用化學氣...
								
            
							
            
							
						
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