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								      方法、系統(tǒng)和計算機可讀存儲介質，用于接收描繪待檢查缺陷的產品的產品圖像，向LLM系統(tǒng)發(fā)送請求，請求包括產品圖像和參考圖像，從LLM系統(tǒng)接收文本響應，文本響應是由LLM系統(tǒng)至少部分地通過處理產品圖像和參考圖像生成的，通過RIS模型處理文本響應...
								
            
							
            
							
						
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								      為了特別簡單的3D重建，提供用于重建活動的檢查對象的3D體積的方法，所述方法包括以下步驟：提供包括大量投影圖像的數(shù)據(jù)集，所述數(shù)據(jù)集在X光機的拍攝系統(tǒng)圍繞檢查對象的旋轉運行期間生成；選擇該數(shù)據(jù)集的至少一個第一投影圖像；提供檢查對象的通用3D模...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于在醫(yī)學可視化系統(tǒng)上進行患者配準的方法，其中，通過該醫(yī)學可視化系統(tǒng)的相機捕獲患者的身體部位的圖像，其中，使用經訓練的機器學習方法和/或計算機視覺方法，基于所捕獲的圖像在該相機的坐標系中估計該身體部位的三維表面輪廓，其中，確定...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于在醫(yī)學可視化系統(tǒng)上執(zhí)行患者配準的方法以及醫(yī)學可視化系統(tǒng)，該方法包括：執(zhí)行初始患者配準，其中，確定參考坐標系（20）與患者坐標系（21）之間的變換規(guī)則（10）的參數(shù)，以及針對醫(yī)學可視化系統(tǒng)的主相機的至少一種相機姿態(tài)（30）：...
								
            
							
            
							
						
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								      提供了系統(tǒng)和方法，包括：獲得半導體樣本的檢驗圖像和設計圖像，其中設計圖像提供設計元素信息，確定提供設計圖像的設計元素之間的周期性距離信息的數(shù)據(jù)D間距，設計元素與滿足相似性標準的形狀相關聯(lián)，以及使用數(shù)據(jù)D間距<...
								
            
							
            
							
						
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								      該讀卡器具備：數(shù)據(jù)讀取機構，其用于與卡接觸而進行記錄在卡上的數(shù)據(jù)的讀取等；以及主體框架，其形成有供卡移動的卡移動路徑。將在卡移動路徑中移動的卡的厚度方向的一側設為第一厚度方向側，在主體框架上形成有從卡移動路徑的第一厚度方向側的面即移動路徑形...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明的實施例描述了用于在電路布局中查找實例的系統(tǒng)和方法以及存儲有執(zhí)行在電路布局中查找實例的指令的非暫時性計算機可讀介質。一種查找實例的方法，包括：將初始名稱和初始位置分配給多個實例的底部實例中的跟蹤單元；確定初始名稱是否對應于多個實例的頂...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請?zhí)峁┮环N工業(yè)過程故障根源診斷方法、裝置、設備以及存儲介質，涉及工業(yè)過程的故障檢測技術領域，該方法通過將工業(yè)過程正常運行的多工況數(shù)據(jù)集進行工況劃分，確定每個工況子集的工況標簽，通過對當前檢測數(shù)據(jù)進行劃分得到多個時空段數(shù)據(jù)，并確定時空段數(shù)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及數(shù)據(jù)處理領域，具體是一種病患恢復期參考信息的智能提取方法及系統(tǒng)，通過智能穿戴設備采集的運動數(shù)據(jù)來識別用戶的運動情況以及運動強度，并在運動強度達到一定值時，累計病患的當前運動時長。同時，實時采集用戶的體征數(shù)據(jù)，結合當前運動強度從體征...
								
            
							
            
							
						
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								      公開了用于卸載計算的設備和方法。存儲器可以存儲與請求相關的信息。處理器可以至少部分基于與請求相關的信息來處理數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)可以被存儲在存儲設備上。主機處理器可以將與請求相關的信息存儲到存儲器中。
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及用于3D環(huán)境的上下文界面，并公開了當與被定位在諸如擴展現(xiàn)實(XR)環(huán)境之類的三維(3D)空間內的虛擬元素進行用戶交互時解釋用戶活動的設備、系統(tǒng)和方法。例如，示例過程可包括呈現(xiàn)具有用戶界面元素的3D環(huán)境的視圖。該過程還可包括獲得標識...
								
            
							
            
							
						
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								      提供了用于可變電容的偏置設備。示例設備包括第一電路。第一電路遞送流過接收溫度穩(wěn)定的電壓的第一電阻性元件的第一電流，以及與溫度成比例的第二電流。第二電阻性元件包括串聯(lián)并連接為二極管的MOS晶體管，并且具有連接到參考電位的第一端子和耦接到電力供...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于鐘表的具有調節(jié)構件的裝置。該裝置包括框架（2）和調節(jié)構件（3）。調節(jié)構件（3）包括固定地附接到擺輪軸（9）的擺輪（8）以及第一游絲（10）和第二游絲（11）。第一游絲（10）和第二游絲（11）中的每一個具有固定地附接到擺輪...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供測量方法、測量裝置、光刻裝置和物品制造方法。測量方法包括：初步測量步驟，在改變測量參數(shù)的參數(shù)值的同時，多次進行用于獲得通過使用測量光檢測在基板上形成的多個目標而獲得的信號信息的初步測量；獲取步驟，基于多次進行的初步測量的結果，獲取...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及化學增幅正型抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案形成方法。本發(fā)明提供在使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性良好，分辨性、LER、圖案形狀等光刻性能優(yōu)異且于微細圖案形成仍抗圖案崩塌，蝕刻耐性也優(yōu)良的化學增幅正型抗蝕劑組成物、及使用該化學增幅抗蝕...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供光源裝置和投影儀，提高波長轉換元件的波長轉換效率。光源裝置具有：發(fā)光元件，其射出具有第1波段的第1光；以及波長轉換元件，其包含熒光體，將第1光轉換為具有與第1波段不同的第2波段的第2光，并射出第2光，波長轉換元件具有：第1面，第1...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供光源裝置和投影儀，提高波長轉換元件的波長轉換效率。光源裝置具有：多個發(fā)光元件，其射出具有第1波段的第1光；波長轉換元件，其包含熒光體，將第1光轉換為具有與第1波段不同的第2波段的第2光，并射出第2光；以及角度轉換部件，其對從波長轉...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開所涉及的顯示裝置具備具有透光性的光學構件、透射構件、電光構件以及殼體。光學構件具有與觀測側對應的表面以及位于與表面相反的一側的背面。透射構件位于光學構件的背面的周緣，透射構件的透射率為5％以上。電光構件位于光學構件的背面?zhèn)?，電光構件?..
								
            
							
            
							
						
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								      一種裝置，包括用于執(zhí)行以下操作的部件：確定是否頭戴裝置的用戶正在看向預留區(qū)域；以及取決于該確定促使由該頭戴裝置產生的外部視覺指示的適配。
								
            
							
            
							
						
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								      一種形成用于波導的透射涂層的方法。透射涂層包括多個層。該方法包括步驟a：為每層確定第一涂層參數(shù)和涂層函數(shù)，以優(yōu)化對于多個不同波長沿波導的多個位置處的透射率。涂層函數(shù)選自多個可允許涂層函數(shù)。接下來是步驟b：使用確定的涂層參數(shù)和涂層函數(shù)形成多個...
								
            
							
            
							
						
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