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								      公開一種沉積設備和使用沉積設備的沉積方法。沉積設備包括：臺，其上設置有基板，所述基板限定以i行j列(其中i和j為大于1的自然數)布置的多個單元區；以及掩模，設置在臺上，面對基板，并且限定以m行n列(其中m和n為大于1的自然數)布置的多個開口...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種銅鋼復合板及其制備方法，屬于復合材料制備技術領域，其中所述復合板包括鋼基體和黃銅覆層；制備方法主要為以下2步：(1)在經過表面處理的鋼基體表面通過電弧噴涂沉積上一定厚度的純銅涂層；(2)對得到的樣品進行熱處理，在熱處理爐中加...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及硬質合金材料領域，具體為一種刀具用硬質合金及其制備方法，由硬質合金基體和金剛石涂層組成；所述硬質合金基體表面經過硅?稀土共滲處理，本發明中液體滲劑在加熱分解時生成高活性的活性硅和活性稀土原子，活性硅和活性稀土原子能夠與硬質合金基體...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了適用于半球諧振子的頻裂修調裝置，包括石英錐筒、夾持機構、光柵網和光闌片，夾持機構設于石英錐筒的小徑端的一側，用于安裝待修調的半球諧振子，石英錐筒兩端開口，光柵網固定在石英錐筒的大徑端，用于分散進入石英錐筒內的離子束流，以使離...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及高溫防護涂層技術領域，尤其是涉及一種用于航空發動機渦輪葉片表面的抗高溫氧化涂層的制備方法，其通過對N5合金葉片進行清洗、多弧離子鍍沉積摻雜氧的涂層及真空退火處理實現。通過氧摻雜降低涂層與氧化膜間的熱膨脹系數差異，減少應力積累，同時...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種抗高溫水氧腐蝕的可磨耗涂層及其制備方法和應用，屬于涂層技術領域。本發明的抗高溫水氧腐蝕的可磨耗涂層，包括多孔陶瓷面層、中間層和金屬基底層；其中，多孔陶瓷面層的材料包括稀土氧化物摻雜改性的YSZ；中間層的材料包括YSZ；金屬基...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請公開了一種高溫傳輸網帶防銹層及其制備方法，涉及金屬鍍覆技術領域。首先將金屬網帶表面進行清理和羥基化處理后噴涂硅烷偶聯劑的乙醇溶液，干燥后通過霧化噴頭將三聚磷酸鈉溶液均勻噴涂到金屬網帶表面，然后將金屬網帶在400～640℃的溫度下進行烘...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及涂層技術領域，尤其是涉及一種石墨烯/滲鋁復合涂層及其制備方法，其包括基材處理、磁控濺射沉積石墨烯層、料漿配制、滲鋁處理及后處理步驟。通過在不銹鋼基材表面沉積石墨烯層作為底層防護膜，并利用低溫料漿滲鋁工藝形成Al4
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種CVD金剛石膜生長裝置及方法，該裝置包括：反應腔，其為圓柱形空腔且沿空腔周向均勻設置多個獨立控制的氣體入口；該氣體入口通入氫氣和含碳氣體的混合氣，或，純氫氣；襯底，其作為金剛石膜生長基體，該基體呈扇形且為多個并環形布置；熱絲...
								
            
							
            
							
						
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								      一種手術器械，包括可圍繞樞軸銷旋轉的皮帶輪和聯接至樞軸銷的末端執行器。該器械還包括線纜，該線纜至少部分地纏繞在皮帶輪上并且被配置為致動末端執行器。線纜和/或任何皮帶輪部件(例如，皮帶輪、樞軸銷等)包括具有二硫化鎢的第一涂層。
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種TiAlN涂層及其制備方法，屬于材料技術領域。其中，在氮氣氛圍下制備TiAlN涂層，包括以下步驟：S1：對基體進行表面預處理；S2：將基體放入HiPIMS真空室，并進行升溫和保溫處理；S3：在HiPIMS真空室內對基體進行偏...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明提供一種能夠在維持傳送載具的旋轉部件的位置精度的同時，抑制基板的損傷或掉落的成膜裝置。在本發明的一個方面的成膜裝置中，傳送載具的傳送機構具有設置在腔室內對所述載具進行支承的支承單元，所述支承單元具有用于支承所述載具的多個旋轉部件，且從...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明公開了一種基于磁控濺射的鈦鋁氧化物薄膜的制備方法，包括：將基板依次用酒精、丙酮和去離子水超聲清洗并干燥，將干燥后的基板裝入磁控濺射腔室；在磁控濺射腔室中，將鈦鋁靶材固定安裝在距離基板8cm的位置，并在氬氣氛圍中進行預濺射；向磁控濺射室...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于半導體存儲器件技術領域，具體公開了一種具有突觸特性的摻雜型鐵酸鉍憶阻器及其制備方法，該憶阻器依次包括襯底、底電極、功能層和頂電極；所述功能層為摻雜鐵酸鉍薄膜，所述摻雜鐵酸鉍薄膜的材料為A位單摻雜、B位單摻雜或A位與B位共摻雜的鐵酸...
								
            
							
            
							
						
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								      本文提供了在物理氣相沉積(PVD)工藝中用于高深寬比特征的多陰極阻障層種晶沉積的設備和方法。在些具體實施例中，PVD腔室包括設置在PVD腔室處理區域內的底座。底座可隨其上的工件旋轉。PVD腔室包括腔室蓋組件，組件包括具有相同靶材材料的第一靶...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種可調節式半自動加錫機，涉及自動加錫技術領域；而本實用新型包括底盤，所述底盤外圈固定連接有支架，所述支架頂端固定連接有頂盤，所述頂盤底端中心處固定連接有供料桶，所述底盤頂端中心處固定連接有錫液筒本體，所述錫液筒本體內腔滑動...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明屬于玻璃磁控濺射鍍膜技術領域，尤其為一種多功能鏡面玻璃及制備方法，包括玻璃基片以及鍍膜層，鍍膜層自玻璃基片向外一側復合設置有五組膜層，其中第一層為SiNx、SiAlNx、SiZrNx中的一種及多種組合；第二層為NiCr、Cr及其氧化物...
								
            
							
            
							
						
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								      本發明涉及硬質合金材料領域，具體為一種耐磨硬質合金及其制備方法，由硬質合金基體、過渡層和耐磨涂層組成，所述過渡層由稀土?鐵二元合金和LaMO3制成，M為過渡金屬元素，本發明通過添加過渡層可以形成熱膨脹系數的梯度結構，使...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型公開了一種鍍鋅管用熱鍍鋅冷卻水槽水蒸氣回收裝置，包括設置在冷卻池口外兩側的立板，立板的頂部連接有橫板，橫板遠離立板的一端鉸接有遮擋板，橫板上安裝有控制遮擋板角度的調整組件；立板上開設有若干個安裝孔，安裝孔內插入有L形的吸氣管，吸氣...
								
            
							
            
							
						
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								      本實用新型涉及一種型鋼熱鍍鋅設備，屬于熱鍍鋅技術領域。技術方案是：磁力輥架的前端低點位于鋅鍋出料側，磁力輥架的后端高點與斜輥道相匹配，斜輥道向上傾斜，與一排磁力輥傾斜的角度相匹配；所述磁力輥架的前端低點設置風刀，風刀噴吹的風向朝向鋅鍋；提料...
								
            
							
            
							
						
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